[發明專利]汽液接觸盤的孔布局

有效

• 申請號: 201580076845.1
• 申請日: 2015-06-09
• 公開（公告）號: CN107257703B
• 公開（公告）日: 2021-02-05
• 發明（設計）人: M.W.皮林;S.格呂爾;P.威爾金森;R.E.安德森
• 申請（專利權）人: 蘇爾壽管理有限公司
• 主分類號: B01D3/22
• 分類號: B01D3/22
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 佘鵬;鄧雪萌

1.一種用于分離塔中的汽液接觸盤裝置，所述裝置包括盤，所述盤具有供流體通過所述盤的多個孔，其中：

所述孔被布置在基本上平行于所述盤的主液體流動路徑延伸的第一組的三個相鄰的列中，

中間列的孔沿所述盤上的所述主液體流動路徑與其他兩列的相鄰孔偏置，以跨所述三個相鄰的列形成相鄰孔的三角形圖案，

所述孔具有長度和寬度，每個長度基本上平行于其列定向，并且每個寬度基本上垂直于其列定向，

每一列內的相鄰孔的中心以第一間隔隔開，所述第一間隔等于或者介于所述列中的孔的平均長度的2.5倍和4.5倍之間，以及

相鄰的列的中心以第二間隔隔開，所述第二間隔等于或者介于所述相鄰的列的孔的平均寬度的1.5倍和2.5倍之間，

其中所述裝置還包括盤支撐件，其中：

所述盤通過所述盤支撐件來支撐；

其中，所述盤支撐件包括選自以下組的一個或多個元件，所述組包括：位于所述盤的周向區域之下并支撐所述周向區域的環、部分環、支架或凸緣；位于所述盤的弦區域之下并支撐所述弦區域的橫梁；以及盤面板，其形成支撐所述盤的相鄰的一個或多個盤面板的一部分的橫梁；

孔穿過所述盤支撐件形成，

支撐區域通氣孔在所述盤支撐件正上方穿過所述盤形成，從而使所述盤支撐件正上方的液體流動路徑的75%或更多通氣；以及

所述盤的所述支撐區域通氣孔與所述盤支撐件的所述孔流體連通，

其中所述盤的所述孔中的一個或多個至少部分地被蓋覆蓋，其中所述蓋相對于盤板的高度是可變的，這取決于通過所述支撐區域通氣孔的蒸汽流率、所述盤上的液位或者通過所述支撐區域通氣孔的蒸汽流率和所述盤上的液位二者。

2.如權利要求1所述的裝置，其特征在于：

每一列內的相鄰孔的中心以第一間隔隔開，所述第一間隔等于或者介于所述列中的孔的平均長度的2.9倍和3.9倍之間，以及

相鄰的列以第二間隔隔開，所述第二間隔等于或者介于所述相鄰的列的孔的平均寬度的1.7倍和2.2倍之間。

3.如權利要求2所述的裝置，其特征在于：

每一列內的相鄰孔的中心以第一間隔隔開，所述第一間隔等于或者介于所述列中的孔的平均長度的3.5倍和3.7倍之間，以及

相鄰的列以第二間隔隔開，所述第二間隔等于或者介于所述相鄰的列的孔的平均寬度的1.9倍和2.1倍之間。

4.如權利要求1至3中任一項所述的裝置，其特征在于：

每一列內的相鄰孔的中心以第一間隔隔開，所述第一間隔大于76mm，以及

相鄰的列以第二間隔隔開，所述第二間隔等于或小于40mm。

5.如權利要求4所述的裝置，其特征在于：

每一列內的相鄰孔的中心以第一間隔隔開，所述第一間隔等于或者介于95-130mm之間，以及

相鄰的列以第二間隔隔開，所述第二間隔等于或者介于30-38mm之間。

6.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述孔中的一個或多個的形狀選自由以下各項組成的組，即：圓形、正方形、矩形、梯形、五邊形和六邊形。

7.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述孔中的一個或多個是梯形孔，所述梯形孔具有平行于所述盤上的液體流動路徑設置的長度。

8.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，垂直于所述主液體流動路徑并且通過所述第一組的三個相鄰的列中任何相鄰的兩列孔而繪制的任何線至多與所述相鄰的兩列的一個孔相交。

9.如權利要求1所述的裝置，還包括盤支撐件，其中：

所述盤通過所述盤支撐件來支撐；

其中，所述盤支撐件包括選自以下組的一個或多個元件，所述組包括：位于所述盤的周向區域之下并支撐所述周向區域的環、部分環、支架或凸緣；位于所述盤的弦區域之下并支撐所述弦區域的橫梁；以及盤面板，其形成位于所述盤的相鄰的一個或多個盤面板的一部分之下并支撐所述部分的橫梁；

多個支撐區域通氣孔與所述盤支撐件側向相鄰地形成在所述盤中。