[發明專利]熱絲激光熔敷工藝以及用于所述工藝的消耗品在審
| 申請號: | 201610009644.6 | 申請日: | 2016-01-08 |
| 公開(公告)號: | CN105772982A | 公開(公告)日: | 2016-07-20 |
| 發明(設計)人: | D·K·哈特曼 | 申請(專利權)人: | 林肯環球股份有限公司 |
| 主分類號: | B23K35/30 | 分類號: | B23K35/30;B23K26/342;B23K26/12;B23K101/06 |
| 代理公司: | 北京嘉和天工知識產權代理事務所(普通合伙) 11269 | 代理人: | 嚴慎 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 激光 工藝 以及 用于 消耗品 | ||
1.一種熔敷消耗品;所述熔敷消耗品包括:
53至59重量百分比范圍內的鎳;
20.5至22重量百分比范圍內的鉻;
12.5至14.5重量百分比范圍內的鉬;以及
0.05至0.3重量百分比范圍內的鋁。
2.如權利要求1所述的消耗品,其中所述消耗品是實心焊絲消耗品。
3.如權利要求1所述的消耗品,其中所述消耗品是激光熔敷消耗品。
4.如權利要求1所述的消耗品,其中所述鋁在0.1至0.3重量百分比的范圍內。
5.如權利要求1所述的消耗品,其中所述鋁在0.15至0.3重量百分比的范圍內。
6.如權利要求1所述的消耗品,還包括0.03至0.2重量百分比范圍內的鈦。
7.如權利要求1所述的消耗品,還包括0.03至0.1重量百分比范圍內的鈦。
8.如權利要求1所述的消耗品,還包括鈦、硅、錳和鋯中的至少一種。
9.如權利要求1所述的消耗品,還包括鈦、硅、錳和鋯中的至少一種,并且所述鈦、 硅、錳和鋯中的所述至少一種與鋁的總量是在0.2至0.5重量百分比的范圍內。
10.如權利要求1所述的消耗品,還包括鈦、硅、錳和鋯中的至少一種,并且所述鈦、 硅、錳和鋯中的所述至少一種與鋁的總量是在0.25至0.4重量百分比的范圍內。
11.如權利要求1所述的消耗品,還包括鈦、硅、錳和鋯中的至少一種,并且所述鈦、 硅、錳和鋯中的所述至少一種與鋁的總量是在0.28至0.35重量百分比的范圍內。
12.一種激光熔敷消耗品,所述消耗品包括:
0.009至0.012重量百分比范圍內的碳;
0.12至0.16重量百分比范圍內的錳;
4.2至4.8重量百分比范圍內的鐵;
0.003至0.004重量百分比范圍內的磷;
0.005至0.015重量百分比范圍內的硅;
0.0015至0.0025重量百分比范圍內的銅;
53至59重量百分比范圍內的鎳;
0.06至0.065重量百分比范圍內的鈷;
20.5至22重量百分比范圍內的鉻;
12.5至14.5重量百分比范圍內的鉬;
0.022至0.025重量百分比范圍內的釩;
3至3.5重量百分比范圍內的鎢;
0.1至0.3重量百分比范圍內的鋁;
0.015至0.2重量百分比范圍內的鈦;以及
0.0005至0.002重量百分比范圍內的鋯,
其中所述消耗品是實心消耗品。
13.一種激光熔敷的方法;所述方法包括:
向工件提供消耗品,其中所述消耗品包括53至59重量百分比范圍內的鎳,20.5至 22重量百分比范圍內的鉻,12.5至14.5重量百分比范圍內的鉬和0.05至0.3重量百分比 范圍內的鋁;
將激光束引導至所述工件處,以加熱所述工件;
加熱所述工件和所述消耗品中至少一者,以將熔敷層沉積在所述工件的表面上;
以至少32mm/sec的行進速度將所述消耗品沉積在所述工件上;以及
在所述消耗品的所述沉積步驟期間,提供保護氣體;
其中所述工件具有彎曲表面。
14.如權利要求13所述的方法,其中所述工件是具有不多于3英寸的外直徑的管。
15.如權利要求13所述的方法,其中以10至25CFH范圍內的流速提供所述保護氣體。
16.如權利要求13所述的方法,其中以15至20CFH范圍內的流速提供所述保護氣體。
17.如權利要求13所述的方法,其中所述行進速度是至少33.5mm/sec。
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