[發(fā)明專利]微鏡鏡面翹曲程度檢測裝置以及檢測方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610008145.5 | 申請日： | 2016-01-07 |
| 公開（公告）號： | CN106949843A | 公開（公告）日： | 2017-07-14 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 吳亞明;翟雷應(yīng);徐靜;江火秀 | 申請（專利權(quán)）人： | 上海新微技術(shù)研發(fā)中心有限公司 |
| 主分類號： | G01B11/16 | 分類號： | G01B11/16;G01B11/255 |
| 代理公司： | 上海盈盛知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)31294 | 代理人： | 孫佳胤 |
| 地址： | 201800 上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 微鏡鏡面翹曲 程度 檢測 裝置 以及 方法 | ||
1.一種微鏡鏡面翹曲程度檢測裝置，其特征在于，包括：
樣品臺，用于放置一待測微鏡；
入射光模塊，用于產(chǎn)生一束照射至待測微鏡鏡面的入射光，入射光照射在所述待測微鏡鏡面形成入射光斑，光斑尺寸小于微鏡鏡面；
驅(qū)動模塊，機械連接至樣品臺和/或入射光模塊，驅(qū)動兩者發(fā)生相對位移，以使入射光斑在所述待測微鏡鏡面發(fā)生移動；
反射光模塊，用于將待測微鏡表面的反射光匯聚形成一反射光斑，并測量驅(qū)動模塊驅(qū)動樣品臺和入射光模塊相對移動的過程中反射光斑的位移量，由此可以獲得微鏡鏡面的翹曲程度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微鏡鏡面翹曲程度檢測裝置，其特征在于，所述檢測裝置還包括一分光鏡，所述分光鏡設(shè)置在反射光的光路上，用以改變來自于待測微鏡的反射光的傳播方向，使所述反射光入射至反射光模塊。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微鏡鏡面翹曲程度檢測裝置，其特征在于，所述入射光模塊產(chǎn)生的入射光以一夾角入射待測微鏡的鏡面，入射光在待測微鏡上反射后直接入射至反射光模塊。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微鏡鏡面翹曲程度檢測裝置，其特征在于，所述入射光模塊包括一光源，以及一第一聚焦透鏡，所述第一聚焦透鏡用于將光源發(fā)出的光匯聚至待測微鏡表面形成入射光斑。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微鏡鏡面翹曲程度檢測裝置，其特征在于，所述入射光斑的形狀選自于圓形光斑、橢圓光斑和十字叉絲型光斑中的一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微鏡鏡面翹曲程度檢測裝置，其特征在于，所述反射光模塊包括一第二聚焦透鏡以及一攝像頭，所述第二聚焦透鏡用于將待測微鏡表面的反射光匯聚并聚焦形成反射光斑，所述攝像頭攝取所述第二聚焦透鏡焦點處的反射光斑。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的微鏡鏡面翹曲程度檢測裝置，其特征在于，所述攝像頭的成像鏡頭位置使反射光斑在攝像頭成像面上形成為一個多像素的反射光斑。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的微鏡鏡面翹曲程度檢測裝置，其特征在于，反射光斑在攝像頭中所呈的像的尺寸不小于3×3像素。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微鏡鏡面翹曲程度檢測裝置，其特征在于，所述驅(qū)動模塊驅(qū)動樣品臺和入射光模塊發(fā)生相對位移，導(dǎo)致入射光斑在所述待測微鏡鏡面發(fā)生移動而形成經(jīng)過所述待測微鏡鏡面的中心點的一運動軌跡。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的微鏡鏡面翹曲程度檢測裝置，其特征在于，所述運動軌跡為直線，且入射光斑的移動軌跡在待測微鏡的鏡面內(nèi)部。
11.一種微鏡鏡面翹曲程度檢測方法，其特征在于，包括如下步驟：
提供一待測微鏡；
將一束入射光照射至待測微鏡鏡面，在所述待測微鏡鏡面形成入射光斑，并將反射光匯聚形成一反射光斑；
使待測微鏡和入射光發(fā)生相對位移，以使入射光斑在所述待測微鏡鏡面發(fā)生移動；
測量入射光斑在所述待測微鏡鏡面發(fā)生移動的過程中反射光斑的位移量，從而計算出鏡面的翹曲程度。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的微鏡鏡面翹曲程度檢測方法，其特征在于，所述入射光與待測微鏡的鏡面垂直或接近垂直，所述將反射光匯聚形成一反射光斑的步驟具體是將一分光鏡設(shè)置在反射光的光路上，用以改變來自于待測微鏡的反射光的方向。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的微鏡鏡面翹曲程度檢測方法，其特征在于，所述入射光斑的形狀選自于圓形光斑、橢圓光斑和十字叉絲型光斑中的一種。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的微鏡鏡面翹曲程度檢測方法，其特征在于，使待測微鏡和入射光發(fā)生相對位移，以使入射光斑在所述待測微鏡表面發(fā)生移動的步驟中，還包括調(diào)整待測微鏡和入射光的相對位置，以形成經(jīng)過所述待測微鏡鏡面中心點的一運動軌跡。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的微鏡鏡面翹曲程度檢測方法，其特征在于，所述調(diào)整待測微鏡和入射光的相對位置，以形成經(jīng)過所述待測微鏡鏡面中心點的 一運動軌跡的步驟，是以反射光斑的隨動軌跡為一直線為校準依據(jù)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海新微技術(shù)研發(fā)中心有限公司，未經(jīng)上海新微技術(shù)研發(fā)中心有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610008145.5/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
