[發(fā)明專利]首飾用Pt合金有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580080589.3 | 申請日: | 2015-12-01 |
| 公開(公告)號: | CN107614713B | 公開(公告)日: | 2020-05-19 |
| 發(fā)明(設計)人: | 成瀨重靖 | 申請(專利權)人: | 株式會社光輝工房;成瀨重靖 |
| 主分類號: | C22C5/04 | 分類號: | C22C5/04;B22D21/00 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產(chǎn)權代理有限公司 11322 | 代理人: | 龍淳;程采 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 首飾 pt 合金 | ||
1.一種首飾用Pt合金,其特征在于:
在Pt合金中,Ga為0.5~4.0質(zhì)量%、In為0.5~3.5質(zhì)量%、Sn為0.5~1質(zhì)量%,所述Ga、In和Sn的合計含量為5質(zhì)量%,剩余部分為95質(zhì)量%的Pt。
2.一種首飾用Pt合金,其特征在于:
在Pt合金中,Ga為0.5~3.5質(zhì)量%、In為0.5~3.5質(zhì)量%、Sn為0.5~1質(zhì)量%、Ag為0.5~3.0質(zhì)量%,所述Ga、In、Sn和Ag的合計含量為5質(zhì)量%,剩余部分為95質(zhì)量%的Pt。
3.一種首飾用Pt合金,其特征在于:
在Pt合金中,Ga為0.5~4.0質(zhì)量%、In為0.5~3.5質(zhì)量%、Sn為0.5~1質(zhì)量%,所述Ga、In和Sn以Ga-In-Sn的三元體系共晶合金形式添加,總量為5質(zhì)量%,剩余部分為95質(zhì)量%的Pt。
4.一種首飾用Pt合金,其特征在于:
在Pt合金中,Ga為0.5~3.5質(zhì)量%、In為0.5~3.5質(zhì)量%、Sn為0.5~1質(zhì)量%、Ag為0.5~3.0質(zhì)量%,所述Ga、In、Sn和Ag以Ga-In-Sn-Ag的四元體系共晶合金形式添加,總量為5質(zhì)量%,剩余部分為95質(zhì)量%的Pt。
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