[發明專利]射束阱、射束引導裝置、EUV輻射產生設備和用于吸收射束的方法

有效

• 申請號: 201580077421.7
• 申請日: 2015-03-04
• 公開（公告）號: CN107405728B
• 公開（公告）日: 2020-05-12
• 發明（設計）人: M·蘭貝特
• 申請（專利權）人: 通快激光系統半導體制造有限公司
• 主分類號: B23K26/70
• 分類號: B23K26/70
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 郭毅

本發明涉及一種射束阱(20)，其包括：用于反射入射到所述反射器(21)的表面上的射束、尤其激光射束(5)的反射器(21)，以及用于吸收在所述反射器(21)的表面(21a)處經反射的射束的吸收器裝置(22)。所述反射器(21)的表面是分段的并且具有多個反射器區域(23a?g)，所述多個反射器區域構造用于將所述入射射束的相應的部分射束(25a?g)反射到所述吸收器裝置(22)的分配給所述相應的反射器區域(23a?g)的吸收器區域(26a?g)。本發明也涉及一種具有這種射束阱(20)的射束引導裝置、具有這種射束引導裝置的EUV輻射產生設備(1)以及所屬的用于吸收射束、尤其用于吸收激光射束(5)的方法。

技術領域

本發明涉及一種射束阱(Strahlfalle)以及用于將激光射束引導到目標區域的方向上用于產生EUV(極紫外)輻射的射束引導裝置，所述射束引導裝置具有這種射束阱。本發明也涉及一種具有這種射束引導裝置的EUV輻射產生設備以及一種用于吸收射束、尤其用于吸收激光射束的方法。

背景技術

用于吸收不期望的激光輻射的輻射能量的射束阱已由DE 10 2010 036 161 A1已知。那里所描述的射束阱包括兩個反射器，其中，所述兩個反射器中的至少一個設有吸收輻射能量的涂層。所述兩個反射器如此相對于彼此定位，使得入射到第一反射器上的并且在此經反射的激光輻射指向所述第二反射器。入射到所述第二反射器上并且在此經反射的激光輻射指向回到所述第一反射器，使得在多次反射和在此持續的部分的吸收之后，吸收所述激光輻射的輻射能量。

在EP 1 950 000 A1中描述了一種具有用于產生射束并且具有射束捕捉裝置的射束發生器的設備。該射束捕捉裝置具有具有彼此相對的平面表面的鋁板。將射束指向射束捕捉裝置并且通過在射束捕捉裝置中的從第一表面到第二表面和從第二表面到第一表面的反復的反射來消滅所述射束。

從射束阱射出的背反射(Rückreflektion)對光學裝置——在其中使用射束阱——的功能性有干擾影響。因此，有利的是，射束阱盡可能完全吸收入射射束的輻射能量。尤其對于如下情況：入射射束的功率非常高，例如在高于大約50kW的情況下，在傳統的射束阱中存在如下問題：必要時不能夠完全地吸收輻射能量。此外，在使用用于吸收(脈沖)高功率激光射束的情況下，必要時會導致在所述射束阱中使用的材料的降解現象(Degradationserscheinung)。

發明內容

本發明的任務

本發明的任務在于如此擴展一種射束阱，使得所述射束阱也在非常高的輻射功率的情況下實際上完全吸收入射射束的、尤其激光射束的輻射能量。

本發明的主題

該任務根據本發明通過一種射束阱解決，該射束阱包括：用于反射一入射到所述反射器的表面上的射束、尤其激光射束的反射器，以及用于吸收在所述反射器的表面處經反射的射束的吸收器裝置，其中，所述反射器具有分段的表面，所述表面具有多個反射器區域，所述多個反射器區域構造用于將入射射束的相應的部分射束反射到所述吸收器裝置的分配給相應的反射器區域的吸收器區域中。

在反射器的分段的表面處將入射射束分成多個部分射束，即該反射器用作分離鏡(Zerlegungsspiegel)。該表面的反射器區域不同地定向和/或彎曲，使得在不同的反射器區域處經反射的部分射束在不同的方向上離開該反射器并且被反射到吸收器裝置的不同的吸收器區域中。以這種方式可以使入射到反射器的輻射能量分布到多個吸收器區域，由此降低由相應的吸收器區域待吸收的輻射能量?？梢愿咝У卦谙鄳奈掌鲄^域中吸收相應的部分射束，否則將會是該吸收器區域必須吸收全部輻射能量的情況。所述吸收器區域分別(必要時稍微)彼此間隔開。