[發明專利]影像感測元件的光管結構及其制造方法

在審

• 申請號: 201610007822.1
• 申請日: 2016-01-06
• 公開（公告）號: CN106910753A
• 公開（公告）日: 2017-06-30
• 發明（設計）人: 高紫雯;賴郁元;謝謹伃
• 申請（專利權）人: 力晶科技股份有限公司
• 主分類號: H01L27/146
• 分類號: H01L27/146;H01L21/82
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所11105
• 代理人: 陳小雯

1.一種影像感測元件的光管結構，包括：

基底，其中在所述基底中具有光感測區；

介電層，設置于所述基底上，其中在所述介電層中具有光管，且所述光管位于所述光感測區上方；以及

光管材料層，設置于所述光管中，且具有凹陷曲面。

2.如權利要求1所述的影像感測元件的光管結構，其中所述凹陷曲面的曲率半徑為636nm～791nm。

3.如權利要求1所述的影像感測元件的光管結構，其中所述光管材料層的折射率為1.7～1.9。

4.如權利要求1所述的影像感測元件的光管結構，其中所述光管材料層的折射率大于前一個光傳播介質的折射率。

5.如權利要求1所述的影像感測元件的光管結構，還包括保護層，共形地設置于所述介電層上，且部分所述保護層位于所述光管材料層與所述介電層之間。

6.一種影像感測元件的光管結構的制造方法，包括：

提供基底，其中在所述基底中形成有光感測區；

在所述基底上形成介電層；

移除所述光感測區上的部分所述介電層，而在所述介電層中形成光管；以及

在所述光管中形成光管材料層，其中所述光管材料層具有凹陷曲面。

7.如權利要求6所述的影像感測元件的光管結構的制造方法，其中所述光管材料層的形成方法包括：

在所述介電層上形成填滿所述光管的光管材料；以及

使用絨毛研磨墊對所述光管材料進行化學機械研磨制作工藝，以移除所述光管以外的所述光管材料。

8.如權利要求7所述的影像感測元件的光管結構的制造方法，其中所述化學機械研磨制作工藝所使用的研漿包括CeO₂、SiO₂或其組合。

9.如權利要求7所述的影像感測元件的光管結構的制造方法，其中所述化學機械研磨制作工藝的研磨壓力為2.2psi～3.2psi。

10.如權利要求6所述的影像感測元件的光管結構的制造方法，還包括在形成所述光管之后且在形成所述光管材料層之前，共形地在所述介電層上形成保護層。