[發明專利]離子分析裝置

有效

• 申請號: 201580083150.6
• 申請日: 2015-10-09
• 公開（公告）號: CN108027347B
• 公開（公告）日: 2021-08-13
• 發明（設計）人: 西村和茂;佐竹宏之;杉山益之;長谷川英樹;坂井友幸
• 申請（專利權）人: 株式會社日立高新技術
• 主分類號: G01N27/626
• 分類號: G01N27/626;H01J49/10;H01J49/26
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 吳克鵬

1.一種離子分析裝置，其具有：

離子源，其將測定對象物質進行離子化；

添加劑噴霧部，其將含有與所述測定對象物質反應的添加劑的液體進行微粒化，并朝向所述測定對象物質進行噴霧；

分離分析部，其對由所述測定對象物質與所述添加劑反應而生成的離子進行分離分析；

檢測器，其對在所述分離分析部中分離分析出的離子進行檢測；以及

控制部，其在不需要所述添加劑的時間內使供給至所述添加劑噴霧部的所述添加劑的流量降低，

所述添加劑噴霧部具有噴嘴，其具有流通含所述添加劑的液體的中空內圓筒和流通霧化氣體的中空外圓筒的同軸雙重圓筒管結構，所述添加劑噴霧部具有調節霧化氣體流量的閥，

在不噴霧所述添加劑的時間內，也向所述添加劑噴霧部供給所述添加劑，通過關閉調節霧化氣體流量的閥，不將以低流量流通的向所述添加劑噴霧部供給的添加劑噴霧至測定對象物質離子。

2.根據權利要求1所述的離子分析裝置，其中，所述分離分析部具有質譜分析儀。

3.根據權利要求1所述的離子分析裝置，其中，所述分離分析部具有根據離子的碰撞截面積來分離離子的離子分離部。

4.根據權利要求1所述的離子分析裝置，其中，所述控制部記錄要測定所述測定對象物質的時間，并基于所述記錄的時間來確定不需要所述添加劑的時間。

5.根據權利要求1所述的離子分析裝置，其中，所述控制部監測用所述檢測器檢測到的所述測定對象物質的離子強度，在該測定對象物質的離子強度為預先設定的閾值以下的情況下，使供給至所述添加劑噴霧部的添加劑的流量降低。

6.根據權利要求1所述的離子分析裝置，其中，所述控制部將所述添加劑噴霧部的噴霧開始時間設定在要檢測所述測定對象物質的時間之前。

7.根據權利要求1所述的離子分析裝置，其中，所述控制部在不需要所述添加劑的時間內停止利用所述添加劑噴霧部進行所述添加劑的噴霧。

8.根據權利要求1所述的離子分析裝置，其中，所述控制部監測用所述檢測器檢測到的所述測定對象物質的離子強度，在所述測定對象物質的離子強度超過預先設定的閾值的時間內，從所述添加劑噴霧部噴霧所述添加劑。

9.根據權利要求1所述的離子分析裝置，其中，所述控制部記錄要測定所述測定對象物質的時間，以該時間為基準從所述添加劑噴霧部噴霧所述添加劑。

10.根據權利要求2所述的離子分析裝置，其中，所述控制部在要測定所述測定對象物質的時間內，配合著因所述添加劑而使質荷比發生變化的所述測定對象物質來變更所述質譜分析儀的參數。

11.根據權利要求1所述的離子分析裝置，其具有多個所述添加劑噴霧部。

12.根據權利要求11所述的離子分析裝置，其中，所述控制部對切換多個所述添加劑噴霧部的噴霧和停止進行控制。

13.根據權利要求11所述的離子分析裝置，其中，所述控制部使多個所述添加劑噴霧部同時動作。

14.根據權利要求11所述的離子分析裝置，其中，所述控制部在測定同一測定對象物質的時間內使多個所述添加劑噴霧部依次動作。

15.根據權利要求1所述的離子分析裝置，其具有：將與所述添加劑反應的所述測定對象物質的離子引導至所述分離分析部的偏轉電極。

16.根據權利要求1所述的離子分析裝置，其中，在所述添加劑噴霧部的噴霧方向上延長的直線與所述分離分析部的離子導入口的最短距離長于在被所述離子源進行了離子化的離子行進方向上延長的直線與所述分離分析部的離子導入口的最短距離。

17.根據權利要求1所述的離子分析裝置，其中，由氣體被吸引至所述分離分析部的方向定義的矢量與由所述添加劑噴霧部的噴霧的方向定義的矢量所成的角為90°以上。