[發明專利]氧化鋯的加工方法在審
| 申請號： | 201580073644.6 | 申請日： | 2015-08-10 |
| 公開（公告）號： | CN107207374A | 公開（公告）日： | 2017-09-26 |
| 發明（設計）人： | 米田修;近藤拓也;川嶋利幸;菅博文;佐藤仲弘;關根尊史;栗田隆史;砂原淳;元廣友美;日置辰視;東博純;大島繁樹;梶野勉;北川米喜;森芳孝;石井勝弘;花山良平;西村靖彥;三浦永祐 | 申請（專利權）人： | 浜松光子學株式會社 |
| 主分類號： | C04B41/91 | 分類號： | C04B41/91;B23K26/354;C04B41/80 |
| 代理公司： | 北京尚誠知識產權代理有限公司11322 | 代理人： | 楊琦,尹明花 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 氧化鋯 加工 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種氧化鋯的加工方法，其特征在于：
包括以1013～1015W/cm2的強度向氧化鋯照射具有10－12秒至10－15秒的脈沖寬度的激光的工序。
2.如權利要求1所述的方法，其特征在于：
該照射對于氧化鋯表面所生成的單斜晶進行。
3.如權利要求1所述的方法，其特征在于：
還包括將其它的材料與該照射后的氧化鋯接合的工序。
4.如權利要求3所述的方法，其特征在于：
該氧化鋯與所接合的該材料的熱膨脹系數不同。
5.如權利要求1所述的方法，其特征在于：
該激光的波長約為810nm。
6.如權利要求1所述的方法，其特征在于：
該氧化鋯中固溶有Y、Ca、Mg、Ce的離子中的任一種或它們的組合。
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