[發明專利]金電鍍溶液在審
| 申請號: | 201580083826.1 | 申請日: | 2015-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN108350575A | 公開(公告)日: | 2018-07-31 |
| 發明(設計)人: | 段鈴麗;陳晨;陶奇后;陳喆垚;葉丹尼斯國偉 | 申請(專利權)人: | 羅門哈斯電子材料有限責任公司;陶氏環球技術有限責任公司 |
| 主分類號: | C23C18/44 | 分類號: | C23C18/44 |
| 代理公司: | 北京泛華偉業知識產權代理有限公司 11280 | 代理人: | 徐舒 |
| 地址: | 美國馬*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電鍍溶液 槽液穩定性 電鍍性能 腈化合物 非電解 氰化物 展示 | ||
1.一種不含氰化物的非電解金電鍍溶液,其包含一種或多種金離子源和有機化合物,所述有機化合物表示為式(1):
NC-R(1)
其中R選自直鏈或支鏈、取代或未取代的C1-C20烷基;取代或未取代的C6-C10芳基和-A-X-A’-Y;其中X選自O、N(R’)或S,Y選自-CN、酰胺、氨基和羧基,A和A'可以是相同或不同的并且是直鏈或支鏈的、取代或未取代的C1-C20亞烷基,并且R'是氫或取代或未取代的、直鏈或支鏈的C1-C20烷基;并且前提是相對于-CN的α碳原子不由羥基取代,并且當相對于-CN的α碳由胺基取代時,α碳的剩余氫被進一步取代。
2.根據權利要求1所述的金電鍍溶液,其中所述有機化合物選自由式(2)到(14)表示的化合物,
其中n是1到10的整數。
3.根據權利要求1或2的金電鍍溶液,其進一步包含亞硫酸鈉。
4.根據權利要求1到3中任一項所述的金電鍍溶液,其中所述金源選自氯化金、亞硫酸金和硫代亞硫酸金。
5.根據權利要求1到4中任一項所述的金電鍍溶液,其中由式(1)表示的有機化合物的濃度是0.1到5g/L。
6.一種用于在制品上形成金膜的方法,其包含使所述制品與包含一種或多種金離子源和由式(1)表示的有機化合物的溶液接觸的步驟。
7.一種在其金屬表面上具有金膜的物品,其中所述金膜由權利要求1到5所述的金電鍍溶液形成。
8.根據權利要求7所述的制品,其中所述金屬表面選自由銅、鎳、鈷、銀、鈀和含銅、鎳、鈷、銀和鈀的金屬合金組成的群組。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預處理





