[發明專利]作為電鍍浴添加劑的雙酸酐與二胺的反應產物有效
| 申請號: | 201580078540.4 | 申請日: | 2015-04-28 |
| 公開(公告)號: | CN107531859B | 公開(公告)日: | 2020-02-14 |
| 發明(設計)人: | 段鈴麗;陳晨;S·馮;Z·I·尼亞茲伊別特娃;M·A·瑞茲尼克 | 申請(專利權)人: | 羅門哈斯電子材料有限責任公司;陶氏環球技術有限責任公司 |
| 主分類號: | C08G12/06 | 分類號: | C08G12/06;C08L61/32 |
| 代理公司: | 31100 上海專利商標事務所有限公司 | 代理人: | 陳哲鋒 |
| 地址: | 美國馬*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 金屬電鍍 表面特征 沉積金屬 金屬鍍覆 平坦表面 伯二胺 金屬層 仲二胺 襯底 可用 通孔 沉積 添加劑 | ||
1.一種組合物,包含一種或多種金屬離子來源、電解質和一種或多種包含伯胺或仲胺部分的二胺與一種或多種具有下式的化合物的反應產物:
其中R是連接基團,其中所述一種或多種包含伯胺或仲胺部分的二胺具有下式:
其中R13和R14可相同或不同并且包含氫、直鏈或支鏈(C1-C12)烷基、或經取代或未經取代的(C6-C18)芳基,其中R’具有下式:
其中R15-R22可相同或不同并且包含氫、直鏈或支鏈(C1-C5)烷基、直鏈或支鏈羥基(C1-C5)烷基或直鏈或支鏈(C1-C5)烷氧基,并且a、b、c和d可相同或不同并且是1或更大的數字;
其中R包含:
或
其中R1、R2、R3和R4可相同或不同并且包含氫、直鏈或支鏈(C1-C4)烷基、羥基、羥基(C1-C3)烷基、羧基、羧基(C1-C3)烷基或(C1-C3)烷氧基;R5和R6可相同或不同并且包含氫、羧基和羧基(C1-C3)烷基;R7、R8、R9和R10可相同或不同并且包含氫、直鏈或支鏈(C1-C5)烷基、直鏈或支鏈羥基(C1-C5)烷基、羧基(C1-C3)烷基、直鏈或支鏈(C1-C5)烷氧基;R11和R12可相同或不同并且包含氫或直鏈或支鏈(C1-C5)烷基,Ar是具有5至6個碳原子的芳基;n和m可相同或不同并且是1至15的整數;并且q、r和t可相同或不同,是1至10的整數。
2.根據權利要求1所述的組合物,其中所述組合物的一種或多種金屬離子來源選自銅鹽和錫鹽。
3.一種方法,包含:
a)使有待金屬鍍覆的襯底與權利要求1的組合物接觸;
b)向所述襯底施加電流;以及
c)在所述襯底上鍍覆金屬。
4.根據權利要求3所述的方法,其中所述襯底包含多個通孔和通道。
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