[發明專利]三維對象制造

在審

• 申請號: 201580079336.4
• 申請日: 2015-07-30
• 公開（公告）號: CN107548345A
• 公開（公告）日: 2018-01-05
• 發明（設計）人: 大衛·拉米雷斯·穆埃拉;趙利華;亞歷杭德羅·曼紐爾·德·佩尼亞
• 申請（專利權）人: 惠普發展公司有限責任合伙企業
• 主分類號: B29C64/10
• 分類號: B29C64/10;B29C64/20;B33Y30/00
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司11018
• 代理人: 袁媛,王珍仙

1.制造三維對象的裝置，所述裝置：

將第一流體施加在顆粒材料層上，所述第一流體包括著色劑；并且

將第二流體施加在所述顆粒材料層上，所述第二流體包括吸收電磁輻射的吸收劑；

其中所述裝置根據所述第一流體吸收電磁輻射的能力，將所述第二流體施加至所述顆粒材料層。

2.根據權利要求1所述的裝置，其中所述裝置將一定數量的所述第二流體施加至所述顆粒材料層，并且根據所述第一流體吸收電磁輻射的能力來確定所述數量。

3.根據權利要求1所述的裝置，其中所述裝置根據所述第一流體吸收電磁輻射的能力，從各自具有不同的電磁吸收特性的多種流體選擇所述第二流體。

4.制造三維對象的裝置，所述裝置包括：

分配裝置，以將第一流體和第二流體分配在顆粒材料層上，所述第一流體包括著色劑，并且所述第二流體包括吸收電磁輻射的吸收劑；和

處理器，以控制所述分配裝置，從而在所述第一流體的電磁輻射吸收特性的基礎上，分配所述第二流體。

5.根據權利要求4所述的裝置，包括電磁輻射源，以發射具有與所述吸收劑吸收電磁輻射并將吸收的電磁輻射轉化為熱能的波長相對應的波長的電磁輻射。

6.根據權利要求4所述的裝置，包括提供機構，以提供所述顆粒材料層。

7.根據權利要求4所述的裝置，其中所述分配裝置包括第一分配器和第二分配器，其中所述第一分配器分配所述第一流體，并且所述第二分配器分配所述第二流體。

8.根據權利要求4所述的裝置，其中所述分配器分配多種著色劑中的一種，并且所述處理器基于所述著色劑的顏色來控制所述第二流體的分配量。

9.一種制造三維對象的方法，所述方法包括：

將第一流體施加在顆粒材料層上，所述第一流體包括著色劑；和

將第二流體施加在所述顆粒材料層上，所述第二流體包括吸收電磁輻射的吸收劑；

其中所述第二流體的施加取決于所述第一流體吸收電磁輻射的能力。

10.根據權利要求9所述的方法，包括：

基于所述著色劑的顏色，控制施加在所述顆粒材料層上的所述第二流體的量。

11.根據權利要求9所述的方法，包括：用電磁輻射來照射具有施加至其的第一流體和第二流體的所述顆粒材料層，從而在所述顆粒材料層的已施有所述第一流體和所述第二流體中的至少一個的部分的附近熔化、燒結或熔合所述顆粒材料。

12.根據權利要求11所述的方法，包括在所述顆粒材料層上提供另一層顆粒材料。

13.根據權利要求9所述的方法，包括將第三流體施加在所述顆粒材料層的既未施加也不會施加所述第一流體和所述第二流體的部分，所述第三流體用來減少通過用電磁輻射的照射對所述顆粒材料層的加熱。

14.根據權利要求9的所述方法，其中所述顆粒材料層上施有所述第一流體的區域基本上與所述顆粒材料層上施有所述第二流體的區域重疊。

15.根據權利要求9所述的方法，包括將所述第一流體施加至所述顆粒材料層的位于所述三維對象的外表面的部分，并將所述第二流體施加于所述顆粒材料層的位于所述三維對象的核內的部分。