[發明專利]一種抗彎曲瓣狀大模場單模光纖有效
| 申請號: | 201610009041.6 | 申請日: | 2016-01-07 |
| 公開(公告)號: | CN105607183B | 公開(公告)日: | 2019-03-22 |
| 發明(設計)人: | 馬紹朔;李晶;祝小光;寧提綱;張傳彪;李超;袁瑾 | 申請(專利權)人: | 北京交通大學 |
| 主分類號: | G02B6/02 | 分類號: | G02B6/02;G02B6/028 |
| 代理公司: | 北京衛平智業專利代理事務所(普通合伙) 11392 | 代理人: | 董琪 |
| 地址: | 100044 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 彎曲 瓣狀大模場 單模 光纖 | ||
1.抗彎曲瓣狀大模場單模光纖,其特征為:該光纖中心為摻稀土離子芯區(1),由內到外分布圍繞摻稀土離子芯區(1)均勻分布的N個相同半徑、弧度和厚度的瓣狀纖芯(21)……(2N),內包層(3),外包層(4),3≤N≤8整數;
摻稀土離子芯區(1)的折射率橫剖面呈拋物線形,最大相對折射率差Δ=(n1-n2),為0.3%~1.1%;稀土離子芯區(1)的中心、瓣狀纖芯(21)……(2N)的折射率相等,為n1;內包層(3)的折射率小于瓣狀纖芯(21)……(2N)的折射率,為n2;外包層(4)的折射率小于內包層(3)的折射率。
2.根據權利要求1所述的抗彎曲瓣狀大模場單模光纖,其特征為:摻稀土離子芯區(1)、瓣狀纖芯(21)……(2N)的摻稀土離子類型包括釹離子、鉺離子、鐿離子、釷離子、鐠離子、鈥離子、釤離子、釹鐿共摻離子或鉺鐿共摻離子;摻稀土離子芯區(1)、瓣狀纖芯(21)……(2N)的摻稀土離子類型相同。
3.根據權利要求1所述的抗彎曲瓣狀大模場單模光纖,其特征為:摻稀土離子芯區(1)的纖芯半徑R1為23~27μm;瓣狀纖芯(21)……(2N)的厚度d為70~80μm。
4.根據權利要求1所述的抗彎曲瓣狀大模場單模光纖,其特征為:瓣狀纖芯(21)(22)……(2N)圍繞摻稀土離子芯區(1)均勻分布,各塊瓣狀纖芯弧度等于15°~25°。
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