[發明專利]一種超薄遮光型聚酰亞胺薄膜及其制備方法

在審

• 申請號: 201610004974.6
• 申請日: 2016-01-06
• 公開（公告）號: CN105622970A
• 公開（公告）日: 2016-06-01
• 發明（設計）人: 徐勇;張茜茜;楊宇;李林霜
• 申請（專利權）人: 南京理工大學
• 主分類號: C08J5/18
• 分類號: C08J5/18;C08L79/08;C08K3/22;C08G73/10
• 代理公司: 南京理工大學專利中心 32203
• 代理人: 朱顯國

1.一種超薄遮光型聚酰亞胺薄膜，其特征在于，由納米遮光填料和聚酰亞胺組成， 其中，納米遮光填料和聚酰亞胺的質量比為50～80:100，所述的納米遮光填料選自鈷黑、 深鈷黑、艷黑、鎳黑、鈷灰、鋯灰和深鈷藍中的一種或幾種，所述的納米遮光填料的粒 徑為100nm～1μm。

2.根據權利要求1所述的超薄遮光型聚酰亞胺薄膜，其特征在于，所述的納米遮光 填料的粒徑為100nm～300nm。

3.如權利要求1至2任一所述的一種超薄遮光型聚酰亞胺薄膜的制備方法，其特征 在于，具體步驟如下：首先將納米遮光填料超聲攪拌分散于高沸點強極性溶劑中，得到 含有遮光填料的漿料；并將二胺單體和二酐單體在同種高沸點強極性溶劑中聚合，得到 聚酰亞胺的前驅體聚酰胺酸溶液；之后將含有遮光填料的漿料與聚酰胺酸溶液攪拌混合 均勻，最后將共混溶液涂在基板表面并熱亞胺化，即制得超薄遮光型聚酰亞胺薄膜。

4.根據權利要求3所述的一種超薄遮光型聚酰亞胺薄膜的制備方法，其特征在于， 所述的納米遮光填料在高沸點強極性溶劑中超聲攪拌的時間為2～6h；所述的含有遮光填 料的漿料中納米遮光填料和高沸點強極性溶劑的質量比為10～30:100。

5.根據權利要求3所述的一種超薄遮光型聚酰亞胺薄膜的制備方法，其特征在于， 所述的二胺單體選自4,4’-二氨基二苯醚、對苯二胺、間苯二胺、1,3-雙(4-氨基苯氧基) 苯和4,4-[(1-甲基亞乙基)二(4,1-亞苯基氧)]二苯胺中的一種或幾種；所述的二酐單體 選自均苯四甲酸二酐、3,3’,4,4’-二苯酮四酸二酐、3,3’,4,4’-聯苯四羧酸二酐和3,3’,4,4’- 二苯醚二酐中的一種或幾種；所述的二酐單體和二胺單體的摩爾比為1.01～1.04：1，固 含量為12.5％～20％。

6.根據權利要求3所述的一種超薄遮光型聚酰亞胺薄膜的制備方法，其特征在于， 所述的高沸點強極性溶劑選自N-甲基吡咯烷酮、N,N-二甲基甲酰胺或N,N-二甲基乙酰 胺。

7.根據權利要求3所述的一種超薄遮光型聚酰亞胺薄膜的制備方法，其特征在于， 所述的含有遮光填料的漿料和聚酰亞胺的前驅體聚酰胺酸溶液的質量比為20～60:100； 所述的含有遮光填料的漿料和聚酰亞胺的前驅體聚酰胺酸溶液攪拌混合的時間不少于 4h。

8.根據權利要求3所述的一種超薄遮光型聚酰亞胺薄膜的制備方法，其特征在于， 所述的含有遮光填料的漿料和聚酰亞胺的前驅體聚酰胺酸溶液攪拌混合的時間為 4～10h。

9.根據權利要求3所述的一種超薄遮光型聚酰亞胺薄膜的制備方法，其特征在于， 所述的涂膜厚度為0.08～0.10mm；所述的涂膜基板為玻璃板或鋼板。

10.根據權利要求3所述的一種超薄遮光型聚酰亞胺薄膜的制備方法，其特征在于， 所述的熱亞胺化的反應條件為先在真空、100～200℃條件下去溶劑及亞胺化3～4h，而后 在非真空、230～350℃條件下熱亞胺化2～3h。