[發(fā)明專利]串聯(lián)型質(zhì)譜分析裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580083655.2 | 申請日: | 2015-10-07 |
| 公開(公告)號: | CN108139357B | 公開(公告)日: | 2020-10-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 山本英樹;鹽浜徹;小澤弘明;池田篤重;藤本穰 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社島津制作所 |
| 主分類號: | G01N27/62 | 分類號: | G01N27/62 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 串聯(lián) 譜分析 裝置 | ||
在分析控制部(5)的控制下,質(zhì)譜分析部(2)在導(dǎo)入測定對象試樣中的目標(biāo)成份的時間范圍內(nèi)針對該目標(biāo)成份執(zhí)行產(chǎn)物離子掃描測定,并且,在相同的時段執(zhí)行包含源自標(biāo)準成分的離子的m/z的m/z范圍的掃描測定。質(zhì)量校正信息計算部(42)根據(jù)在通過掃描測定所得到的MS譜上觀測到的源自標(biāo)準成分的離子的m/z的實測值和理論值來求出質(zhì)量校正信息。質(zhì)量校正部(43)利用該質(zhì)量校正信息,來校正在通過在與該掃描測定相同的循環(huán)中執(zhí)行的產(chǎn)物離子掃描測定所得到的MS/MS譜上觀測到的源自目標(biāo)成份的各離子峰的m/z。能夠視作大致同時實施該循環(huán)中的MS測定與MS/MS測定,因此能夠進行與內(nèi)部標(biāo)準法大致同等的質(zhì)量校正。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種使具有特定的質(zhì)荷比m/z的離子在碰撞室內(nèi)通過碰撞誘導(dǎo)裂解(CID=Collision-Induced Dissociation)等而斷裂、并對由此生成的產(chǎn)物離子(碎片離子)進行質(zhì)譜分析的串聯(lián)型質(zhì)譜分析裝置。
背景技術(shù)
作為質(zhì)譜分析的方法之一的MS/MS分析(串聯(lián)分析)是有用于對分子量大的化合物進行鑒定或?qū)ζ浠瘜W(xué)結(jié)構(gòu)進行分析的方法,近年來在各種領(lǐng)域中被廣泛利用。作為進行MS/MS分析的質(zhì)譜分析裝置而被熟知的是將進行CID的碰撞室夾在中間且在其前后配置四極桿濾質(zhì)器的三重四極桿質(zhì)譜分析裝置。另外,與三重四極桿質(zhì)譜分析裝置相比,將三重四極桿質(zhì)譜分析裝置中的后級的四極桿濾質(zhì)器更換為飛行時間質(zhì)譜分析器而成的所謂的Q-TOF型質(zhì)譜分析裝置雖然結(jié)構(gòu)復(fù)雜且價格高昂,但是能夠獲取精度更高的質(zhì)譜。在本說明書中,將碰撞室夾在中間且在其前后分別具備質(zhì)譜分析器的、能夠進行MS/MS分析的質(zhì)譜分析裝置被稱為串聯(lián)型質(zhì)譜分析裝置。
一般來說,與四極桿質(zhì)譜分析儀相比,飛行時間質(zhì)譜分析儀能夠以高精度和高分辨率來求出離子的質(zhì)荷比。因此,在要求進行產(chǎn)物離子的精確的質(zhì)量測定、如蛋白質(zhì)和肽的鑒定和定量、結(jié)構(gòu)類似的大量成分的一齊分析等的領(lǐng)域中,廣泛使用Q-TOF型質(zhì)譜分析裝置。一般來說,在質(zhì)譜分析中要精確地求出作為目標(biāo)的離子的質(zhì)量時進行質(zhì)量校正,該質(zhì)量校正利用到了包含質(zhì)荷比的理論值已知的成分的標(biāo)準試樣的測定結(jié)果。
例如專利文獻1中記載了如下一種方法:在將離子阱與飛行時間質(zhì)譜分析器組合得到的離子阱飛行時間質(zhì)譜分析裝置(下面稱為IT-TOFMS)中進行高精度的質(zhì)量校正,該離子阱能夠保持離子,并且能夠選擇所保持的離子、通過CID進行裂解操作。
在該IT-TOFMS中,在將源自測定對象試樣的各種離子和源自標(biāo)準試樣的離子一起捕捉到離子阱之后,僅使源自測定對象試樣的各種離子中的具有特定的質(zhì)荷比的離子以及源自標(biāo)準試樣的離子殘留在離子阱內(nèi),將其它離子從離子阱內(nèi)排除。之后,通過選擇性地激勵殘留的源自測定對象試樣的離子來促進通過CID進行的裂解,生成源自測定對象試樣的產(chǎn)物離子。其間,源自標(biāo)準試樣的離子繼續(xù)保持在離子阱內(nèi)。然后,將源自測定對象試樣的產(chǎn)物離子和源自標(biāo)準試樣的離子從離子阱排出并導(dǎo)入到飛行時間質(zhì)譜分析器,對各個離子的飛行時間進行測定?;谟纱说玫降脑醋詷?biāo)準試樣的離子的飛行時間或者根據(jù)該飛行時間求出的實測的質(zhì)荷比值,來校正源自測定對象試樣的產(chǎn)物離子的質(zhì)荷比。
這樣,在IT-TOFMS中,能夠不將源自標(biāo)準試樣的離子裂解而將其保持在離子阱內(nèi),同時選擇性地僅使源自測定對象試樣的離子裂解,因此能夠同時對源自測定對象試樣的產(chǎn)物離子和源自標(biāo)準試樣的非裂解的離子進行質(zhì)譜分析,由此能夠進行高精度的質(zhì)量校正。與此相對,在使離子在通過碰撞室時裂解的串聯(lián)型質(zhì)譜分析裝置中,無法同時對源自測定對象試樣的產(chǎn)物離子和源自標(biāo)準試樣的非裂解的離子進行質(zhì)譜分析。專利文獻1中還記載了以下內(nèi)容:在Q-TOF型質(zhì)譜分析裝置中,不能進行如上述的IT-TOFMS那樣的利用內(nèi)部標(biāo)準法的質(zhì)量校正。
專利文獻1:日本特開2005-181236號公報
發(fā)明內(nèi)容
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