[發明專利]應用于濕式靜電除塵器的氣流分布系統在審
| 申請號: | 201610007870.0 | 申請日: | 2016-01-06 |
| 公開(公告)號: | CN105498971A | 公開(公告)日: | 2016-04-20 |
| 發明(設計)人: | 何長松;陳樂天 | 申請(專利權)人: | 上海超清環??萍加邢薰?/a> |
| 主分類號: | B03C3/36 | 分類號: | B03C3/36 |
| 代理公司: | 上海漢聲知識產權代理有限公司 31236 | 代理人: | 郭國中;樊昕 |
| 地址: | 201605 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 應用于 靜電除塵器 氣流 分布 系統 | ||
技術領域
本發明涉及氣體凈化領域,尤其涉及一種應用于濕式靜電除塵器的氣流分布系 統。
背景技術
濕式靜電除塵器主要用來除去含濕氣體中的塵、酸霧、水滴、氣溶膠、臭味、 PM2.5等有害物質,是火電廠及工業裝置粉塵減排及實現超凈排放的重要設備,同 時也是一些工藝系統中重要的工藝設備。影響濕式電除塵器除塵效率的因素很多, 如噴嘴組織形式、極板極線布置形式、除塵器伏安特性、氣流分布板形式等,其中 進出口氣流分布板直接影響著除塵器內的氣流分布特性,進而影響著除塵器內部各 部位的氣流速度場分布,從而影響氣流在除塵器的停留時間,并最終影響除塵器的 除塵效果。因此構造基于均流原理的新型氣流分布板,對于解決濕式靜電除塵器的 氣流停留時間不一致、導致的除塵器效率問題,具有非常重要的意義。
目前的濕式靜電除塵器,在均流板布置方法上基于兩點考慮:一是進口處布置 均流板,而出口處不布置均流板,從而保證氣流的均勻流動;第二點進口處所布置 均流板采取等壓差布置。所謂等壓差布置是指在流動條件相同的前提下,不同部分 的均流板均有相同的阻力特性,表現的外在特性為,均流板采取均布開孔的模式。
對于第一種情況,如圖1所示,僅在進口處加裝均流板,而未在出口處加裝均 流板,表面來看一方面可以降低系統的整體阻力,另外可以簡化設備。但是,對于 流動系統而言,其后續的流通通道阻力情況會對前述流通通道存在阻力反饋,當后 續流通通道存在非均流狀態時,前面的流動通道不可避免的受到影響。此種情況可 由圖1進行示意說明。由圖1可以看出,在此種情況下,即使來流速度是均勻的, 但是由于后續變徑部位的阻力特性不均勻,從而會導致變徑部位之前速度的不均 勻。
對于第二種情況,如圖2所示,在入口處加裝采取等壓差布置均流板,可以在 一定程度上均勻入口處的流體速度。但是,由于均流板安裝在變徑之后,沿周向方 向,均流板的來流速度實際是不相同的,在這種情況下,對于不同的來流速度,采 取相同壓差布置的均流板,會影響均流板出口的氣體速度分布特性,最終會影響除 塵器的效率。
發明內容
針對上述現有技術中存在的技術問題,本發明提供一種應用于濕式靜電除塵器 的氣流分布系統,解決常規氣流分布板效果不理想的問題。
為達到上述目的,本發明所采用的技術方案如下:
一種應用于濕式靜電除塵器的氣流分布系統,包括兩塊均流板,分別是在氣流 入口處設置的入口氣流均流板和在出口處設置的出口氣流均流板,所述入口氣流均 流板是非等壓差均流板,所述出口氣流均流板是等壓差均流板。
所述出口氣流均流板是基于等截面原理,包括若干個由中心到四周依次套設的分布 單元,各分布單元的形狀分別與整塊均流板的形狀相似,面積由內到外依次增大,從而 能夠有效抵消后端截面變徑所引起的流場逆向,所述出口氣流均流板與入口氣流均流板 配套使用,保證除塵器內部流場速度的均勻性。
所述入口氣流均流板是非等壓差均流板,其開孔率從中心向四周側逐漸變大,開孔 為方形孔或花邊型孔,以使得在較小的壓損下達到較好的均流效果,保證在非均勻工況 下濕式靜電除塵器內部氣流的均勻性。
所述均流板的開孔尺寸及開孔率以及均流板各分布單元的尺寸大小,均根據實際流 場特性進行分析計算,經流場建模進行流場均勻性的模擬和優化,得到均流效果較好狀 態下的均流板參數。
所述入口氣流均流板和出口氣流均流板的壓力損失最小,使得除塵器前后的阻力最 小,減少除塵系統的動力投入,節能降耗。
本發明技術方案所帶來的有益效果如下:
(1)解決濕式靜電除塵器入口等壓差式均流板均流效果不好帶來的除塵器內 氣流分布不均,導致除塵效果不好的問題。
(2)解決濕式靜電除塵器出口不布置均流板或者均流板效果不理想帶來的流 場逆向,導致除塵器內流程不均,影響除塵效果的問題。
(3)在使得濕式靜電除塵器內流程分布均勻的情況下,幾乎不增加系統的阻 力,相比于其他常規氣流均布板,節能效果更好。
附圖說明
通過閱讀參照以下附圖對非限制性實施例所作的詳細描述,本發明的其它特 征、目的和優點將會變得更明顯:
圖1是現有技術的氣流分布結構示意圖一;
圖2是現有技術的氣流分布結構示意圖二;
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