[發(fā)明專利]減少污染有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580074301.1 | 申請日: | 2015-04-01 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107430371B | 公開(公告)日: | 2020-09-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | K·什庫理;S·穆阿利姆;R·迪亞曼特;Y·科恩;S·塔爾 | 申請(專利權(quán))人: | 惠普印迪格公司 |
| 主分類號(hào): | G03G15/10 | 分類號(hào): | G03G15/10;G03G21/00 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人: | 陳松濤;韓宏 |
| 地址: | 荷蘭阿姆*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 減少 污染 | ||
1.一種用于減少污染的方法,所述方法包括:
通過以下步驟來形成凈化成像油:
第一過濾步驟,其用于通過成像油過濾器來過濾成像油;
檢測步驟,其用于檢測所述成像油的密度;
傳送步驟,其用于基于所述成像油的檢測到的密度來選擇性地將所述成像油傳送回所述第一過濾步驟;以及
第二過濾步驟,其用于通過極性吸附劑過濾器來過濾所述成像油;以及
通過將所述凈化成像油周期性地涂敷到液體電子照相打印裝置的非晶硅光電導(dǎo)體來維護(hù)所述非晶硅光電導(dǎo)體的表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,在所述周期性地涂敷之前,所述方法還包括確定所述凈化成像油的污染水平范圍為0微微姆歐/厘米至10微微姆歐/厘米。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述周期性地涂敷發(fā)生在所述液體電子照相打印裝置的每個(gè)打印周期的充電部分之前。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,還包括:
從所述非晶硅光電導(dǎo)體去除一些所述凈化成像油,其中,去除的凈化成像油包括來自所述非晶硅光電導(dǎo)體的至少一些流體殘留物,從而清潔所述非晶硅光電導(dǎo)體;以及
執(zhí)行打印周期。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中:
所述成像油過濾器是2微米顆粒的機(jī)械過濾器;并且
所述極性吸附劑過濾器是硅膠過濾器或碳過濾器。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,還包括在初始打印周期之后的至少200,000個(gè)打印周期執(zhí)行完全清潔過程。
7.一種用于保持用液體電子照相打印裝置打印的圖像的打印質(zhì)量的方法,所述方法包括:
通過以下步驟來凈化成像油:
第一過濾步驟,其用于通過成像油過濾器來過濾所述成像油;檢測步驟,其用于檢測所述成像油的密度;
傳送步驟,其用于基于所述成像油的檢測到的密度來選擇性地將所述成像油傳送回所述第一過濾步驟;以及
第二過濾步驟,其用于通過極性吸附劑過濾器來過濾所述成像油,從而形成凈化成像油;
檢測到所述凈化成像油的污染水平范圍為0微微姆歐/厘米至10微微姆歐/厘米;
在打印周期的充電部分之前將所述凈化成像油涂敷到所述液體電子照相打印裝置的非晶硅光電導(dǎo)體以便從所述非晶硅光電導(dǎo)體去除殘留物,從而形成污染的成像油;以及
從所述非晶硅光電導(dǎo)體去除所述污染的成像油。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,還包括:
通過以下步驟來凈化所述污染的成像油:
通過所述成像油過濾器來過濾所述污染的成像油;以及
然后通過所述極性吸附劑過濾器來過濾所述污染的成像油,從而形成再次凈化的成像油;
檢測到所述再次凈化的成像油的污染水平范圍為0微微姆歐/厘米至10微微姆歐/厘米;
在隨后的打印周期的充電部分之前將所述再次凈化的成像油涂敷到所述非晶硅光電導(dǎo)體以便從所述非晶硅光電導(dǎo)體去除額外的殘留物,從而形成進(jìn)一步污染的成像油;以及
從所述非晶硅光電導(dǎo)體去除所述進(jìn)一步污染的成像油。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,還包括在每個(gè)隨后的打印周期的所述充電部分之前重復(fù)進(jìn)行所述凈化、所述檢測、所述涂敷和所述去除。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其中:
所述成像油過濾器是2微米顆粒的機(jī)械過濾器;并且
所述極性吸附劑過濾器是硅膠過濾器或碳過濾器。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其中,在所述去除之后,所述方法還包括執(zhí)行另一打印周期,其中,保持在所述另一打印周期期間所形成的印刷品的打印質(zhì)量。
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