[發(fā)明專利]一種全自動高可靠性的激光光繪機

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610012734.0
• 申請日: 2016-01-07
• 公開（公告）號: CN105629672B
• 公開（公告）日: 2017-06-20
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 鄒海寬;方美
• 申請（專利權(quán)）人: 中山市創(chuàng)立達機電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H05K3/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種全自動高可靠性的激光光繪機，屬于激光光繪機產(chǎn)品制造技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)

在印制電路板的制作過程中，需要采用計算機輔助制造軟件設(shè)計和繪制印制電路的電路結(jié)構(gòu)，然后通過激光光繪機將計算機輔助制造軟件設(shè)計和繪制的印制電路輸出形成工藝菲林；這其中所應(yīng)用的激光光繪機是精密機械、激光光學(xué)技術(shù)和微電子技術(shù)相互融合的產(chǎn)物。

激光光繪機的工作原理是利用激光對菲林進行掃描產(chǎn)生圖形：首先，將印制電路板的圖面映像到一個大存儲陣列中，然后使激光束按照存儲陣列中相應(yīng)單元的值被打開或關(guān)閉，從而得到所需要的工藝菲林。激光光繪機由于采用激光做光源，因而具有容易聚焦、能量集中等優(yōu)點，對瞬間快速的底片曝光非常有利，繪制的底片邊緣整齊、反差大、不虛光；且由于激光光繪機曝光采用掃描式，無論密度多大，均能在最短時間內(nèi)完成曝光，繪制一張底片只需幾分鐘。

中國專利文獻CN 2525561 Y公開了一種激光光繪機自動上片裝置，中國專利文獻CN 201557326 U公開了一種激光光繪機自動連續(xù)上下片裝置，其解決的技術(shù)問題是將傳統(tǒng)手工上下片方式改進為機器自動上下片，使上下片方便快捷，且彌補了手工上片多次貼片對位不齊、容易造成膠片刮傷等缺點，使激光光繪機的準確率提高、損耗減小、壽命延長；但是其存在的不足在于上述激光光繪機自動上下片裝置結(jié)構(gòu)較為復(fù)雜，制造和維護成本較高，且設(shè)備整體的可靠性有待進一步改進。

中國專利文獻CN 1324001 A公開了一種可調(diào)式光繪機膠片吸附裝置，其通過設(shè)置外轉(zhuǎn)鼓和內(nèi)轉(zhuǎn)鼓，調(diào)節(jié)激光光繪機滾筒的真空吸附孔數(shù)量，從而使不同規(guī)格的膠片都能牢固地吸附在滾筒上，改善最后成像的質(zhì)量和膠片使用的靈活性。在實際工作過程中，影響激光光繪機滾筒吸附性能的主 要因素是滾筒的氣密性，激光光繪機滾筒的安裝結(jié)構(gòu)直接決定了其氣密性，而激光光繪機滾筒的安裝結(jié)構(gòu)在現(xiàn)有技術(shù)中現(xiàn)有文獻公開記載。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明正是針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，提供一種全自動高可靠性的激光光繪機，自動上下片結(jié)構(gòu)精簡便于制造和維護，且具有較平穩(wěn)地安裝結(jié)構(gòu)，氣密性能夠滿足實際使用要求。

為解決上述問題，本發(fā)明所采取的技術(shù)方案如下：

一種全自動高可靠性的激光光繪機，包括：滾筒吸附機構(gòu)、凸輪上片機構(gòu)和吸盤下片機構(gòu)；

所述滾筒吸附機構(gòu)包括用于吸附菲林進行高速旋轉(zhuǎn)的吸附滾筒、位于所述吸附滾筒軸心處且用于支撐所述吸附滾筒的滾筒主軸，所述吸附滾筒上沿徑向設(shè)置有若干真空吸附孔，所述吸附滾筒的軸向兩端通過密封端壁與所述滾筒主軸固定連接，所述滾筒主軸軸心處設(shè)置有真空抽氣通道，且所述滾筒主軸沿徑向設(shè)置有若干真空軸孔，若干所述真空軸孔均位于所述吸附滾筒內(nèi)；

所述凸輪上片機構(gòu)包括用于輔助菲林吸附到所述吸附滾筒上的上片托盤、以及用于驅(qū)動所述上片托盤作業(yè)的上片凸輪；所述上片托盤的上端位于所述吸附滾筒的滾面一側(cè)，所述上片托盤的下端通過托盤轉(zhuǎn)軸相對于所述吸附滾筒固定設(shè)置，且所述上片托盤可以圍繞所述托盤轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動，所述上片凸輪通過上片凸輪軸固定設(shè)置；所述上片托盤為傾斜設(shè)置，且所述吸附滾筒位于所述上片托盤朝上的一側(cè)面，所述上片凸輪位于所述上片托盤朝下的一側(cè)面，所述上片托盤貼靠在所述上片凸輪上；

所述吸盤下片機構(gòu)包括用于輔助菲林脫離到所述吸附滾筒的下片托盤；所述下片托盤水平設(shè)置，所述下片托盤包括下片送入端和下片送出端，所述下片托盤的下片送入端朝向所述吸附滾筒且位于所述吸附滾筒的滾面最高點的一側(cè)；所述吸附滾筒的滾面最高點上方還設(shè)置有下片吸盤，所述下片吸盤的水平位置位于所述下片托盤的下片送入端和所述吸附滾筒的滾 面最高點之間，所述下片托盤上表面的豎直位置位于所述下片吸盤的底部和所述吸附滾筒的滾面最高點之間；所述下片托盤的下片送入端還設(shè)置有下片噴頭，所述下片噴頭水平設(shè)置且朝向所述吸附滾筒的滾面最高點。

作為上述技術(shù)方案的改進，所述滾筒吸附機構(gòu)還包括分別用于支撐所述滾筒主軸兩端的第一滾筒支架和第二滾筒支架，所述第一滾筒支架和所述第二滾筒支架上分別設(shè)置有第一滾筒軸承和第二滾筒軸承；所述滾筒主軸的軸向兩端分別為真空抽吸端和旋轉(zhuǎn)驅(qū)動端，且所述真空抽氣通道在所述滾筒主軸的真空抽吸端為通孔結(jié)構(gòu)，所述真空抽氣通道在所述滾筒主軸的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動端為盲孔結(jié)構(gòu)，所述滾筒主軸的真空抽吸端穿過所述第一滾筒軸承且設(shè)置有氣密封套，所述氣密封套上設(shè)置有真空接氣咀，所述滾筒主軸的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動端穿過所述第二滾筒軸承且設(shè)置有滾筒帶輪。