[發明專利]輻射處理系統及方法

在審

• 申請號: 201580077173.6
• 申請日: 2015-01-11
• 公開（公告）號: CN108136056A
• 公開（公告）日: 2018-06-08
• 發明（設計）人: D·利夫尼;T·斯庫爾尼克
• 申請（專利權）人: 阿森普托雷有限公司
• 主分類號: A61L2/10
• 分類號: A61L2/10;A61L2/08;A23C3/07;A23L3/26;C02F1/32;C02F1/30
• 代理公司: 余姚德盛專利代理事務所(普通合伙) 33239
• 代理人: 鄭洪成

1.一種具有細長形狀和中心縱軸的輻射處理單元，包括：

(a)第一管組件，包括：

-第一盤管，用于通過待處理流體并具有限定第一圓柱形空腔的第一線圈內圓柱形表面；

-設置在所述第一圓柱形空腔內的第一輻射源；和

-支撐至少所述第一盤管的第一支撐組件，

(b)第二管組件，包括：

-第二盤管，用于通過待處理流體并具有限定第二圓柱形空腔的第二線圈內圓柱形表面，

-第二輻射源，設置在所述第二圓柱形空腔內；和

-支撐至少所述第二盤管的第二支撐組件；

所述第二管組件被構造成同軸地插入所述第一圓柱形空腔內，使得所述第二盤管設置在所述第一輻射源和所述第二輻射源之間，使得通過所述第一盤管的流體暴露于第一輻射源的內部輻射并且通過所述第二盤管的流體暴露于來自所述第一輻射源的外部輻射和來自所述第二輻射源的內部輻射。

2.根據權利要求1所述的輻射處理單元，其中所述輻射處理單元的參數使得在其通過所述第一盤管的期間施加到第一處理后流體的輻射劑量基本上等于在其通過所述第二盤管的期間施加到第二處理后流體的輻射劑量。

3.根據權利要求2所述的輻射處理單元，其中所述參數選自由以下構成的組：第一輻射源的強度，第二輻射源的強度，暴露于通過所述第一盤管的流體的第一輻射源的時間，暴露于通過所述第二盤管的流體的第二輻射源的時間，所述第一盤管的內徑和/或外徑，所述第二盤管的內徑和/或外徑，由所述第一盤管限定的第一線圈的外徑，由所述第二盤管限定的第二線圈的外徑，通過所述第一盤管的流體的流量和通過所述第二盤管的流體的流量。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的輻射處理單元，還包括構造成用于支撐所述第一管組件和所述第二管組件的單元保持組件。

5.根據權利要求4所述的輻射處理單元，其中所述單元保持組件構造成允許所述第一管組件和所述第二管組件中的至少一個相對于所述第一管組件和所述第二管組件中的另一個的軸向移動。

6.根據權利要求5所述的輻射處理單元，其中所述單元保持組件包括允許所述第一管組件相對于所述第二管組件沿著所述縱軸滑動從而允許進入所述第二管組件的滑動機構。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的輻射處理單元，其中所述第一支撐組件包括鄰近所述輻射處理單元的端部設置的一對第一端部支撐件和在所述第一端部支撐件之間延伸并構造成保持所述第一盤管的多個第一桿。

8.根據權利要求7所述的輻射處理單元，其中所述第一輻射源被配置成固定到所述第一端部支撐件。

9.根據權利要求1至8中任一項所述的輻射處理單元，其中所述第二支撐組件包括鄰近所述輻射處理單元的端部設置的一對第二端部支撐件和在所述第二端部支撐件之間延伸并構造成保持所述第二盤管的多個第二桿。

10.根據權利要求9所述的輻射處理單元，其中所述第二輻射源被配置為固定到所述第二端部支撐件。

11.根據權利要求1至10中任一項所述的輻射處理單元，其中所述第一輻射源和第二輻射源與所述第二盤管等距隔開。

12.根據權利要求1至11中任一項所述的輻射處理單元，其中單個支撐組件用作所述第一支撐組件和所述第二支撐組件兩者。

13.根據權利要求1至12中任一項所述的輻射處理單元，其中所述第一盤管和第二盤管與所述第一輻射源等距隔開。