[發(fā)明專利]使用高溫化學(xué)品和超聲波裝置清洗襯底的方法和裝置

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201580085060.0
• 申請(qǐng)日: 2015-12-09
• 公開（公告）號(hào): CN108472558A
• 公開（公告）日: 2018-08-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳福平;王暉;王希;賈社娜;王丹穎;蔣超偉;代迎偉;王堅(jiān)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司
• 主分類號(hào): B01D19/00
• 分類號(hào): B01D19/00;F04B23/00;F04B15/04;B05C5/00;B05C11/10;B05D1/40
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 陸嘉

1.一種用來清洗襯底的高溫化學(xué)溶液供液系統(tǒng)，包括：

溶液槽，容納高溫化學(xué)溶液；

緩沖槽，包括槽體、排氣管和針閥，槽體容納高溫化學(xué)溶液，排氣管的一端連接槽體，排氣管的另一端連接溶液槽，針閥安裝在排氣管上，通過調(diào)節(jié)針閥以達(dá)到一流量使高溫化學(xué)溶液內(nèi)的氣泡通過排氣管排出緩沖槽；

第一泵，第一泵的進(jìn)口連接溶液槽，第一泵的出口連接緩沖槽；以及

第二泵，第二泵的進(jìn)口連接緩沖槽，第二泵的出口連接清洗襯底的清洗腔。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的供液系統(tǒng)，其特征在于，進(jìn)一步包括第三泵和加熱器，第三泵連接溶液槽和加熱器，加熱器連接溶液槽。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的供液系統(tǒng)，其特征在于，進(jìn)一步包括溫度計(jì)和控制器。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的供液系統(tǒng)，其特征在于，溶液槽具有用來進(jìn)去離子水的第一進(jìn)口、用來進(jìn)第一種化學(xué)液的第二進(jìn)口以及用來進(jìn)第二種化學(xué)液的第三進(jìn)口。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的供液系統(tǒng)，其特征在于，第一種化學(xué)液為雙氧水，第二種化學(xué)液為氨水。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的供液系統(tǒng)，其特征在于，緩沖槽還包括進(jìn)液管和出液管，進(jìn)液管和出液管插入靠近槽體底部的位置，排氣管安裝在緩沖槽的頂端，高溫化學(xué)溶液內(nèi)的氣泡上升并通過排氣管排出緩沖槽。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的供液系統(tǒng)，其特征在于，緩沖槽還包括氣泡分隔器以防止從進(jìn)液管輸出的氣泡進(jìn)入出液管。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的供液系統(tǒng)，其特征在于，緩沖槽還包括進(jìn)液管、出液管和顆粒過濾器，進(jìn)液管插入靠近槽體底部的位置并位于顆粒過濾器的進(jìn)口處，出液管安裝在緩沖槽的頂部并位于顆粒過濾器的出口處，排氣管安裝在緩沖槽的頂部并位于顆粒過濾器的進(jìn)口處。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的供液系統(tǒng)，其特征在于，進(jìn)一步包括設(shè)置在第二泵的出口和清洗腔之間的至少一個(gè)第二緩沖槽和至少一個(gè)第四泵。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的供液系統(tǒng)，其特征在于，溶液槽的外表面包裹有隔熱材料。

11.一種襯底清洗裝置，包括：

溶液槽，容納高溫化學(xué)溶液；

緩沖槽，包括槽體、排氣管和針閥，槽體容納高溫化學(xué)溶液，排氣管的一端連接槽體，排氣管的另一端連接溶液槽，針閥安裝在排氣管上，通過調(diào)節(jié)針閥以達(dá)到一流量使高溫化學(xué)溶液內(nèi)的氣泡通過排氣管排出緩沖槽；

第一泵，第一泵的進(jìn)口連接溶液槽，第一泵的出口連接緩沖槽；

第二泵，第二泵的進(jìn)口連接緩沖槽，第二泵的出口連接清洗襯底的清洗腔；

襯底卡盤，承載襯底；

旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置，連接襯底卡盤并驅(qū)動(dòng)襯底卡盤旋轉(zhuǎn)；

噴嘴，向襯底表面噴灑高溫化學(xué)溶液或去離子水；

超聲波/兆聲波裝置，設(shè)置在靠近襯底的位置，襯底和超聲波/兆聲波裝置之間具有間隙；

垂直驅(qū)動(dòng)器，驅(qū)動(dòng)超聲波/兆聲波裝置上升或下降以改變襯底和超聲波/兆聲波裝置之間的間隙。

12.一種襯底清洗方法，包括：

旋轉(zhuǎn)襯底；

向襯底表面噴灑去離子水以預(yù)濕潤(rùn)襯底表面；

向襯底表面噴灑高溫化學(xué)溶液以清洗襯底表面；

將襯底的轉(zhuǎn)速降至低轉(zhuǎn)速，將超聲波/兆聲波裝置移動(dòng)到靠近襯底表面的位置并與襯底表面之間具有間隙d，高溫化學(xué)溶液完全填充間隙d；

打開超聲波/兆聲波裝置并在第一清洗周期提供恒定或脈沖工作電源；

關(guān)閉超聲波/兆聲波裝置，向襯底表面噴灑高溫化學(xué)溶液或去離子水以釋放超聲波/兆聲波裝置產(chǎn)生的氣泡，防止氣泡聚集在襯底表面；

打開超聲波/兆聲波裝置并在第二清洗周期提供恒定或脈沖工作電源；

關(guān)閉超聲波/兆聲波裝置，向襯底表面噴灑化學(xué)藥液或去離子水；

干燥襯底。