[發明專利]發光裝置

有效

• 申請號: 201580075335.2
• 申請日: 2015-12-21
• 公開（公告）號: CN107210349B
• 公開（公告）日: 2019-07-05
• 發明（設計）人: 樸康烈;金基喆;孫昌均
• 申請（專利權）人: LG伊諾特有限公司
• 主分類號: H01L33/58
• 分類號: H01L33/58;H01L33/50
• 代理公司: 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327
• 代理人: 李琳;許向彤

1.一種發光裝置，包括：

光源單元，發射具有線性的多個激發光束；

第一反射單元，反射在具有線性的同時在與對稱軸平行的入射方向上入射到所述第一反射單元上的所述激發光束，并且使反射的所述激發光束聚集到聚焦位置上；

波長轉換單元，設置在所述聚焦位置上，用于透射由所述第一反射單元反射并聚集的所述激發光束；

基部基板，具有所述聚焦位置并包括通孔，所述波長轉換單元插入在所述通孔中；

折射構件，所述折射構件設置在所述第一反射單元和所述波長轉換單元之間，以便占據所述激發光束穿過的整個空間；

散熱基板，所述散熱基板粘附到所述波長轉換單元的光入射表面并與所述光源單元間隔開；以及

二向色短通濾波器，所述二向色短通濾波器設置在所述波長轉換單元和所述散熱基板之間。

2.根據權利要求1所述的發光裝置，其中，

所述波長轉換單元轉換由所述第一反射單元反射并聚集的所述激發光束的波長，并且

所述發光裝置還包括第二反射單元，所述第二反射單元反射并輸出在具有通過所述波長轉換單元轉換的所述波長的同時透射穿過所述波長轉換單元的轉換光束。

3.根據權利要求2所述的發光裝置，其中，所述基部基板設置在所述第一反射單元和所述第二反射單元之間。

4.根據權利要求1所述的發光裝置，還包括設置在所述光源單元和所述第一反射單元之間的透鏡單元，所述透鏡單元對從所述光源單元發射的所述激發光束進行準直。

5.根據權利要求1所述的發光裝置，其中，所述折射構件包括：

第一圓形表面，面對所述第一反射單元；

第二表面，具有面對所述波長轉換單元的第一部分；以及

第三表面，所述激發光束入射在所述第三表面上。

6.根據權利要求5所述的發光裝置，還包括粘合劑單元，所述粘合劑單元設置在所述折射構件的所述第二表面的所述第一部分和所述波長轉換單元之間。

7.根據權利要求5所述的發光裝置，其中，所述折射構件的所述第三表面垂直于所述對稱軸。

8.根據權利要求1所述的發光裝置，其中，所述折射構件包括透光材料。

9.根據權利要求1所述的發光裝置，其中，所述折射構件的第一折射率與所述波長轉換單元的第二折射率不同。

10.根據權利要求9所述的發光裝置，其中，所述第一折射率在1.4至1.8的范圍內。

11.根據權利要求1至4中任意一項所述的發光裝置，其中，所述光源單元包括多個光源，所述多個光源在面對所述第一反射單元的同時布置在選自垂直方向和水平方向中的至少一個上，以用于發射所述激發光束。

12.根據權利要求1至4中任意一項所述的發光裝置，其中，所述第一反射單元包括用于反射所述激發光束的拋物面。

13.根據權利要求12所述的發光裝置，其中，所述拋物面是涂覆有金屬的反射鏡。

14.根據權利要求12所述的發光裝置，其中所述拋物面具有適合于將所述激發光束全反射到所述聚焦位置的傾斜度。

15.根據權利要求1至4中任意一項所述的發光裝置，其中，當從所述光源單元觀察時，所述第一反射單元具有半圓形截面形狀。

16.根據權利要求1至4中任意一項所述的發光裝置，其中，當從所述光源單元觀察時，所述第一反射單元具有通過切割選自半圓形截面形狀的側部和下部中的至少一個而獲得的截面形狀。