[發明專利]三維物體子結構

有效

• 申請號: 201580074662.6
• 申請日: 2015-01-30
• 公開（公告）號: CN107206696B
• 公開（公告）日: 2020-04-24
• 發明（設計）人: 彼得·莫羅維奇;賈恩·莫羅維奇;杰伊·S·貢德克;J·M·加西亞·雷耶羅·維納斯
• 申請（專利權）人: 惠普發展公司有限責任合伙企業
• 主分類號: B29C64/386
• 分類號: B29C64/386;B33Y50/00
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司 11018
• 代理人: 史迎雪;康泉

1.一種處理設備，包括：

接口，用于接收表示三維模型物體的數據，所述數據包括物體模型數據和物體屬性數據；

映射模塊，用于將所接收的數據映射到與在給定位置處的物體屬性數據相關的體積覆蓋表示；

半色調模塊，用于提供半色調閾值數據；

子結構模塊，用于定義要生成的三維物體的子結構；

其中，所述半色調模塊和所述子結構模塊生成半色調閾值矩陣，所述半色調閾值矩陣被應用于所述體積覆蓋表示，以生成用于制作具有所述子結構的三維物體的控制數據。

2.根據權利要求1所述的處理設備，其中所述子結構模塊用于將所述子結構定義為第一子結構模型和不同的第二子結構模型中的一個。

3.根據權利要求1所述的處理設備，其中所述子結構模塊用于定義子結構平面，每個平面與所述三維物體的平面相關，并且所述半色調模塊用于使用半色調閾值數據填充柵格化子結構平面。

4.根據權利要求1所述的處理設備，其中所述半色調模塊用于填充所述子結構以提供具有子結構的三維半色調閾值矩陣，并且所述半色調閾值矩陣被應用于所述體積覆蓋表示以生成所述控制數據。

5.根據權利要求1所述的處理設備，其中所述子結構模塊用于縮放和/或復制一結構以定義所述子結構。

6.一種生成用于生成三維物體的控制數據的方法，包括：

獲取三維位圖，所述三維位圖包括表示三維模型物體的M×N×L體素陣列，每個體素位于唯一的三維位置處；

將表示所述三維模型物體的每個體素映射到體積覆蓋表示，所述體積覆蓋表示通過在一位置處將打印材料指定為一組可用打印材料的比例來定義要被施加的打印材料的量；

獲取子結構模型以提供半色調閾值矩陣，所述子結構模型包括表示材料結構的M×N×L體素陣列，并且填充有半色調閾值；

將所述體積覆蓋表示與表示相同三維位置的所述閾值矩陣的閾值進行比較，以生成用于生成具有根據所述子結構模型的子結構的三維物體的控制數據。

7.根據權利要求6所述的方法，其中獲取所述子結構模型包括：從多個子結構模型中選擇。

8.根據權利要求6所述的方法，其中獲取所述子結構模型包括：縮放或復制子結構模型以提供M×N×L體素陣列。

9.一種用于提供三維半色調閾值矩陣的方法，包括：

接收表示三維材料結構的子結構模型；并且

用半色調閾值填充所述子結構模型中的、存在所述結構的每個位置，以提供攜帶所述子結構模型的所述結構的三維半色調閾值矩陣；所述三維半色調閾值矩陣適用于生成用于制造三維物體的控制數據，使得所述三維物體具有由所述子結構模型指定的子結構。

10.根據權利要求9所述的方法，包括：將所述子結構模型的柵格化表示生成為值的陣列，每個值與所述材料結構中的位置對應。

11.根據權利要求9所述的方法，其中所述材料結構包括：

a.至少一個空間填充多面體；

b.規則結構；和/或

c.開放的網格結構。

12.根據權利要求9所述的方法，包括：接收半色調閾值數據，以及使用所述半色調閾值數據來填充所述材料結構中存在所述子結構的每個位置。

13.根據權利要求12所述的方法，其中所述半色調閾值數據包括半色調閾值矩陣。

14.根據權利要求13所述的方法，包括：使用所述半色調閾值矩陣來填充一平面內存在所述子結構的每個位置。

15.根據權利要求9所述的方法，其中所述半色調閾值矩陣用于生成用于制作三維物體的控制數據，所述方法包括：接收指示要生成的物體的信息以及根據所述信息縮放所述材料結構。