[發(fā)明專利]變換塊的空間改進(jìn)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201580084302.4
• 申請(qǐng)日: 2015-09-01
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108141600A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-06-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: K.安德森;P.文納斯滕
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 瑞典愛(ài)立信有限公司
• 主分類號(hào): H04N19/176
• 分類號(hào): H04N19/176;H04N19/122;H04N19/61;H04N19/86
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 李嘯;楊美靈

1.一種變換塊解碼的方法，所述方法包括：

對(duì)具有相應(yīng)變換系數(shù)的采樣的第一變換塊（10）進(jìn)行逆變換（S10）以獲得具有相應(yīng)重構(gòu)預(yù)測(cè)誤差值的采樣的第一殘差塊（11）；

對(duì)具有相應(yīng)變換系數(shù)的采樣的第二變換塊（20）進(jìn)行逆變換（S11）以獲得具有相應(yīng)重構(gòu)預(yù)測(cè)誤差值的采樣的第二殘差塊（21）；以及

通過(guò)所述第二殘差塊（21）的相應(yīng)重構(gòu)預(yù)測(cè)誤差值修改（S12）所述第一殘差塊（11）的子部分（12）中的采樣的相應(yīng)重構(gòu)預(yù)測(cè)誤差值，其中修改所述相應(yīng)重構(gòu)預(yù)測(cè)誤差值影響所述殘差塊（11）的所述子部分（12）中的采樣的重構(gòu)預(yù)測(cè)誤差值，但不影響所述殘差塊（11）的剩余部分中的采樣的重構(gòu)預(yù)測(cè)誤差值。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中與所述第一殘差塊（11）相比，所述第二殘差塊（21）在采樣數(shù)量方面具有較小的尺寸，并且所述第二殘差塊（21）對(duì)應(yīng)于所述第一殘差塊（11）的所述子部分（12），其中修改（S12）所述相應(yīng)重構(gòu)預(yù)測(cè)誤差值包括通過(guò)所述第二殘差塊（21）的所述相應(yīng)重構(gòu)預(yù)測(cè)誤差值逐個(gè)采樣地修改（S12）所述第一殘差塊（11）的所述子部分（12）的所述相應(yīng)重構(gòu)預(yù)測(cè)誤差值。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中，修改（S12）所述相應(yīng)重構(gòu)預(yù)測(cè)誤差值包括：將所述第二殘差塊（21）的所述重構(gòu)相應(yīng)預(yù)測(cè)誤差值逐個(gè)采樣地添加（S13）到所述第一殘差塊（11）的所述子部分（12）的所述相應(yīng)重構(gòu)預(yù)測(cè)誤差值。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中，修改（S12）所述相應(yīng)重構(gòu)預(yù)測(cè)誤差值包括：通過(guò)所述第二殘差塊（21）的所述相應(yīng)重構(gòu)預(yù)測(cè)誤差值逐個(gè)采樣地替換（S14）所述第一殘差塊（11）的所述子部分（12）的所述相應(yīng)重構(gòu)預(yù)測(cè)誤差值。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中修改（S12）所述相應(yīng)重構(gòu)預(yù)測(cè)誤差值包括：

修改（S30）所述第二殘差塊（21）的子部分（22）中的相應(yīng)重構(gòu)預(yù)測(cè)誤差值;以及

將所述第二殘差塊（21）的所述相應(yīng)重構(gòu)預(yù)測(cè)誤差值逐個(gè)采樣地添加（S31）到所述第一殘差塊（11）的所述相應(yīng)重構(gòu)預(yù)測(cè)誤差值。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中修改（S30）所述相應(yīng)重構(gòu)預(yù)測(cè)誤差值包括將所述第二殘差塊（21）的所述子部分（22）中的所述相應(yīng)重構(gòu)預(yù)測(cè)誤差值歸零（S32）。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中，修改（S30）所述相應(yīng)重構(gòu)預(yù)測(cè)誤差值包括：將所述第二殘差塊（21）的所述子部分（22）中的每個(gè)相應(yīng)重構(gòu)預(yù)測(cè)誤差值與相應(yīng)權(quán)重相乘。

8.根據(jù)權(quán)利要求5至7中任一項(xiàng)所述的方法，其中，

對(duì)所述第一變換塊（10）進(jìn)行逆變換（S10）包括對(duì)具有相應(yīng)的零頻率或低頻率變換系數(shù)的采樣的所述第一變換塊（10）進(jìn)行逆變換（S10）以獲得所述第一殘差塊（11）;以及

對(duì)所述第二變換塊（20）進(jìn)行逆變換（S11）包括對(duì)具有相應(yīng)高頻率變換系數(shù)的采樣的所述第二變換塊（20）進(jìn)行逆變換（S11）以獲得所述第二殘差塊（21）。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，進(jìn)一步包括通過(guò)以下步驟將具有相應(yīng)變換系數(shù)的采樣的變換塊分割（S40）成所述第一變換塊（10）和所述第二變換塊（20）：

將來(lái)自所述變換塊的所述相應(yīng)零頻率和低頻率變換系數(shù)復(fù)制（S41）到所述第一變換塊（10）中的零頻率和低頻率采樣位置中;

將所述第一變換塊（10）中的剩余采樣位置設(shè)置（S42）為零;

將來(lái)自所述變換塊的所述相應(yīng)高頻率變換系數(shù)復(fù)制（S43）到所述第二變換塊（20）中的高頻率采樣位置中;以及

將所述第二變換塊（20）中的剩余采樣位置設(shè)置（S44）為零。