[發明專利]從多晶金剛石中電化學去除金屬或其他物質有效
| 申請號: | 201580077867.X | 申請日: | 2015-06-03 |
| 公開(公告)號: | CN107406996B | 公開(公告)日: | 2019-06-04 |
| 發明(設計)人: | 梁齊 | 申請(專利權)人: | 哈利伯頓能源服務公司 |
| 主分類號: | C25F5/00 | 分類號: | C25F5/00 |
| 代理公司: | 隆天知識產權代理有限公司 72003 | 代理人: | 金鵬 |
| 地址: | 美國得*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 多晶 金剛石 電化學 去除 金屬 其他 物質 | ||
1.一種用于從PCD元件中電化學去除金屬或其他物質的系統,所述系統包括:
陽極,其包括所述PCD元件,所述PCD元件包括包含所述金屬或所述其他物質和導電性增強部分的PCD部件;
陰極;
電解液;以及
電壓源,
其中所述導電性增強區域包含鍵合到所述PCD元件表面上的碳(C)的氫(H)或氟(F)或其組合,并且其中所述導電性是p型;并且
其中,當通過所述電壓源將電壓施加到所述陽極和所述陰極時,所述金屬或所述其他物質形成正離子并且從所述PCD部件中去除到所述電解液。
2.一種用于從PCD元件中電化學去除金屬或其他物質的系統,所述系統包括:
陽極,其包括所述PCD元件,所述PCD元件包括包含所述金屬或所述其他物質和導電性增強部分的PCD部件;
陰極;
電解液;以及
電壓源,
其中所述導電性增強區域包含硼(B)、鋁(Al)、磷(P)或鋰(Li)或其組合作為摻雜劑,并且其中所述導電性產生自摻雜;并且
其中,當通過所述電壓源將電壓施加到所述陽極和所述陰極時,所述金屬或所述其他物質形成正離子并且從所述PCD部件中去除到所述電解液。
3.如權利要求1或2所述的系統,其中所述金屬包括第VIII族金屬。
4.如權利要求3所述的系統,其中所述第VIII族金屬包括鈷(Co)。
5.如權利要求1或2所述的系統,其中所述導電性增強部分包括所述PCD部件的表面的至少一部分。
6.如權利要求5所述的系統,其中所述導電性增強部分包括所述PCD部件的頂表面的至少一部分。
7.如權利要求5所述的系統,其中所述導電性增強部分包括所述PCD部件的側表面的至少一部分。
8.如權利要求5所述的系統,其中所述導電性增強部分包括所述PCD部件的頂表面的至少一部分、側表面的至少一部分以及底表面的至少一部分。
9.如權利要求1或2所述的系統,其中所述導電性增強部分包括基本上全部的所述PCD部件。
10.如權利要求1或2所述的系統,其中所述電解液是包含硫酸根(SO42-)、氯離子(Cl-)或硝酸根(NO3-)或其組合的水性電解液。
11.如權利要求1或2所述的系統,其中所述金屬包括鈷(Co),并且所述電解液包含鐵(Fe)。
12.如權利要求1或2所述的系統,其中至少兩種金屬或其他物質形成正離子并且從所述PCD部件中去除到所述電解液。
13.如權利要求1所述的系統,其中所述氫(H)或氟(F)或其組合是等離子體沉積的。
14.如權利要求1所述的系統,其中使用高溫退火過程沉積所述氫(H)或氟(F)或其組合。
15.如權利要求2所述的系統,其中使用高劑量離子注入將所述硼(B)、鋁(Al)或磷(P)或其組合注入所述PCD部件的表面中。
16.如權利要求2所述的系統,其中在形成所述PCD部件之前,將所述硼(B)、鋁(Al)、磷(P)或鋰(Li)或其組合添加到所述PCD部件中含有的金剛石晶粒。
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