[發(fā)明專(zhuān)利]用于減輕在氫氣存在下質(zhì)譜性能發(fā)生變化的裝置和方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201580074388.2 | 申請(qǐng)日： | 2015-11-20 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN107210183B | 公開(kāi)（公告）日： | 2020-07-17 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 馬爾科·西斯特尼 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 馬爾科·西斯特尼 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | H01J49/10 | 分類(lèi)號(hào)： | H01J49/10;G01N30/72 |
| 代理公司： | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人： | 何沖;黃隸凡 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 減輕 氫氣 在下 性能 發(fā)生 變化 裝置 方法 | ||
1.一種氣相色譜質(zhì)譜儀，其特征在于，所述質(zhì)譜儀的離子源包括電離腔體，其中，所述電離腔體的至少一個(gè)壁的內(nèi)表面具有至少一層石墨烯的化學(xué)結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣相色譜質(zhì)譜儀，其特征在于，所述離子源選自電子電離(EI)離子源或化學(xué)電離(CI)離子源。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氣相色譜質(zhì)譜儀，其特征在于，所述電離腔體的所有壁的內(nèi)表面具有至少一層石墨烯的化學(xué)結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣相色譜質(zhì)譜儀，其特征在于，所述電離腔體的至少一個(gè)壁的內(nèi)表面具有沉積或生長(zhǎng)在所述表面上的至少一層石墨烯。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣相色譜質(zhì)譜儀，其特征在于，所述電離腔體的至少一個(gè)壁的內(nèi)表面具有石墨結(jié)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣相色譜質(zhì)譜儀，其特征在于，所述石墨選自晶體片狀石墨、微晶石墨以及合成石墨。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的氣相色譜質(zhì)譜儀，其特征在于，所述合成石墨選自膨脹石墨以及熱解石墨。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣相色譜質(zhì)譜儀，其特征在于，所述電離腔體的至少一個(gè)壁完全由石墨構(gòu)成。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣相色譜質(zhì)譜儀，其特征在于，所述電離腔體的至少一個(gè)壁具有多層結(jié)構(gòu)，所述多層結(jié)構(gòu)包括至少一個(gè)外部金屬層，以及一個(gè)石墨內(nèi)層。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣相色譜質(zhì)譜儀，其特征在于，所述電離腔體的至少一個(gè)壁的內(nèi)表面覆蓋有嵌入體，所述嵌入體的內(nèi)表面具有至少一層石墨烯的化學(xué)結(jié)構(gòu)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的氣相色譜質(zhì)譜儀，其特征在于，所述嵌入體完全由石墨構(gòu)成。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的氣相色譜質(zhì)譜儀，其特征在于，所述嵌入體包括完全由石墨構(gòu)成的內(nèi)層以及與所述內(nèi)層連接的至少一個(gè)外部支撐體。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的氣相色譜質(zhì)譜儀，其特征在于，所述嵌入體的內(nèi)表面具有沉積或生長(zhǎng)在所述表面上的至少一層石墨烯。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的氣相色譜質(zhì)譜儀，其特征在于，所述嵌入體的壁的厚度≤2.5mm。
15.根據(jù)權(quán)利要求10所述的氣相色譜質(zhì)譜儀，其特征在于，所述嵌入體由若干件形成。
16.一種氣相色譜質(zhì)譜方法，其包括：
-提供包含多種分析物的第一樣本；
-提供分離柱，其包括至少一個(gè)固定相，所述固定相能夠選擇性地吸收至少一種分析物；
-在所述分離柱的一端處導(dǎo)入所述第一樣本，使所述樣本流過(guò)所述分離柱，根據(jù)所述樣本對(duì)于所述固定相的親和性分離所述多種分析物，使用氫氣作為載氣，從而獲得至少一種第二氣態(tài)樣本；
-在包括電離腔體的質(zhì)譜儀的離子源內(nèi)將所述第二氣態(tài)樣本電離從而產(chǎn)生離子，其中，所述電離腔體的至少一個(gè)壁的內(nèi)表面具有至少一層石墨烯的化學(xué)結(jié)構(gòu)；
-根據(jù)其質(zhì)荷比對(duì)產(chǎn)生的離子進(jìn)行分析。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的氣相色譜質(zhì)譜方法，其特征在于，所述第一樣本包括氫氣和多種分析物，其中，所述分析物的至少一種選自在C1至C50范圍內(nèi)并具有至少一個(gè)能夠與氫氣反應(yīng)的官能團(tuán)的烴。
18.一種質(zhì)譜方法，包括：
-提供包含氫氣和至少一種分析物的氣態(tài)樣本；
-在包括電離腔體的質(zhì)譜儀的離子源內(nèi)將所述氣態(tài)樣本電離從而產(chǎn)生離子，其中，所述電離腔體的至少一個(gè)壁的內(nèi)表面具有至少一層石墨烯的化學(xué)結(jié)構(gòu)；
-根據(jù)其質(zhì)荷比對(duì)產(chǎn)生的離子進(jìn)行分析。
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