[發明專利]熒光X射線分析裝置及其中使用的光譜顯示方法有效
| 申請號： | 201580082847.1 | 申請日： | 2015-07-03 |
| 公開（公告）號： | CN108027331B | 公開（公告）日： | 2023-09-15 |
| 發明（設計）人： | 古川博朗 | 申請（專利權）人： | 株式會社島津制作所 |
| 主分類號： | G01N23/223 | 分類號： | G01N23/223 |
| 代理公司： | 上海華誠知識產權代理有限公司 31300 | 代理人： | 肖華 |
| 地址： | 日本國京都府京*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 熒光 射線 分析 裝置 其中 使用 光譜 顯示 方法 | ||
1.一種熒光X射線分析裝置，具備：
X射線管，其將X射線射出到試樣；以及
檢測器，其檢測來自所述試樣的X射線，
所述熒光X射線分析裝置根據由所述檢測器檢測到的X射線，制作并顯示光譜，該光譜表示X射線能量與元素的含量的關系，
所述熒光X射線分析裝置的特征在于，具備：
識別信息制作部，其制作識別信息，所述識別信息包括對基于衍射X射線的波峰位置進行確定的信息，該衍射X射線根據所述試樣的晶體結構而產生，所述識別信息還包括對基于熒光X射線的波峰位置進行確定的信息，該熒光X射線根據所述試樣中包含的元素而產生；以及
顯示控制部，其根據所述識別信息，在所述光譜中的各波峰處顯示衍射X射線信息、或者熒光X射線信息、或者衍射X射線信息以及熒光X射線信息這兩者，
所述識別信息制作部根據通過輸入裝置輸入的試樣的晶體結構的種類，使用算式確定基于所述衍射X射線的波峰位置E，
在上述算式中，h、k、l表示所述試樣的晶面的取向，a表示所述試樣的晶格常數，θ表示X射線的入射角。
2.根據權利要求1所述的熒光X射線分析裝置，其特征在于，
所述識別信息制作部根據多個晶體結構的種類，分別制作識別信息，
所述顯示控制部根據從多個識別信息中選擇出的至少1個識別信息，在所述光譜中的波峰處顯示衍射X射線信息。
3.一種光譜顯示方法，在熒光X射線分析裝置中使用，所述熒光X射線分析裝置具備：
X射線管，其將X射線射出到試樣；以及
檢測器，其檢測來自所述試樣的X射線，
所述熒光X射線分析裝置根據由所述檢測器檢測到的X射線，制作并顯示光譜，該光譜表示X射線能量與元素的含量的關系，
所述光譜顯示方法的特征在于，包括：
識別信息制作步驟，其制作識別信息，所述識別信息包括對基于衍射X射線的波峰位置進行確定的信息，該衍射X射線根據所述試樣的晶體結構而產生，所述識別信息還包括對基于熒光X射線的波峰位置進行確定的信息，該熒光X射線根據所述試樣中包含的元素而產生；以及
顯示步驟，其根據所述識別信息，在所述光譜中的各波峰處顯示衍射X射線信息、或者熒光X射線信息、或者衍射X射線信息以及熒光X射線信息這兩者，
所述識別信息制作步驟中，根據通過輸入裝置輸入的試樣的晶體結構的種類，使用算式確定基于所述衍射X射線的波峰位置E，
在上述算式中，h、k、l表示所述試樣的晶面的取向，a表示所述試樣的晶格常數，θ表示X射線的入射角。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于株式會社島津制作所，未經株式會社島津制作所許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201580082847.1/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：可編程顯示器及控制系統
- 下一篇：一種二極管底座加工裝置
