[其他]頭發造型裝置有效
| 申請號: | 201590000747.5 | 申請日: | 2015-06-22 |
| 公開(公告)號: | CN207084405U | 公開(公告)日: | 2018-03-13 |
| 發明(設計)人: | 安東尼·杰倫·梁 | 申請(專利權)人: | 康奈爾公司 |
| 主分類號: | A45D2/02 | 分類號: | A45D2/02;H01J37/08 |
| 代理公司: | 北京市安倫律師事務所11339 | 代理人: | 楊永波 |
| 地址: | 美國康*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 頭發 造型 裝置 | ||
交叉引用相關申請
本申請要求2014年6月20日申請的第62/015,044號美國臨時申請的優先權利和利益。
技術領域
本公開涉及一種頭發造型裝置,尤其涉及一種為不同長度的頭發設計卷發的造型裝置。
背景技術
本領域已知的有用于頭發造型或卷發的頭發造型裝置。例如,美國專利8,607,804, 8,651,118, 8,733,374和 8,869,808,以及美國外觀設計專利D696,456,通過引用被分別完整的包含在此申請書中的這些專利,公開了一種頭發造型裝置,包括用于圍繞引導構件纏繞頭發的可旋轉部件。上述專利公開的頭發造型裝置與本專利公開的頭發造型裝置選取的實施例具有一些共同的特征。此外,本發明公開的頭發造型裝置提供有將帶電離子導向頭發的離子發生器。離子放電將賦予頭發更時尚、更光滑的質地,并減少靜電和卷結。所述離子發生器與卷曲器結合可以減少熱量的使用,使得發梢分叉更少,與熱相關的損傷更小,同時形成長而光滑的卷曲。
實用新型內容
相應地,本公開涉及一種頭發造型裝置,包括手柄、與所述手柄可操作地連接并適于可旋轉移動以卡合一段頭發以對其施加卷曲效果的可旋轉部件,以及安裝在所述手柄上以適當的尺寸設計并適于將離子集中導向所述一段頭發的離子發生器,以及相對于所述手柄安裝并具有軸的延伸構件,所述可旋轉部件被配置為適于圍繞所述延伸構件的所述軸進行旋轉移動以將所述頭發的一段纏繞或盤繞在所述延伸構件上;其中,所述手柄包含包括第一主體的第一手柄構件,所述第一主體具有按照用于接收一段頭發的尺寸而設計的內室;以及包括第二主體的第二手柄構件,所述第二手柄構件適于相對所述第一手柄構件在打開位置和關閉位置之間移動;所述延伸構件被放置在所述第一手柄構件的第一主體的內室內,所述可旋轉部件被安裝到所述第一主體并適用于旋轉移動以卡合所述內室內的所述一段頭發并圍繞所述延伸構件纏繞所述頭發的一段。
所述可旋轉部件可以包括與所述延伸構件徑向間隔開的頭發卡合面。臨近所述延伸構件可配置保持器。所述保持器可以被設計成在所述可旋轉部件旋轉期間相對所述延伸構件保持所述頭發的一段以便于在所述一段頭發上形成卷曲。
所述離子發生器可以包括至少一個離子發射器,被設計為向所述一段頭發分配離子束。所述手柄可以具有至少一個離子出口,通過所述離子出口將所述離子束從所述至少一個離子發射器引向所述一段頭發。
所述離子發生器可以被安裝到所述第二手柄構件的第二主體。所述離子發生器可以包括至少一個離子發射器,按照通過所述第二主體的至少一個離子出口向所述一段頭發分配離子束的尺寸而設計。所述第二手柄構件可以包括安裝到所述第二主體的框架。所述框架可以安裝有所述離子發生器和所述離子發射器且可以具有所述至少一個離子出口。所述框架可以被可釋放地安裝到所述第二手柄構件的第二主體。
所述離子發生器可以被配置為提供各種電壓輸出。在一個實施例中,所述離子發生器適于產生具有負極性的離子束。在另一個實施例中,所述離子發生器適于產生具有正極性的離子束。在進一步的實施例中,所述離子發生器適于產生具有正極性和負極性的離子束。
可以提供用于加熱所述內室內所述一段頭發的加熱器。
所述具有離子發生器的頭發造型裝置將會為一段頭發帶來卷曲效果,使其展現出光滑順暢的外形,同時還調理頭發并使頭發相關的損傷最小化。說明書、附圖和權利要求還將說明其他方面、特征和優勢。
附圖說明
參考以下附圖將更容易理解本公開的實施例,其中:
附圖1A為根據本公開原理的所述頭發造型裝置的頂部平面視圖;
附圖1B為根據本公開原理的所述頭發造型裝置的側部平面視圖;
附圖1C為根據本公開原理的所述頭發造型裝置的底部平面視圖;
附圖1D為所述頭發造型裝置的前軸向視圖;
附圖1E為所述頭發造型裝置的后軸向視圖;
附圖2為所述頭發造型裝置的透視圖;
附圖3為所述頭發造型裝置的透視圖;
附圖4為所述頭發造型裝置局部截面透視圖,說明所述可旋轉的頭發卡合部件;
附圖5為所述頭發造型裝置的分解透視圖;
附圖6為所述頭發造型裝置部分被移除后的透視圖,說明所述離子發生器;
附圖7為支撐所述離子發生器的上部手柄框架的底部透視圖;
附圖8為支撐所述離子發生器的上部手柄框架的頂部透視圖;以及
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