[發(fā)明專利]轉印型感光性折射率調整膜

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201580083460.8
• 申請日: 2015-09-30
• 公開（公告）號: CN108136722A
• 公開（公告）日: 2018-06-08
• 發(fā)明（設計）人: 渡部和仁;木村忠廣;佐藤真弓;渡邊匠
• 申請（專利權）人: 日立化成株式會社
• 主分類號: B32B7/02
• 分類號: B32B7/02;B32B27/18;B32B27/30;C08J7/04
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 白麗

1.一種轉印型感光性折射率調整膜，其具備：

支撐膜；

設置在該支撐膜上的感光性樹脂層；以及

設置在該感光性樹脂層上且含有氧化鋯及氧化錫的高折射率層。

2.一種轉印型感光性折射率調整膜，其具備：

支撐膜；設置在該支撐膜上的感光性樹脂層；以及

設置在該感光性樹脂層上且含有氧化鋯及二氧化硅的高折射率層。

3.根據(jù)權利要求1或2所述的轉印型感光性折射率調整膜，其中，所述高折射率層含有氧化鋯、氧化錫及二氧化硅。

4.根據(jù)權利要求1～3中任一項所述的轉印型感光性折射率調整膜，其中，所述高折射率層的波長633nm下的折射率為1.5～1.9。

5.根據(jù)權利要求1～4中任一項所述的轉印型感光性折射率調整膜，其中，所述高折射率層的膜厚為50nm～500nm。

6.根據(jù)權利要求1～5中任一項所述的轉印型感光性折射率調整膜，其中，所述感光性樹脂層含有粘合劑聚合物、光聚合性化合物和光聚合引發(fā)劑。

7.根據(jù)權利要求6所述的轉印型感光性折射率調整膜，其中，所述光聚合引發(fā)劑含有肟酯化合物。

8.根據(jù)權利要求6或7所述的轉印型感光性折射率調整膜，其中，所述粘合劑聚合物是具有羧基的聚合物。

9.根據(jù)權利要求6～8中任一項所述的轉印型感光性折射率調整膜，其中，所述粘合劑聚合物為含有來自于選自(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸芐酯、苯乙烯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯及(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯中的化合物的結構單元的聚合物。

10.根據(jù)權利要求1～9中任一項所述的轉印型感光性折射率調整膜，其中，所述感光性樹脂層含有含光聚合性不飽和鍵的磷酸酯。

11.根據(jù)權利要求1～10中任一項所述的轉印型感光性折射率調整膜，其中，所述感光性樹脂層與所述高折射率層的層疊體在波長400～700nm下的可見光透射率的最小值為90％以上。

12.根據(jù)權利要求1～11中任一項所述的轉印型感光性折射率調整膜，其中，所述感光性樹脂層與所述高折射率層的總厚度為30μm以下。

13.一種折射率調整圖案的形成方法，其具備以下工序：

使用權利要求1～12中任一項所述的轉印型感光性折射率調整膜，按照所述高折射率層密合在基材上的方式在基材上層壓所述高折射率層及所述感光性樹脂層的工序；和

對所述基材上的所述高折射率層及所述感光性樹脂層的規(guī)定部分進行曝光后，將除所述規(guī)定部分以外的部分除去，形成折射率調整圖案的工序。

14.一種層疊體，其在具有電極圖案的基材上具有含氧化鋯及氧化錫的高折射率層和感光性樹脂層。

15.一種層疊體，其在具有電極圖案的基材上具有含氧化鋯及二氧化硅的高折射率層和感光性樹脂層。

16.一種電子部件，其在具有電極圖案的基材上具有由含氧化鋯及氧化錫的高折射率層形成的圖案和由感光性樹脂層的固化膜形成的圖案。

17.一種電子部件，其在具有電極圖案的基材上具有由含氧化鋯及二氧化硅的高折射率層形成的圖案和由感光性樹脂層的固化膜形成的圖案。