[發明專利]卷材基板處理系統

在審

• 申請號: 201580083262.1
• 申請日: 2015-09-21
• 公開（公告）號: CN108431296A
• 公開（公告）日: 2018-08-21
• 發明（設計）人: 曹生賢
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: C23C16/54
• 分類號: C23C16/54;C23C14/34;C23C14/56;C23C16/455
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 侯穎媖;金紅蓮

1.一種卷材基板處理系統，包括：

裝載輥(100)，在該裝載輥上纏繞有待處理的卷材基板(W)；

至少一個轉鼓(200)，被配置成在支撐所述卷材基板(W)的同時旋轉以傳送從所述裝載輥(100)解繞的所述卷材基板(W)；

卸載輥(300)，在該卸載輥上纏繞有已經通過所述轉鼓(200)被處理的所述卷材基板(W)；以及

基板處理單元(400)，其沿著所述轉鼓(200)的圓周方向設置以對在支撐于所述轉鼓(200)的外圓周表面上的同時旋轉的所述卷材基板(W)進行處理。

2.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述裝載輥(100)、所述卸載輥(300)、以及所述轉鼓(200)中的每一個都具有相對于地面豎直或水平布置的旋轉軸。

3.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述系統包括：

多個轉鼓(200)；以及

一對壓力輥(460)，其被設置成以小于所述轉鼓(200)的直徑的距離間隔開并且被安裝在所述裝載輥(100)或所述卸載輥(300)與所述轉鼓(200)之間以及在所述轉鼓(200)之間，從而維持所述卷材基板(W)與所述轉鼓(200)的外圓周表面緊密接觸的狀態。

4.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述系統包括：

裝載鎖腔室(410)，被配置成更換所述卷材基板(W)；以及

工藝腔室(420)，被配置成執行基板處理，

其中，所述裝載輥(100)和所述卸載輥(300)被安裝在所述裝載鎖腔室(410)內，并且所述轉鼓(200)和所述基板處理單元(400)被安裝在所述工藝腔室(420)內。

5.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述裝載鎖腔室(410)和所述工藝腔室(420)隔著布置在它們之間的分隔壁(450)彼此分開，使得能夠在維持所述工藝腔室(420)的氣密性的同時引入和排出所述卷材基板(W)，并且所述分隔壁包括密封輥(440)，所述密封輥被配置成在與所述卷材基板(W)緊密接觸的同時允許所述卷材基板(W)穿過所述裝載鎖腔室(410)或所述工藝腔室(420)。

6.如權利要求1至5之一所述的系統，其特征在于，所述基板處理單元(400)中的每一個都包括以下各項中的至少一項：用于濺射工藝的濺射模塊、用于原子層沉積工藝的原子層沉積模塊、用于蒸發沉積工藝的蒸發模塊、用于單層沉積工藝的單層沉積模塊、用于CVD工藝的CVD模塊、以及用于ICP工藝的ICP模塊。

7.如權利要求1至5之一所述的系統，其特征在于，所述基板處理單元(400)中的每一個都包括以下各項當中的至少兩個模塊：用于濺射工藝的濺射模塊、用于原子層沉積工藝的原子層沉積模塊、用于蒸發沉積工藝的蒸發模塊、用于單層沉積工藝的單層沉積模塊、用于CVD工藝的CVD模塊、以及用于ICP工藝的ICP模塊，并且所述至少兩個模塊沿著所述轉鼓(200)的圓周方向設置。