[發(fā)明專利]X射線檢查裝置、X射線檢查方法及構(gòu)造物的制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201580079138.8 | 申請(qǐng)日: | 2015-04-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107533018B | 公開(公告)日: | 2021-06-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 八嶋紘寬;道本隆裕;坂口直史 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社尼康 |
| 主分類號(hào): | G01N23/046 | 分類號(hào): | G01N23/046;G01N23/18;G01N23/083 |
| 代理公司: | 北京中原華和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11019 | 代理人: | 壽寧;張華輝 |
| 地址: | 日本東京都*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 射線 檢查 裝置 方法 構(gòu)造 制造 | ||
1.X射線檢查裝置,其特征在于具備:
射線源,用于向檢查對(duì)象照射X射線;
檢測(cè)器,用于檢測(cè)從所述射線源發(fā)射并透射所述檢查對(duì)象的透射X射線,并輸出從多個(gè)方向透射所述檢查對(duì)象的X射線的檢測(cè)數(shù)據(jù);
生成單元,復(fù)合多個(gè)所述檢測(cè)數(shù)據(jù)從而生成復(fù)合數(shù)據(jù);
設(shè)定單元,用所述復(fù)合數(shù)據(jù),在檢查時(shí)設(shè)定所述射線源與所述檢查對(duì)象以及所述檢測(cè)器之間相對(duì)的位置關(guān)系。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線檢查裝置,其特征在于,進(jìn)一步具備:
變更單元,用于基于所述設(shè)定單元設(shè)定的相對(duì)位置關(guān)系,變更所述射線源與所述檢查對(duì)象以及所述檢測(cè)器各自之間的相對(duì)距離。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的X射線檢查裝置,其特征在于,具備:
計(jì)算單元,用于計(jì)算所述射線源與所述檢查對(duì)象以及所述檢測(cè)器各自之間的相對(duì)距離的變更量,
所述變更單元根據(jù)所述計(jì)算單元所算出的所述變更量來變更所述相對(duì)距離。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的X射線檢查裝置,其特征在于,具備:
區(qū)域提取單元,用所述復(fù)合數(shù)據(jù),提取所述檢查對(duì)象在所述檢測(cè)器上投影區(qū)域;
所述計(jì)算單元根據(jù)所述區(qū)域提取單元所提取的區(qū)域計(jì)算所述相對(duì)位置關(guān)系。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的X射線檢查裝置,其特征在于,
所述區(qū)域提取單元提取所述復(fù)合數(shù)據(jù)中的所述檢查對(duì)象的外緣部作為所述提取投影區(qū)域。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的X射線檢查裝置,其特征在于,
在所述提取投影區(qū)域的外緣部中,所述區(qū)域提取單元提取第一方向最外緣部及第二方向最外緣部,第一方向最外緣部在與旋轉(zhuǎn)軸垂直的第一方向上與所述檢測(cè)器的檢測(cè)范圍的距離最短;第二方向最外緣部在沿旋轉(zhuǎn)軸的第二方向上與所述檢測(cè)器的檢測(cè)范圍的距離最短,
所述計(jì)算單元基于所述第一方向最外緣部及所述第二方向最外緣部中距所述檢測(cè)器的檢測(cè)范圍的距離較短的最外緣部,計(jì)算所述相對(duì)距離的變更量。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的X射線檢查裝置,其特征在于,
在所述復(fù)合數(shù)據(jù)中,在第一線段與第二線段所圍成的矩形區(qū)域內(nèi),所述計(jì)算單元基于所述第一線段與所述檢測(cè)器的檢測(cè)區(qū)域中沿所述第一方向的長(zhǎng)度的第一比率及所述第二線段與所述檢測(cè)器的檢測(cè)范圍中沿所述第二方向的長(zhǎng)度的第二比率中的一者,計(jì)算所述相對(duì)距離的變更量,其中,第一線段與所述提取投影區(qū)域的外緣部接觸且沿著第一方向;第二線段與所述提取投影區(qū)域的外緣部接觸且沿著與所述第一方向相交的第二方向。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的X射線檢查裝置,其特征在于,
所述計(jì)算單元對(duì)基于所述第一比率的所述相對(duì)距離的第一變更量與基于所述第二比率的所述相對(duì)距離的第二變更量進(jìn)行比較,并計(jì)算所述第一及第二變更量中的較小值作為所述相對(duì)距離的變更量。
9.根據(jù)權(quán)利要求4至8中任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的X射線檢查裝置,其中,所述區(qū)域提取單元通過對(duì)所述復(fù)合數(shù)據(jù)進(jìn)行二值化處理來提取所述提取投影區(qū)域。
10.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的X射線檢查裝置,其特征在于,
所述變更單元基于所述計(jì)算單元所算出的所述相對(duì)距離的變更量,使所述檢查對(duì)象或所述射線源沿所述射線源的光軸方向移動(dòng),從而變更所述相對(duì)距離。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的X射線檢查裝置,其特征在于,具備:
旋轉(zhuǎn)放置單元,用于放置所述檢查對(duì)象并使其旋轉(zhuǎn),
所述變更單元使所述旋轉(zhuǎn)放置單元沿所述射線源的光軸方向移動(dòng),從而變更所述檢查對(duì)象與所述射線源的相對(duì)距離。
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