[發明專利]納米線微孔結構有效
| 申請號: | 201580084087.8 | 申請日: | 2015-10-23 |
| 公開(公告)號: | CN108348827B | 公開(公告)日: | 2022-04-08 |
| 發明(設計)人: | S·巴塞羅;葛寧;A·羅加奇 | 申請(專利權)人: | 惠普發展公司;有限責任合伙企業 |
| 主分類號: | B01D39/00 | 分類號: | B01D39/00;B01D69/00;B01D71/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 張凌苗;陳嵐 |
| 地址: | 美國德*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 納米 微孔 結構 | ||
微孔結構包括納米線的陣列和所述陣列的納米線周圍的涂層。涂層限定納米線之間的孔。并且,樣本制備設備包括供體相微流體通道、受體相微流體通道和供體相微流體通道和受體相微流體通道之間的支撐液體膜,其中支撐液體膜具有微孔結構,所述微孔結構包括納米線的陣列、限定納米線與支撐在孔內的有機相之間的孔的涂層。
背景技術
微孔(microporous)結構通常用于形成過濾器或膜。微孔結構提供多個孔,通過所述多個孔可以過濾溶液或者通過所述多個孔可以交換離子。
附圖說明
圖1是示例微孔結構的俯視圖。
圖2是沿線2-2取得的圖1的示例微孔結構的截面圖。
圖3是沿線3-3取得的圖2的示例微孔結構的截面圖。
圖4是用于形成示例微孔結構的示例方法的流程圖。
圖5A是用于形成示例微孔結構的另一示例方法的流程圖。
圖5B是形成在示例襯底上的示例納米線的側視圖。
圖5C是在被涂覆以在納米線之間形成示例涂層之后在示例襯底上形成的示例納米線的側視圖。
圖6是另一個示例微孔結構的截面圖。
圖7是沿線7-7取得的圖6的示例微孔結構的截面圖。
圖8是另一個示例性微孔結構的截面圖。
圖9是沿線9-9取得的圖8的示例微孔結構的截面圖。
圖10是另一個示例微孔結構的截面圖。
圖11是包括圖2的示例微孔結構的示例支撐液體膜的截面圖。
圖12是包括圖11的示例支撐液體膜的示例提取系統的分解透視圖。
圖13是圖12的示例提取系統的截面圖。
圖14是包括圖11的示例支撐液體膜的另一示例提取系統的截面圖。
圖15是圖14的示例提取系統的截面圖。
圖16是另一個示例微孔結構的截面圖。
圖17是圖16的示例微孔結構的截面圖。
圖18是另一個示例微孔結構的截面圖。
圖19是另一個示例微孔結構的截面圖。
具體實施方式
微孔結構通常用于形成過濾器或膜。微孔結構提供多個孔,通過所述多個孔過濾溶液或者通過所述多個孔交換離子??刂瓶椎拇笮『兔芏韧ǔJ抢щy的,這增加了制造的復雜性和成本。
圖1-3示出了示例微孔結構20。微孔結構20可以用作過濾器或膜。微孔結構20包括孔,孔的大小和/或密度可以基于涂覆的納米線的特性來控制或限定。由于涂覆的納米線被用于控制孔的大小和/或密度,所以微孔結構20可以具有被精確調諧的孔以滿足要包括微孔結構的過濾器或膜的特定標準。
微孔結構20包括納米線24和涂層26。納米線24包括接合的納米線的二維陣列,該納米線的二維陣列由涂層26保持在一起。納米線24包括柱狀結構,諸如柱狀物、針狀物或指狀物。這種柱狀結構具有納米尺度。在一個實現中,納米線24由硅形成。
在一個實現中,每個納米線24具有至少20nm且小于1um的直徑。在一個實現中,每個納米線24具有至少50nm且小于或等于1000nm的高度(形成微孔結構20的厚度)。一個實現,納米線24具有至少10%并且直至99.99%或更高的密度。在一個實現中,每個空隙(void)30具有至少5nm且小于或等于1um的橫截面積。在一個實現中,跨微孔結構20的空隙30的密度是至少0.1%或低于90%。
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