[發明專利]渦旋式流體機械有效
| 申請號: | 201580081251.X | 申請日: | 2015-06-03 |
| 公開(公告)號: | CN107683372B | 公開(公告)日: | 2020-08-21 |
| 發明(設計)人: | 渡邊翔;坂本晉;小林義雄;巖野公宣 | 申請(專利權)人: | 株式會社日立產機系統 |
| 主分類號: | F04C18/02 | 分類號: | F04C18/02 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322 | 代理人: | 龍淳 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 渦旋式 流體 機械 | ||
1.一種渦旋式流體機械,其特征在于,包括:
具有渦旋狀的渦圈部的固定渦盤;和
與該固定渦盤相對地設置的旋轉渦盤,其具有渦旋狀的渦圈部,
在與所述固定渦盤和所述旋轉渦盤的渦圈部中的一個渦圈部的齒根側外線的變形量相比,與所述一個渦圈部相對的渦圈部的齒頂側內線的變形量大的部分,在所述一個渦圈部的齒根側外線和與所述一個渦圈部相對的渦圈部的齒頂側內線的至少一方設置有凸部,
在與所述一個渦圈部的齒根側外線的變形量相比,與所述一個渦圈部相對的渦圈部的齒頂側內線的變形量小的部分,在所述一個渦圈部的齒根側外線和與所述一個渦圈部相對的渦圈部的齒頂側內線的至少一方設置有凹部。
2.一種渦旋式流體機械,其特征在于,包括:
具有渦旋狀的渦圈部的固定渦盤;和
與該固定渦盤相對地設置的旋轉渦盤,其具有渦旋狀的渦圈部,
在與所述固定渦盤和所述旋轉渦盤的渦圈部中的一個渦圈部的齒根側內線的變形量相比,與所述一個渦圈部相對的渦圈部的齒頂側外線的變形量大的部分,在所述一個渦圈部的齒根側內線和與所述一個渦圈部相對的渦圈部的齒頂側外線的至少一方設置有凹部,
在與所述一個渦圈部的齒根側內線的變形量相比,與所述一個渦圈部相對的渦圈部的齒頂側外線的變形量小的部分,在所述一個渦圈部的齒根側內線和與所述一個渦圈部相對的渦圈部的齒頂側外線的至少一方設置有凸部。
3.如權利要求1或2所述的渦旋式流體機械,其特征在于:
所述凹部或凸部僅形成在設置于該凹部或凸部的渦圈部的高度方向的一部分上。
4.如權利要求1或2所述的渦旋式流體機械,其特征在于:
在所述固定渦盤和所述旋轉渦盤中的至少一者的渦圈部的規定的區域中,在一個側面的齒底到齒頂之間設置有所述凹部和所述凸部。
5.如權利要求1或2所述的渦旋式流體機械,其特征在于:
所述凸部或所述凹部通過對所述渦圈部進行切削加工而形成。
6.如權利要求1或2所述的渦旋式流體機械,其特征在于:
所述凹部或所述凸部的凹陷量或凸出量在齒底到齒頂之間改變。
7.如權利要求1或2所述的渦旋式流體機械,其特征在于:
在所述渦圈部的設置有所述凸部的區域之外的區域設置有多個突起。
8.如權利要求1或2所述的渦旋式流體機械,其特征在于:
在所述渦圈部的包括設置有所述凸部的區域在內的區域設置有多個突起。
9.如權利要求1或2所述的渦旋式流體機械,其特征在于:
所述凸部設置于如下區域,在所述區域中,與運轉時所述固定渦盤和所述旋轉渦盤中一者的渦圈部的外線向外周方向的變形量相比,在與外側相對的另一者的渦盤部的渦圈部的內線向外周方向的變形量大。
10.如權利要求1或2所述的渦旋式流體機械,其特征在于:
所述凸部和凹部設置于渦圈部的多個區域。
11.如權利要求1或2所述的渦旋式流體機械,其特征在于:
所述凸部與所述固定渦盤和所述旋轉渦盤運轉時的變形量相應地,以根據區域的不同而不同的大小形成。
12.一種渦旋式流體機械,其特征在于,包括:
具有渦旋狀的渦圈部的固定渦盤;和
與該固定渦盤相對地設置的旋轉渦盤,其具有渦旋狀的渦圈部,
所述固定渦盤和所述旋轉渦盤中的至少一者的渦圈部,在與運轉時所述固定渦盤和所述旋轉渦盤中一者的渦盤的渦圈部的外線向外周方向的變形量相比,在與外側相對的另一者的渦盤部的渦圈部的內線向外周方向的變形量大的區域中,在一個側面設置有凹部,
在與該區域的渦圈的另一個側面相對的渦盤的渦圈部的側面設置有凸部。
13.如權利要求12所述的渦旋式流體機械,其特征在于:
所述凸部和所述凹部僅設置在所述固定渦盤和所述旋轉渦盤的內線與外線中的一者一側。
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F04C18-24 .反向嚙合的,即配合元件在相互嚙合處的運動方向相反
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