[發(fā)明專利]波面計(jì)測(cè)裝置和波面計(jì)測(cè)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201580077921.0 | 申請(qǐng)日： | 2015-03-27 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN107430046B | 公開(kāi)（公告）日： | 2019-08-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 佐藤陽(yáng)輔 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 奧林巴斯株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | G01M11/00 | 分類號(hào)： | G01M11/00 |
| 代理公司： | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人： | 黃綸偉;于英慧 |
| 地址： | 日本*** | 國(guó)省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 波面計(jì)測(cè) 裝置 方法 | ||
1.一種波面計(jì)測(cè)裝置，其具有光源部、保持部、受光光學(xué)系統(tǒng)、波面測(cè)定部、波面數(shù)據(jù)生成部，
所述光源部配置在計(jì)測(cè)軸的一側(cè)，
所述波面測(cè)定部配置在所述計(jì)測(cè)軸的另一側(cè)，
所述保持部配置在所述光源部與所述波面測(cè)定部之間，
所述受光光學(xué)系統(tǒng)配置在所述保持部與所述波面測(cè)定部之間，
所述保持部具有保持被檢光學(xué)系統(tǒng)的開(kāi)口部，
從所述光源部朝向所述被檢光學(xué)系統(tǒng)照射光束，
利用所述波面測(cè)定部測(cè)定透射過(guò)所述被檢光學(xué)系統(tǒng)的光束，
利用所述波面數(shù)據(jù)生成部，根據(jù)由所述波面測(cè)定部測(cè)定出的結(jié)果生成波面像差數(shù)據(jù)，其特征在于，
通過(guò)所述受光光學(xué)系統(tǒng)，所述開(kāi)口部附近和所述波面測(cè)定部附近在光學(xué)上共軛，
所述光束的測(cè)定至少包含使所述開(kāi)口部的中心從所述計(jì)測(cè)軸離開(kāi)規(guī)定距離的狀態(tài)下的測(cè)定。
2.一種波面計(jì)測(cè)裝置，其具有光源部、保持部、第1移動(dòng)機(jī)構(gòu)、受光光學(xué)系統(tǒng)、波面測(cè)定部、波面數(shù)據(jù)生成部，
所述光源部配置在計(jì)測(cè)軸的一側(cè)，
所述波面測(cè)定部配置在所述計(jì)測(cè)軸的另一側(cè)，
所述保持部配置在所述光源部與所述波面測(cè)定部之間，
所述受光光學(xué)系統(tǒng)配置在所述保持部與所述波面測(cè)定部之間，
所述保持部具有保持被檢光學(xué)系統(tǒng)的開(kāi)口部，
從所述光源部朝向所述被檢光學(xué)系統(tǒng)照射光束，
利用所述波面測(cè)定部測(cè)定透射過(guò)所述被檢光學(xué)系統(tǒng)的光束，
利用所述波面數(shù)據(jù)生成部，根據(jù)由所述波面測(cè)定部測(cè)定出的結(jié)果生成波面像差數(shù)據(jù)，其特征在于，
通過(guò)所述受光光學(xué)系統(tǒng)，所述開(kāi)口部附近和所述波面測(cè)定部附近在光學(xué)上共軛，
所述第1移動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述被檢光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)到所述計(jì)測(cè)軸周圍的多個(gè)位置，
所述光束在所述被檢光學(xué)系統(tǒng)上的透射區(qū)域在所述多個(gè)位置分別不同，
所述波面測(cè)定部在所述多個(gè)位置分別測(cè)定透射過(guò)所述被檢光學(xué)系統(tǒng)的光束，
所述波面數(shù)據(jù)生成部根據(jù)在所述多個(gè)位置分別測(cè)定的結(jié)果生成所述波面像差數(shù)據(jù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的波面計(jì)測(cè)裝置，其特征在于，
所述開(kāi)口部、所述受光光學(xué)系統(tǒng)、所述波面測(cè)定部被定位成，所述開(kāi)口部與所述波面測(cè)定部共軛。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的波面計(jì)測(cè)裝置，其特征在于，
所述開(kāi)口部、所述受光光學(xué)系統(tǒng)、所述波面測(cè)定部被定位成，所述被檢光學(xué)系統(tǒng)的后側(cè)主點(diǎn)與所述波面測(cè)定部共軛。
5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中的任意一項(xiàng)所述的波面計(jì)測(cè)裝置，其特征在于，
所述受光光學(xué)系統(tǒng)至少具有位于最靠光源部側(cè)的位置的前側(cè)光學(xué)系統(tǒng)和位于最靠波面測(cè)定部側(cè)的位置的后側(cè)光學(xué)系統(tǒng)，
所述前側(cè)光學(xué)系統(tǒng)的后側(cè)焦點(diǎn)位置和所述后側(cè)光學(xué)系統(tǒng)的前側(cè)焦點(diǎn)位置一致或共軛。
6.根據(jù)權(quán)利要求1～5中的任意一項(xiàng)所述的波面計(jì)測(cè)裝置，其特征在于，
在所述光源部與所述保持部之間具有投光光學(xué)系統(tǒng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1～6中的任意一項(xiàng)所述的波面計(jì)測(cè)裝置，其特征在于，
所述投光光學(xué)系統(tǒng)與所述受光光學(xué)系統(tǒng)共軸。
8.根據(jù)權(quán)利要求1～7中的任意一項(xiàng)所述的波面計(jì)測(cè)裝置，其特征在于，
所述投光光學(xué)系統(tǒng)生成會(huì)聚光束。
9.根據(jù)權(quán)利要求1～8中的任意一項(xiàng)所述的波面計(jì)測(cè)裝置，其特征在于，
所述投光光學(xué)系統(tǒng)和所述保持部被定位成，所述會(huì)聚光束的會(huì)聚點(diǎn)的位置與所述被檢光學(xué)系統(tǒng)的前側(cè)焦點(diǎn)位置一致。
10.根據(jù)權(quán)利要求1～9中的任意一項(xiàng)所述的波面計(jì)測(cè)裝置，其特征在于，
所述投光光學(xué)系統(tǒng)能夠在所述計(jì)測(cè)軸方向上進(jìn)行驅(qū)動(dòng)。
11.根據(jù)權(quán)利要求1～10中的任意一項(xiàng)所述的波面計(jì)測(cè)裝置，其特征在于，
所述投光光學(xué)系統(tǒng)是變焦鏡頭。
12.根據(jù)權(quán)利要求1～11中的任意一項(xiàng)所述的波面計(jì)測(cè)裝置，其特征在于，
所述第1移動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述被檢光學(xué)系統(tǒng)旋轉(zhuǎn)，使所述透射區(qū)域變化。
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