[發(fā)明專利]光學指紋成像系統(tǒng)和面陣傳感器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201580082674.3
• 申請日: 2015-09-15
• 公開（公告）號: CN108140125B
• 公開（公告）日: 2021-11-02
• 發(fā)明（設計）人: 朱虹;凌嚴
• 申請（專利權）人: 上海籮箕技術有限公司
• 主分類號: G06K9/20
• 分類號: G06K9/20;G06K9/00
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權代理有限公司 11227
• 代理人: 吳敏

1.一種光學指紋成像系統(tǒng)，其特征在于，包括：透光蓋板、背光源、設置于所述蓋板和所述背光源之間的面陣傳感器、以及光學組件；

其中，所述面陣傳感器包括像素陣列，所述面陣傳感器的像素具有不透光區(qū)域和透光區(qū)域，所述不透光區(qū)域包括感光器件，所述感光器件用于將入射光轉(zhuǎn)換為電信號，所述透光區(qū)域被配置為所述背光源的光能夠通過所述透光區(qū)域；

所述光學組件適于部分地阻擋從所述蓋板到所述感光器件的光，并且被配置有至少一個光通道，所述光通道位于所述蓋板和每個所述感光器件之間、且允許方向在預設范圍內(nèi)的光通過；

所述感光器件是光電二極管；

所述面陣傳感器的基板作為所述蓋板，且所述基板上形成有所述光電二極管；

所述光電二極管和所述基板之間形成有兩個金屬層和位于所述兩個金屬層之間的透光層；

每個所述金屬層具有對應于每個所述光電二極管的至少一個透光孔，所述兩個金屬層中的所述透光孔至少部分重疊；所述兩個金屬層中的透光孔和位于其間的所述透光層形成所述光通道。

2.如權利要求1所述的光學指紋成像系統(tǒng)，其特征在于，所述光學組件包括設置于所述面陣傳感器與所述蓋板之間的遮光層；所述遮光層具有與每個所述感光器件相對應的至少一個透光孔；所述遮光層中的至少一個透光孔作為所述光通道。

3.如權利要求2所述的光學指紋成像系統(tǒng)，其特征在于，所述透光孔為空洞或者填充有透光材料。

4.如權利要求2所述的光學指紋成像系統(tǒng)，其特征在于，所述遮光層具有與每個像素對應的透光部，所述透光部允許來自所述背光源的光穿過。

5.如權利要求4所述的光學指紋成像系統(tǒng)，其特征在于，所述遮光層的透光部包括多個孔，所述孔為空洞或填充有透光材料。

6.如權利要求2所述的光學指紋成像系統(tǒng)，其特征在于，所述遮光層具有多層結構。

7.如權利要求1所述的光學指紋成像系統(tǒng)，其特征在于，所述光學組件設置在所述面陣傳感器與所述蓋板之間；所述光學組件包括至少兩個遮光層、及設置于每相鄰兩個遮光層之間的透光層；每個遮光層具有與每個所述感光器件對應的至少一個透光孔，不同遮光層中的透光孔至少部分重疊；所述遮光層中的透光孔和位于所述遮光層之間的透光層形成所述光通道。

8.如權利要求7所述的光學指紋成像系統(tǒng)，其特征在于，所述透光孔填充有所述透光層或透光材料。

9.如權利要求7所述的光學指紋成像系統(tǒng)，其特征在于，每個所述遮光層具有與每個所述像素對應的透光部，所述透光部允許來自所述背光源的光穿過。

10.如權利要求9所述的光學指紋成像系統(tǒng)，其特征在于，所述遮光層的透光部包括多個孔，所述孔填充有透光層或透光材料。

11.如權利要求7所述的光學指紋成像系統(tǒng)，其特征在于，所述遮光層具有多層結構。

12.如權利要求7所述的光學指紋成像系統(tǒng)，其特征在于，所述透光層具有多層結構。

13.如權利要求1至12中任一項所述的光學指紋成像系統(tǒng)，其特征在于，所述感光器件是光電二極管。

14.如權利要求1所述的光學指紋成像系統(tǒng)，其特征在于，所述兩個金屬層分別作為所述面陣傳感器的驅(qū)動線和數(shù)據(jù)線；所述透光層作為絕緣層、且由氮化硅或氧化硅制成。

15.如權利要求1所述的光學指紋成像系統(tǒng)，其特征在于，所述金屬層中的所述透光孔填充有所述透光層或透光材料。

16.如權利要求1所述的光學指紋成像系統(tǒng)，其特征在于，所述金屬層具有多層結構。

17.如權利要求1所述的光學指紋成像系統(tǒng)，其特征在于，所述透光層具有多層結構。