[發(fā)明專(zhuān)利]放射線(xiàn)成像裝置、其制造方法和放射線(xiàn)檢查裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610004925.2 | 申請(qǐng)日: | 2016-01-05 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN105785420A | 公開(kāi)(公告)日: | 2016-07-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 市村知昭 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 佳能株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01T1/20 | 分類(lèi)號(hào): | G01T1/20;G01T1/164;G01T1/202 |
| 代理公司: | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所 11038 | 代理人: | 袁玥 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 放射線(xiàn) 成像 裝置 制造 方法 檢查 | ||
1.一種放射線(xiàn)成像裝置,其特征在于包括:
傳感器面板,其上排列多個(gè)傳感器;
閃爍體,被布置在基底部件的上方并由堿鹵化物制成;以及
保護(hù)膜,被配置為抑制所述閃爍體的潮解,
其中,所述保護(hù)膜包括:
第一部分,覆蓋所述閃爍體的側(cè)面和所述閃爍體的在與所述基底 部件相對(duì)的一側(cè)上的端部,以及
第二部分,其在氟含量上小于第一部分,并覆蓋第一部分的表面 的至少一部分。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放射線(xiàn)成像裝置,其特征在于,
所述閃爍體由多個(gè)柱狀晶體制成,
第一部分覆蓋所述閃爍體的各個(gè)柱狀晶體的側(cè)面和尖端,
所述保護(hù)膜由作為氟基樹(shù)脂的第一樹(shù)脂和不作為氟基樹(shù)脂的第二 樹(shù)脂制成,以及
在第二部分處的第一樹(shù)脂與第二樹(shù)脂的比例小于在第一部分處的 第一樹(shù)脂與第二樹(shù)脂的比例。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的放射線(xiàn)成像裝置,其特征在于,形成由 第一樹(shù)脂制成的膜以覆蓋所述閃爍體的各個(gè)柱狀晶體的側(cè)面和尖端, 并且形成至少包含第二樹(shù)脂的部件以覆蓋所述閃爍體,同時(shí)填充覆蓋 有第一樹(shù)脂的柱狀晶體之間的間隙。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的放射線(xiàn)成像裝置,其特征在于,第一樹(shù) 脂包含選自由以下項(xiàng)構(gòu)成的組中的至少一個(gè)材料:聚四氟乙烯、聚三 氟氯乙烯、四氟乙烯/六氟丙烯共聚物、聚偏二氟乙烯、氟化甲基丙烯 酸酯聚合物、聚氟乙烯、乙烯-四氟乙烯共聚物和乙烯-三氟氯乙烯共 聚物。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的放射線(xiàn)成像裝置,其特征在于,第二樹(shù) 脂包含選自以下項(xiàng)構(gòu)成的組中的至少一個(gè)材料:聚偏二氯乙烯、偏二 氯乙烯-氯乙烯共聚物、偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物、聚氯乙烯、環(huán)氧 樹(shù)脂、丙烯酸樹(shù)脂、硅酮樹(shù)脂、聚氨基甲酸酯樹(shù)脂、聚酰亞胺樹(shù)脂、 醋酸纖維素、硝酸纖維素、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯醇縮丁醛、聚 碳酸酯、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚乙烯、尼龍、聚酰胺樹(shù)脂、聚酯 樹(shù)脂、丁苯橡膠樹(shù)脂和聚對(duì)二甲苯。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的放射線(xiàn)成像裝置,其特征在于,
第一樹(shù)脂和水滴的接觸角度大于90°,以及
第二樹(shù)脂和水滴的接觸角度不大于90°。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放射線(xiàn)成像裝置,其特征在于,所述傳 感器面板和所述保護(hù)膜經(jīng)由粘合部件被固定。
8.一種放射線(xiàn)成像裝置,其特征在于包括:
傳感器面板,其上排列多個(gè)傳感器;
閃爍體,被布置在所述傳感器面板上方,并由堿鹵化物制成;以 及
保護(hù)膜,被配置為抑制所述閃爍體的潮解,
其中所述保護(hù)膜包括:
第一部分,覆蓋所述閃爍體的側(cè)面和所述閃爍體的在與基底部件 相對(duì)的一側(cè)上的端部,以及
第二部分,其在氟含量上小于第一部分,并覆蓋第一部分的表面 的至少一部分。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的放射線(xiàn)成像裝置,其特征在于還包括被 布置在所述閃爍體上方的基底部件,
其中所述閃爍體由多個(gè)柱狀晶體制成,
第一部分覆蓋所述閃爍體的各個(gè)柱狀晶體的側(cè)面和尖端,以及
所述基底部件由具有光反射性的材料制成。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的放射線(xiàn)成像裝置,其特征在于,所述 基底部件和所述保護(hù)膜經(jīng)由粘合部件被固定。
11.一種放射線(xiàn)檢查裝置,其特征在于包括:
根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一所述的放射線(xiàn)成像裝置;和
被配置為處理來(lái)自所述放射線(xiàn)成像裝置的信號(hào)的處理器。
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