[發明專利]一種顯示基板及其制作方法、液晶盒、顯示器

在審

• 申請號: 201610008826.1
• 申請日: 2016-01-07
• 公開（公告）號: CN105467686A
• 公開（公告）日: 2016-04-06
• 發明（設計）人: 董廷澤;黃雪驕;秦興;張志男;王修亮
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G02F1/1337
• 分類號: G02F1/1337;G02F1/1333
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華

技術領域

本申請涉及顯示器技術領域，尤其涉及一種顯示基板及其制作方法、液晶盒、顯示器。

背景技術

邊緣顯示不均(RubbingGhostMura)是目前薄膜晶體管(ThinFilmTransistor，TFT)工藝中非常嚴重的品質問題，嚴重影響產品的畫面品質和良品率，并且不良產品檢出率較低，并且容易漏檢，造成后端嚴重的資材浪費以及品質問題。該不良的根本原因是因為玻璃基板(Panel)的邊緣因為有綁定線路，在輥印(Rubbing)過程中，Rubbing到交接的位置，因為摩擦布(Cloth)接觸不同的表面介質(包括ITO、PVX和取向膜)，產生的靜電存在差異，使Cloth的毛向等發生變化，所以在Rubbing末尾產生取向異常的不良，稱為GhostMura。

發明內容

本申請實施例提供了一種顯示基板及其制作方法、液晶盒、顯示器，用以有效改善GhostMura，并且對于取向膜印刷偏移、邊緣不均以及膜厚不均區域等缺陷均可以完全避免，進而提高液晶顯示裝置的圖像質量特性。

本申請實施例提供的一種顯示基板制作方法，包括：

在襯底基板的所有區域進行取向膜涂覆；

對完成取向膜全涂覆的襯底基板進行輥印工藝；

采用曝光方法對所述襯底基板上的顯示區域的取向膜進行曝光；

采用剝離工藝剝離所述襯底基板上位于顯示區域之外的取向膜；

在所述襯底基板上的顯示區域形成取向膜。

通過該方法，在制作好的襯底基板上，進行取向膜全涂覆，然后進行Rubbing工藝，因為襯底基板接觸的全是取向膜，不存在靜電差異，可以有效的改善GhostMura，并且對于取向膜印刷偏移、邊緣不均以及膜厚不均區域等缺陷均可以完全避免，進而提高液晶顯示裝置的圖像質量特性。

較佳地，所述襯底基板為陣列基板或彩膜基板。

較佳地，所述曝光方法，為采用紫外線UV光進行曝光的方法。

較佳地，所述UV光的波長為146nm～365nm。

較佳地，所述掩模板與所述襯底基板的距離小于或等于50um。

較佳地，該方法還包括：對在顯示區域留有取向膜的襯底基板，進行液晶滴下工藝。

本申請實施例提供的一種顯示基板，該基板是采用本申請實施例提供的所述方法制得的顯示基板。

較佳地，所述顯示基板為陣列基板或彩膜基板。

本申請實施例提供的一種液晶盒，包括陣列基板和彩膜基板，所述陣列基板和/或所述彩膜基板，為采用本申請實施例提供的所述方法制得的基板。

本申請實施例提供的一種顯示器，包括本申請實施例提供的所述液晶盒。

附圖說明

圖1為本申請實施例提供的一種顯示基板制作方法的流程示意圖；

圖2為本申請實施例提供的一種顯示基板制作方法的原理示意圖；

圖3為本申請實施例提供的另一種顯示基板制作方法的流程示意圖；

圖4為本申請實施例提供的包括多個矩形的顯示區域的襯底基板的結構示意圖；

圖5為本申請實施例提供的完成取向膜全涂覆的襯底基板的結構示意圖；

圖6為本申請實施例提供的對完成取向膜全涂覆的基板進行輥印工藝的示意圖；

圖7為本申請實施例提供的在顯示區域留有取向膜的襯底基板的結構示意圖。

具體實施方式

本申請實施例提供了一種顯示基板及其制作方法、液晶盒、顯示器，用以有效改善GhostMura，并且對于取向膜印刷偏移、邊緣不均以及膜厚不均區域等缺陷均可以完全避免，進而提高液晶顯示裝置的圖像質量特性。

參見圖1，本申請實施例提供的一種顯示基板制作方法，包括：

S101、在襯底基板的所有區域進行取向膜涂覆；

需要說明的是，在進行取向膜全涂覆的過程之前，所采用的取向液(PI)還是要進行與正常的印刷(Coater)、預固化、主固化等。

S102、對完成取向膜全涂覆的襯底基板進行輥印工藝；

S103、采用曝光方法對所述襯底基板上的顯示區域的取向膜進行曝光；

S104、采用剝離工藝剝離所述襯底基板上位于顯示區域之外的取向膜；

S105、在所述襯底基板上的顯示區域形成取向膜。

較佳地，所述襯底基板為陣列基板或彩膜基板。

也就是說，本申請實施例提供的方法可以用于陣列基板的制作，也可以用于彩膜基板的制作。

較佳地，所述曝光方法，為采用紫外線UV光進行曝光的方法。