[發明專利]用于分析材料的裝置和方法

有效

• 申請號: 201580085205.7
• 申請日: 2015-12-09
• 公開（公告）號: CN108369182B
• 公開（公告）日: 2021-10-15
• 發明（設計）人: 亞力山大·鮑爾;奧托·赫茨伯格;托爾斯騰·盧賓斯基
• 申請（專利權）人: 迪亞蒙泰克股份有限公司
• 主分類號: G01N21/17
• 分類號: G01N21/17;G01N21/552;A61B5/145;A61B5/1455;G01N33/49;G01N21/63
• 代理公司: 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204
• 代理人: 王達佐;王艷春

1.用于分析材料(101)的分析裝置(10)，具有：

-激發傳輸裝置(100)，用于產生具有至少一個激發波長的至少一個激發光束，并將所述至少一個激發光束輻射至材料容積(103)中，所述材料容積(103)定位在所述材料(101)的表面的第一區域(102)下面；

-光學介質(108)，在操作中，與所述材料的表面的第一區域(102)直接接觸；

-檢測裝置(106、139)，用于檢測響應信號(SR)，所述響應信號歸因于組織內的所述激發光束的波長依賴性吸收的效應，其中，檢測所述響應信號包括以下操作之一：

在測量束在所述光學介質(108)的界面(GF)處發生至少一次反射之后檢測所述測量束，其中，所述光學介質(108)的所述界面(GF)與所述材料(101)的表面的所述第一區域(102)相接觸，

使用連接至所述光學介質或集成在所述光學介質中的壓電元件檢測所述光學介質的變形和/或密度變化，或者

使用溫度傳感器檢測溫度；

-用于對所述激發光束進行強度調制的裝置(104)；以及

-用于基于所檢測的響應信號(SR)分析所述材料的評估裝置(107、147)，

其中，所述分析裝置(10)配置為用于使用所述激發光束的不同調制頻率連續地確定響應信號，以及用于使不同調制頻率下獲得的結果彼此結合，并從所述結合中獲得所述表面下的深度范圍的具體信息。

2.根據權利要求1所述的分析裝置，其特征在于，

所述裝置包括用于發射所述測量束(112)的裝置(105)，所述用于發射所述測量束(112)的裝置(105)布置成使得所發射的測量束(112)穿入所述光學介質(108)，以及

-所述檢測裝置(106)是用于接收所反射的測量束(112)和用于直接或間接地檢測所反射的測量束(112)的偏轉的裝置，其中，所反射的測量束(112)形成所述響應信號(SR)。

3.根據權利要求1或2所述的分析裝置，其特征在于，

-所述檢測裝置(106)適用于根據所述激發光束的所述波長和/或所述激發光的強度調制來檢測時間依賴的響應信號(SR)。

4.根據權利要求1或2所述的分析裝置，其特征在于，

所述激發傳輸裝置(100)包括兩個或更多個傳輸元件(100a)，所述傳輸元件(100a)為一維、二維或多維傳輸元件陣列形式的傳輸元件。

5.根據權利要求4所述的分析裝置，其特征在于，

所述兩個或更多個傳輸元件(100a)各自均生成其特有的電磁激發束，并將所述電磁激發束輻射至所述第一區域(102)之下的容積中。

6.根據權利要求4所述的分析裝置，其特征在于，

所述兩個或更多個傳輸元件(100a)的電磁激發束的波長是不同的。

7.根據權利要求1或2所述的分析裝置，其特征在于，

所述激發傳輸裝置包括兩個或更多個激光器，所述兩個或更多個激光器為一維、二維或多維激光器陣列的形式。

8.根據權利要求1或2所述的分析裝置，其特征在于，

所述激發傳輸裝置直接地或間接地通過調節裝置(109)機械固定地連接至所述光學介質(108)。

9.根據權利要求1或2所述的分析裝置，其特征在于，

用于強度調制的裝置(104)包括電調制裝置或由電調制裝置形成，所述電調制裝置電連接至所述激發傳輸裝置(100)，并電控制所述激發傳輸裝置(100)。

10.根據權利要求9所述的分析裝置，其特征在于，

所述用于強度調制的裝置(104)包括至少一個受控制的鏡子(133、134)，所述至少一個受控制的鏡子(133、134)布置在光束路徑中。