[發明專利]溫度測量裝置、溫度測量方法和存儲介質有效
| 申請號: | 201580079711.5 | 申請日: | 2015-05-13 |
| 公開(公告)號: | CN107615028B | 公開(公告)日: | 2019-12-10 |
| 發明(設計)人: | 宇野和史;笠島丈夫;有岡孝祐;福田裕幸 | 申請(專利權)人: | 富士通株式會社 |
| 主分類號: | G01K11/32 | 分類號: | G01K11/32 |
| 代理公司: | 11127 北京三友知識產權代理有限公司 | 代理人: | 黃綸偉;黃志堅 |
| 地址: | 日本神奈*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 溫度 測量 裝置 測量方法 程序 | ||
1.一種溫度測量裝置,其特征在于,該溫度測量裝置具有:
檢測器,其從光入射到光纖的第1端的情況下的后向散射光中檢測第1斯托克斯成分和第1反斯托克斯成分,從光入射到所述光纖的第2端的情況下的后向散射光中檢測第2斯托克斯成分和第2反斯托克斯成分;
校正部,在所述光纖的包含所述第1端側的局部區域的采樣點在內的規定區域中,在所述第1斯托克斯成分及所述第1反斯托克斯成分與所述第2反斯托克斯成分之間的相關度中的至少任意一方的大小為第1閾值以下的情況下,該校正部將所述第2反斯托克斯成分置換為與所述第1斯托克斯成分、所述第1反斯托克斯成分和所述第2斯托克斯成分對應的值;以及
測量部,其使用所述第1斯托克斯成分、所述第1反斯托克斯成分、所述第2斯托克斯成分和通過所述校正部被置換后的所述第2反斯托克斯成分來測量所述采樣點的溫度。
2.根據權利要求1所述的溫度測量裝置,其特征在于,
所述溫度測量裝置具有光開關,該光開關使來自光源的光交替地入射到所述第1端和所述第2端,
在所述光從所述光開關向所述第1端入射時的第1斯托克斯成分及第1反斯托克斯成分與接下來所述光從所述光開關向所述第2端入射時的第2反斯托克斯成分之間的相關度中的至少任意一方的大小為所述第1閾值以下的情況下,所述校正部將所述第2反斯托克斯成分置換為與所述第1斯托克斯成分、所述第1反斯托克斯成分和如下的第2斯托克斯成分對應的值,該第2斯托克斯成分是在與所述第2反斯托克斯成分相同的時刻檢測到的。
3.根據權利要求1或2所述的溫度測量裝置,其特征在于,
所述校正部在將所述第2反斯托克斯成分置換為與所述第1斯托克斯成分、所述第1反斯托克斯成分和所述第2斯托克斯成分對應的值的情況下,使用對包含所述采樣點的規定的可變范圍內的所述第2斯托克斯成分進行平滑化后的值,作為所述第2斯托克斯成分,
所述可變范圍是如下的長度的范圍,該長度的范圍對應于所述采樣點處的所述第1斯托克斯成分及所述第1反斯托克斯成分與所述第2斯托克斯成分之間的相關度中的至少任意一方的大小。
4.根據權利要求3所述的溫度測量裝置,其特征在于,
所述相關度越小,所述校正部越加長所述可變范圍。
5.根據權利要求3所述的溫度測量裝置,其特征在于,
所述校正部對所述可變范圍設定上限。
6.根據權利要求1或2所述的溫度測量裝置,其特征在于,
所述校正部在將所述第2反斯托克斯成分置換為與所述第1斯托克斯成分、所述第1反斯托克斯成分和所述第2斯托克斯成分對應的值的情況下,還使用對包含所述采樣點的規定的固定范圍內的所述第1斯托克斯成分、所述第1反斯托克斯成分、所述第2斯托克斯成分和所述第2反斯托克斯成分進行平滑化后的值。
7.根據權利要求1或2所述的溫度測量裝置,其特征在于,
所述校正部在所述相關度為比所述第1閾值大的第2閾值以上時,不對所述第2反斯托克斯成分進行置換。
8.根據權利要求1或2所述的溫度測量裝置,其特征在于,
使用皮爾森積矩相關系數作為所述相關度的大小。
9.根據權利要求1或2所述的溫度測量裝置,其特征在于,
使用斯皮爾曼等級積矩相關系數作為所述相關度的大小。
10.根據權利要求1或2所述的溫度測量裝置,其特征在于,
所述規定區域是比如下的溫度分布的半值寬度大且比1次成分寬度小的區域,其中,該溫度分布是使所述采樣點的周圍的光纖成為一定溫度、對以所述采樣點為中心的最小加熱長度區間賦予了與該一定溫度不同的一定的溫度時得到的溫度分布。
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