[發(fā)明專利]層厚度的計算有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580079475.7 | 申請日： | 2015-07-31 |
| 公開（公告）號： | CN107548448B | 公開（公告）日： | 2020-11-20 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 阿維沙·莫什爾 | 申請（專利權(quán)）人： | 惠普深藍(lán)有限責(zé)任公司 |
| 主分類號： | G01B11/06 | 分類號： | G01B11/06;B41F33/00 |
| 代理公司： | 北京德琦知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11018 | 代理人： | 潘懷仁;王珍仙 |
| 地址： | 荷蘭阿姆*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 厚度 計算 | ||
1.一種測量透明或半透明層的厚度的方法，包括：
測量基底的測量區(qū)域中的光學(xué)參數(shù)的第一值，所述測量區(qū)域具有第一層和第二層，所述第一層和所述第二層相對于所述基底一層設(shè)置在另一層的上方，所述第二層為所述透明或半透明層；
測量在缺少所述第二層的情況下所述第一層的所述光學(xué)參數(shù)的第二值；
確定所述光學(xué)參數(shù)的所述第一值與所述第二值之間的差異；以及
基于所確定的差異計算所述第二層的厚度，
其中所述光學(xué)參數(shù)選自由下述組成的列表中：光密度、半色調(diào)直徑、點面積和光澤度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述第二層的所述厚度的所述計算是基于所確定的差異與預(yù)定的關(guān)系之間的比較進(jìn)行的。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中所述預(yù)定的關(guān)系是基底依賴性的校準(zhǔn)。
4.一種用于執(zhí)行權(quán)利要求1至3中任一項所述的方法的成像系統(tǒng)，其包括：
包括光源和傳感器的測量裝置，所述測量裝置用于測量所述光學(xué)參數(shù)的所述第一值和所述第二值；以及
處理電路，用于確定所述差異并基于所確定的差異計算所述第二層的厚度。
5.一種打印機(jī)，其包括如權(quán)利要求4所述的成像系統(tǒng)，其中所述測量和所述第二層的厚度的計算用所述打印機(jī)在線進(jìn)行。
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