[發(fā)明專(zhuān)利]高效率半交叉耦合去耦電容器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201580080820.9 | 申請(qǐng)日: | 2015-07-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108141214B | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-06-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 阿爾佛雷德·楊;羅恩·科漢 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 安培計(jì)算有限責(zé)任公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H03K19/094 | 分類(lèi)號(hào): | H03K19/094 |
| 代理公司: | 北京柏杉松知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 謝攀;劉繼富 |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 面積效率 半交叉 高工作頻率 去耦電容器 耦合 耦合晶體管 電路設(shè)計(jì) 高頻設(shè)計(jì) 工作頻率 設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn) 有效電容 常規(guī)的 高效率 電路 期望 補(bǔ)充 | ||
去耦電容器電路設(shè)計(jì)在不犧牲面積效率的情況下促進(jìn)了高工作頻率。為了解除高工作頻率和面積效率的有時(shí)相反的設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn),以半交叉耦合(HCC)的方式來(lái)連接p溝道場(chǎng)效應(yīng)晶體管(PFET)和n溝道場(chǎng)效應(yīng)晶體管。然后由至少一個(gè)面積有效電容(AEC)器件來(lái)補(bǔ)充HCC電路。半交叉耦合晶體管滿(mǎn)足了高頻設(shè)計(jì)要求,同時(shí)AEC器件滿(mǎn)足了高面積效率要求。該設(shè)計(jì)消除了一些常規(guī)的DCAP設(shè)計(jì)中工作頻率和面積效率之間固有的不期望的折中。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開(kāi)一般涉及用于抑制電源噪聲的去耦電容器電路設(shè)計(jì),所述去耦電容器電路設(shè)計(jì)提供高工作頻率和高面積效率。
背景技術(shù)
去耦電容器(DCAP)是用于超大規(guī)模集成電路(VLSI)設(shè)計(jì)的配電網(wǎng)絡(luò)(PDN)的重要部件。這些去耦電容器通過(guò)電容器來(lái)減少由有源電路元件引起的電源噪聲,由此抑制電路中將變?yōu)榛顒?dòng)的其他元件所察覺(jué)到的電源噪聲。
對(duì)于DCAP設(shè)計(jì)而言有幾個(gè)考慮因素是很重要的,包括高面積效率、穩(wěn)健的電性能以及適當(dāng)?shù)哪繕?biāo)工作頻率。然而,一些DCAP設(shè)計(jì)容易受到靜電放電(ESD)事件的損害,特別是當(dāng)晶體管設(shè)計(jì)進(jìn)入到超深亞微米和finFET工藝節(jié)點(diǎn)時(shí)。此外,旨在使DCAP對(duì)ESD損害更有抵抗的設(shè)計(jì)常常會(huì)受到高面積效率和高頻工作之間的固有折中的阻礙。
發(fā)明內(nèi)容
在實(shí)施例中,提供了在不犧牲面積效率的情況下產(chǎn)生高工作頻率的去耦電容器(DCAP)電路。為了解除高工作頻率和面積效率的有時(shí)相反的設(shè)計(jì)要求,以半交叉耦合(HCC)的方式來(lái)連接p溝道場(chǎng)效應(yīng)晶體管(PFET)和n溝道場(chǎng)效應(yīng)晶體管,并且由至少一個(gè)面積有效電容(AEC)器件來(lái)補(bǔ)充由此產(chǎn)生的HCC電路。半交叉耦合FET滿(mǎn)足了高頻設(shè)計(jì)要求,同時(shí)AEC器件滿(mǎn)足了高面積效率要求。因此,HCC FET的尺寸能夠獨(dú)立于面積效率來(lái)設(shè)置電路的工作頻率,同時(shí)AEC器件的尺寸能夠獨(dú)立于工作頻率來(lái)設(shè)置面積效率。從而,本文所描述的DCAP設(shè)計(jì)消除了一些常規(guī)的DCAP設(shè)計(jì)中工作頻率和面積效率之間固有的不期望的折中。
一個(gè)實(shí)施例提供了一種去耦電容器電路,其包括第一p溝道場(chǎng)效應(yīng)晶體管(PFET);第一n溝道場(chǎng)效應(yīng)晶體管(NFET);以及至少一個(gè)電容器件,其中第一PFET的第一PFET源極和第一PFET主體連接到電壓源,第一NFET的第一NFET源極和第一NFET主體接地,至少一個(gè)電容器件連接到第一PFET的第一PFET柵極或第一NFET的第一NFET柵極中的至少一個(gè),并且包含至少一個(gè)電容器件,在不改變?nèi)ヱ铍娙萜麟娐返念l率響應(yīng)的情況下增加了去耦電容器電路的面積效率。
提供了一種用于抑制電源噪聲的方法,其包括:將第一p溝道場(chǎng)效應(yīng)晶體管(PFET)的第一源極和第一主體連接到電壓源;將n溝道場(chǎng)效應(yīng)晶體管(NFET)的第二源極和第二主體接地;將第一PFET的第一漏極連接到NFET的第一柵極;將NFET的第二漏極連接到第一PFET的第二柵極;將第二PFET的第三漏極、第三源極和第三主體連接到電壓源;以及將第二PFET的第三柵極連接到第一PFET的第二柵極。
一個(gè)實(shí)施例提供了一種用于抑制電源噪聲的系統(tǒng),其包括:第一p溝道場(chǎng)效應(yīng)晶體管(PFET),其中第一PFET的第一PFET源極和第一PFET主體連接到電壓源;第一n溝道場(chǎng)效應(yīng)晶體管(NFET),其中第一NFET的第一NFET源極和第一NFET主體接地;以及第二NFET,其中第一PFET的第一PFET漏極連接到第一NFET的第一NFET柵極,第一NFET的第一NFET漏極連接到PFET的第一PFET柵極,第二NFET的第二NFET漏極、第二NFET源極和第二NFET主體接地,并且第二NFET的第二NFET柵極連接到第一NFET的第一NFET柵極。
附圖說(shuō)明
圖1是示出了DCAP設(shè)計(jì)的示例性方法的電路圖。
圖2是示出了示例性半交叉耦合DCAP設(shè)計(jì)方法的電路圖。
圖3是提供了高面積效率和高頻工作的示例性DCAP設(shè)計(jì)的電路圖。
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