[發(fā)明專(zhuān)利]硬質(zhì)被膜和硬質(zhì)被膜被覆構(gòu)件

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201580082832.5
• 申請(qǐng)日: 2015-09-04
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108138305B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-01-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 櫻井正俊;王媺;杉田博昭
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: OSG株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/06
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/06;B23B27/14;B23B51/00;B23C5/16
• 代理公司: 11038 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所
• 代理人: 劉強(qiáng)

1.硬質(zhì)被膜(24)，是在母材(30)的表面所被覆的硬質(zhì)被膜(24)，其特征在于，上述硬質(zhì)被膜(24)采用物理蒸鍍法將A層(34)與使B層(36)和C層(38)交替地層疊而成的納米層交替層(40)交替地層疊、以成為0.5～20μm的總膜厚的方式構(gòu)成；上述A層(34)為組成式由[Al_1-UCr_U]N表示、原子比U由0.20～0.80表示的AlCr氮化物，具有50～1000nm的厚度；上述B層(36)為組成式由[Ti_1-WAl_W]N表示、原子比W由0.30～0.85表示的TiAl氮化物，具有1～100nm的厚度；上述C層(38)為組成式由[Ti_1-YSi_Y]N表示、原子比Y由0.05～0.45表示的TiSi氮化物，具有1～100nm的厚度；上述納米層交替層(40)具有50～1000nm的厚度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硬質(zhì)被膜(24)，其特征在于，上述A層(34)的膜厚T_A與上述納米層交替層(40)的膜厚T_NL之比的值T_A/T_NL為0.2～10。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硬質(zhì)被膜(24)，其特征在于，上述A層(34)含有20at％以下的包含選自Si、V、Y、Zr、Nb、Mo、Ta和W中的至少1種元素的添加物α。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硬質(zhì)被膜(24)，其特征在于，上述B層(36)含有10at％以下的包含選自B、C、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta和W中的至少1種元素的添加物β。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硬質(zhì)被膜(24)，其特征在于，上述C層(38)含有10at％以下的包含選自B、C、V、Y、Nb、Mo和W中的至少1種元素的添加物γ。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硬質(zhì)被膜(24)，其特征在于，將上述硬質(zhì)被膜(24)直接被覆于上述母材(30)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硬質(zhì)被膜(24)，其特征在于，將上述硬質(zhì)被膜(24)經(jīng)由界面層(32)被覆于上述母材(30)，上述界面層(32)由與上述A層(34)、上述B層(36)、上述C層(38)、或上述納米層交替層(40)同樣的材料形成為50～1000nm的厚度。

8.硬質(zhì)被膜被覆構(gòu)件，其特征在于，用根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硬質(zhì)被膜(24)將上述母材(30)的一部分或全部被覆。