[發(fā)明專利]傳動(dòng)機(jī)構(gòu)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201580079421.0 | 申請(qǐng)日: | 2015-05-20 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107534382A | 公開(公告)日: | 2018-01-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | W.施托爾;K.施托爾;L.扎維茨基;G.貝爾納;J.費(fèi)爾斯特;V.尼科利尼;E.施特格邁爾;M.施托克 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 費(fèi)斯托股份有限兩合公司 |
| 主分類號(hào): | H02K49/10 | 分類號(hào): | H02K49/10 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 趙辛,傅永霄 |
| 地址: | 德國(guó)埃*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 傳動(dòng) 機(jī)構(gòu) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種傳動(dòng)機(jī)構(gòu),該傳動(dòng)機(jī)構(gòu)包括用于提供主動(dòng)旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的主動(dòng)元件、用于根據(jù)主動(dòng)旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)執(zhí)行相對(duì)于主動(dòng)元件的從動(dòng)運(yùn)動(dòng)的從動(dòng)元件、附屬于主動(dòng)元件的第一離合裝置和附屬于從動(dòng)元件的第二離合裝置。
背景技術(shù)
由現(xiàn)有技術(shù)已知傳動(dòng)機(jī)構(gòu),其中主動(dòng)元件與從動(dòng)元件通過(guò)機(jī)械的離合裝置、例如機(jī)械的相互嵌接的齒輪相互耦聯(lián)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是,提供一種具有減振特性的改進(jìn)的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)。
這個(gè)目的對(duì)于上述形式的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)通過(guò)獨(dú)立權(quán)利要求1的特征得以實(shí)現(xiàn)。在此規(guī)定,一個(gè)離合裝置包括一個(gè)磁裝置,并且另一離合裝置包括一個(gè)超導(dǎo)體裝置,并且所述主動(dòng)元件與從動(dòng)元件由于離合裝置的磁的交互作用無(wú)接觸力傳遞地相互耦聯(lián),由此使主動(dòng)旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)轉(zhuǎn)換成從動(dòng)運(yùn)動(dòng)。
即,按照本發(fā)明充分利用在磁裝置與超導(dǎo)體裝置之間的磁的交互作用,用于實(shí)現(xiàn)主動(dòng)元件與從動(dòng)元件無(wú)接觸力傳遞的耦聯(lián)。由此可以實(shí)現(xiàn)主動(dòng)旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)轉(zhuǎn)換成從動(dòng)運(yùn)動(dòng),無(wú)需所述主動(dòng)元件與從動(dòng)元件相互間的機(jī)械接觸。因此,按照本發(fā)明的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)可以非常廣泛地應(yīng)用并且尤其也在需要在主動(dòng)元件與從動(dòng)元件之間空間隔離的情況下使用。例如,當(dāng)期望電勢(shì)隔離、即主動(dòng)元件與從動(dòng)元件的各自電加載隔離的時(shí)候,可以使用按照本發(fā)明的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)。通過(guò)在主動(dòng)元件與從動(dòng)元件之間無(wú)接觸的耦聯(lián)能夠,使兩個(gè)元件相互間隔地運(yùn)行,由此使它們?cè)陔娚舷嗷ソ^緣。以類似的方式所述主動(dòng)元件和從動(dòng)元件由于無(wú)接觸的耦聯(lián)并由此能夠間隔地運(yùn)行可以相互間隔熱。
以在磁裝置與超導(dǎo)體裝置之間磁的交互作用為基礎(chǔ)的無(wú)接觸力傳遞耦聯(lián)還具有優(yōu)點(diǎn),可以實(shí)現(xiàn)在主動(dòng)元件與從動(dòng)元件之間至少部分地隔振。此外,所述主動(dòng)元件和從動(dòng)元件可以這樣構(gòu)成,超過(guò)可傳遞的最大力或最大扭矩導(dǎo)致在主動(dòng)元件與從動(dòng)元件之間脫離耦聯(lián),由此實(shí)現(xiàn)過(guò)負(fù)荷保護(hù),不會(huì)導(dǎo)致不期望的主動(dòng)元件和/或從動(dòng)元件的機(jī)械負(fù)荷。因此通過(guò)在傳動(dòng)機(jī)構(gòu)中使用這種在磁裝置與超導(dǎo)體裝置之間磁的交互作用得到組合的安全功能的優(yōu)點(diǎn),這種安全能夠從確定的負(fù)荷開始自動(dòng)地解除在主動(dòng)元件與從動(dòng)元件之間的耦聯(lián),并且接著也自動(dòng)地再建立耦聯(lián)。因此尤其可以防止,太高的扭矩加載到從動(dòng)元件上。
通過(guò)利用在磁裝置與超導(dǎo)體裝置之間無(wú)接觸的磁的交互作用和放棄直接的機(jī)械耦聯(lián)還無(wú)需潤(rùn)滑主動(dòng)元件和從動(dòng)元件。這帶來(lái)優(yōu)點(diǎn),實(shí)現(xiàn)沒有潤(rùn)滑劑臟污或粘滯該系統(tǒng)。通過(guò)在主動(dòng)元件與從動(dòng)元件之間無(wú)接觸的力傳遞按照本發(fā)明的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)也可以在流體或粉末中運(yùn)行,因?yàn)闉榱藗鬟f力和/或扭矩在主動(dòng)元件與從動(dòng)元件之間無(wú)需機(jī)械接觸。
此外,與傳統(tǒng)的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)相比所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)可以更方便地清潔,因?yàn)橹鲃?dòng)元件與從動(dòng)元件無(wú)接觸地耦聯(lián),并因此可以相互間隔地運(yùn)行。
最后與傳統(tǒng)的機(jī)械離合器相比,以磁的交互作用為基礎(chǔ)的離合器沒有摩擦,由此使磨損和熱生成最小化。
通過(guò)在磁裝置與超導(dǎo)體裝置之間磁的交互作用實(shí)現(xiàn)在主動(dòng)元件與從動(dòng)元件之間無(wú)接觸力傳遞的耦聯(lián),最好以在超導(dǎo)體中所謂的Flux-Pinning效應(yīng)或者磁流錨接效應(yīng)為基礎(chǔ)。在這種效應(yīng)中確定的磁場(chǎng)幾何形狀或者磁流方向在超導(dǎo)體冷卻到其材料特有的躍變溫度上或以下期間通過(guò)從外部施加的磁場(chǎng)在一定程度上被編程或者存儲(chǔ)。然后在保持或者繼續(xù)超過(guò)躍變溫度時(shí)相對(duì)于由磁裝置提供的外部磁場(chǎng)所述超導(dǎo)體優(yōu)選占據(jù)那個(gè)位置,在這個(gè)位置穿透超導(dǎo)體的磁場(chǎng)幾何形狀與在超導(dǎo)體中存儲(chǔ)的磁場(chǎng)幾何形狀最好地一致。為了充分利用這種效應(yīng)第二種超導(dǎo)體尤其是適合的,例如陶瓷的高溫超導(dǎo)體。作為這種超導(dǎo)體的示例在這里列舉YBaCuO(釔鋇銅氧化物)和BiSrCaCuO(鉍鍶鈣銅氧化物)。
可以由此實(shí)現(xiàn)磁場(chǎng)幾何形狀在超導(dǎo)體中的存儲(chǔ),首先使磁場(chǎng)布置在所期望的相對(duì)于超導(dǎo)體的空間位置里面,其中所述超導(dǎo)體對(duì)于這個(gè)時(shí)刻具有其躍變溫度以上的溫度。接著冷卻超導(dǎo)體到其躍變溫度或以下,由此由磁鐵提供的磁場(chǎng)的幾何形狀按照意義地存儲(chǔ)在超導(dǎo)體里面。在保持超導(dǎo)體躍變溫度時(shí)磁鐵相對(duì)于超導(dǎo)體的空間位置的變化導(dǎo)致反應(yīng)力,由此可以無(wú)接觸地保持在磁鐵與超導(dǎo)體之間所期望的空間關(guān)系。這種保持在磁鐵與超導(dǎo)體之間的空間關(guān)系在下面也稱為磁耦聯(lián)。
因此例如可以在提供磁裝置時(shí)可以實(shí)現(xiàn)以適合的磁場(chǎng)和存儲(chǔ)相應(yīng)的磁場(chǎng)幾何形狀在超導(dǎo)體裝置里面,所述超導(dǎo)體裝置與磁裝置保持給定的距離。這能夠?qū)崿F(xiàn)在主動(dòng)元件與從動(dòng)元件之間的固有的距離調(diào)節(jié),因?yàn)槿缟纤龈淖兇叛b置相對(duì)于超導(dǎo)體裝置的空間位置導(dǎo)致相應(yīng)的反應(yīng)力,它反作用于這個(gè)改變。在此要補(bǔ)充地解釋,這個(gè)固有的距離調(diào)節(jié)也提供在主動(dòng)元件與從動(dòng)元件之間一定的緩沖。
本發(fā)明的有利改進(jìn)方案是從屬權(quán)利要求的內(nèi)容。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于費(fèi)斯托股份有限兩合公司,未經(jīng)費(fèi)斯托股份有限兩合公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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