[發(fā)明專利]用于氣相沉積含鋯膜的含鋯膜形成組合物在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201580073605.6 | 申請(qǐng)日: | 2015-12-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107210219A | 公開(公告)日: | 2017-09-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 克萊蒙特·蘭斯洛特-馬特拉斯;尤利安·利夫里希;石井華;克里斯汀·杜斯拉特 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 喬治洛德方法研究和開發(fā)液化空氣有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/316 | 分類號(hào): | H01L21/316;C23C16/42 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務(wù)所11247 | 代理人: | 李穎,林柏楠 |
| 地址: | 法國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 沉積 含鋯膜 形成 組合 | ||
1.一種含鋯膜形成組合物,包含具有下式之一的含硅和鍺的前體:
其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9和R10各自獨(dú)立地選自H;C1-C5直鏈、支鏈或環(huán)狀烷基;或C1-C5直鏈、支鏈或環(huán)狀氟烷基。
2.如權(quán)利要求1所述的含鋯膜形成組合物,該前體具有式I:
3.如權(quán)利要求2所述的含鋯膜形成組合物,其中該前體選自下組,該組由以下各項(xiàng)組成:(三甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二甲基氨基)鋯(IV)(Zr(TMS-Cp)(NMe2)3);(三甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(甲基氨基)鋯(IV)(Zr(TMS-Cp)(NHMe)3);(三甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二乙基氨基)鋯(IV)(Zr(TMS-Cp)(NEt2)3);(三甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(乙基氨基)鋯(IV)(Zr(TMS-Cp)(NHEt)3);(三甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(乙基甲基氨基)鋯(IV)(Zr(TMS-Cp)(NEtMe)3);(三甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二正丙基氨基)鋯(IV)(Zr(TMS-Cp)(NnPr2)3);(三甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(正丙基氨基)鋯(IV)(Zr(TMS-Cp)(NHnPr)3);(三甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二異丙基氨基)鋯(IV)(Zr(TMS-Cp)(NiPr2)3);(三甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(異丙基氨基)鋯(IV)(Zr(TMS-Cp)(NHiPr)3);(三甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二正丁基氨基)鋯(IV)(Zr(TMS-Cp)(NnBu2)3);(三甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(正丁基氨基)鋯(IV)(Zr(TMS-Cp)(NHnBu)3)(三甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二異丁基氨基)鋯(IV)(Zr(TMS-Cp)(NiBu2)3);(三甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(異丁基氨基)鋯(IV)(Zr(TMS-Cp)(NHiBu)3);(三甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二仲丁基氨基)鋯(IV)(Zr(TMS-Cp)(NsBu2)3);(三甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(仲丁基氨基)鋯(IV)(Zr(TMS-Cp)(NHsBu)3);(三甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二叔丁基氨基)鋯(IV)(Zr(TMS-Cp)(NtBu2)3);(三甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(叔丁基氨基)鋯(IV)(Zr(TMS-Cp)(NHtBu)3);(二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二甲基氨基)鋯(IV)(Zr(DMS-Cp)(NMe2)3);(二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(甲基氨基)鋯(IV)(Zr(DMS-Cp)(NHMe)3);(二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二乙基氨基)鋯(IV)(Zr(DMS-Cp)(NEt2)3);(二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(乙基氨基)鋯(IV)(Zr(DMS-Cp)(NHEt)3);(二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(乙基甲基氨基)鋯(IV)(Zr(DMS-Cp)(NEtMe)3);(二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二正丙基氨基)鋯(IV)(Zr(DMS-Cp)(NnPr2)3);(二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(正丙基氨基)鋯(IV)(Zr(DMS-Cp)(NHnPr)3);(二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二異丙基氨基)鋯(IV)(Zr(DMS-Cp)(NiPr2)3);(二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(異丙基氨基)鋯(IV)(Zr(DMS-Cp)(NHiPr)3);(二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二正丁基氨基)鋯(IV)(Zr(DMS-Cp)(NnBu2)3);(二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(正丁基氨基)鋯(IV)(Zr(DMS-Cp)(NHnBu)3);(二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二異丁基氨基)鋯(IV)(Zr(DMS-Cp)(NiBu2)3);(二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(異丁基氨基)鋯(IV)(Zr(DMS-Cp)(NHiBu)3);(二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二仲丁基氨基)鋯(IV)(Zr(DMS-Cp)(NsBu2)3);(二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(仲丁基氨基)鋯(IV)(Zr(DMS-Cp)(NHsBu)3);(二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二叔丁基氨基)鋯(IV)(Zr(DMS-Cp)(NtBu2)3);(二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(叔丁基氨基)鋯(IV)(Zr(DMS-Cp)(NHtBu)3);(三氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二甲基氨基)鋯(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NMe2)3);(三氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(甲基氨基)鋯(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NHMe)3);(三氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二乙基氨基)鋯(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NEt2)3);(三氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(乙基氨基)鋯(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NHEt)3);(三氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(乙基甲基氨基)鋯(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NEtMe)3);(三氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二正丙基氨基)鋯(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NnPr2)3);(三氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(正丙基氨基)鋯(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NHnPr)3)(三氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二異丙基氨基)鋯(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NiPr2)3);(三氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(異丙基氨基)鋯(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NHiPr)3);(三氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二正丁基氨基)鋯(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NnBu2)3);(三氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(正丁基氨基)鋯(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NHnBu)3);(三氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二異丁基氨基)鋯(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NiBu2)3);(三氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(異丁基氨基)鋯(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NHiBu)3);(三氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二仲丁基氨基)鋯(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NsBu2)3);(三氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(仲丁基氨基)鋯(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NHsBu)3);(三氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二叔丁基氨基)鋯(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NtBu2)3);(三氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(叔丁基氨基)鋯(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NHtBu)3);(二氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二甲基氨基)鋯(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NMe2)3);(二氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(甲基氨基)鋯(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NHMe)3);(二氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二乙基氨基)鋯(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NEt2)3);(二氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(乙基氨基)鋯(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NHEt)3);(二氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(乙基甲基氨基)鋯(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NEtMe)3);(二氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二正丙基氨基)鋯(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NnPr2)3);(二氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(正丙基氨基)鋯(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NHnPr)3);(二氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二異丙基氨基)鋯(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NiPr2)3);(二氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(異丙基氨基)鋯(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NHiPr)3);(二氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二正丁基氨基)鋯(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NnBu2)3);(二氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(正丁基氨基)鋯(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NHnBu)3);(二氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二異丁基氨基)鋯(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NiBu2)3);(二氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(異丁基氨基)鋯(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NHiBu)3);(二氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二仲丁基氨基)鋯(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NsBu2)3);(二氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(仲丁基氨基)鋯(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NHsBu)3);(二氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二叔丁基氨基)鋯(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NtBu2)3);(二氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(叔丁基氨基)鋯(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NHtBu)3);(一氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二甲基氨基)鋯(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NMe2)3);(一氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(甲基氨基)鋯(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NHMe)3);(一氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二乙基氨基)鋯(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NEt2)3);(一氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(乙基氨基)鋯(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NHEt)3);(一氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(乙基甲基氨基)鋯(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NEtMe)3);(一氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二正丙基氨基)鋯(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NnPr2)3);(一氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(正丙基氨基)鋯(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NHnPr)3);(一氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二異丙基氨基)鋯(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NiPr2)3);(一氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(異丙基氨基)鋯(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NHiPr)3);(一氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二正丁基氨基)鋯(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NnBu2)3);(一氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(正丁基氨基)鋯(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NHnBu)3);(一氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二異丁基氨基)鋯(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NiBu2)3)(一氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(異丁基氨基)鋯(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NHiBu)3);(一氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二仲丁基氨基)鋯(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NsBu2)3);(一氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(仲丁基氨基)鋯(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NHsBu)3);(一氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二叔丁基氨基)鋯(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NtBu2)3);(一氟甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(叔丁基氨基)鋯(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NHtBu)3);(氟二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二甲基氨基)鋯(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NMe2)3);(氟二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(甲基氨基)鋯(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NHMe)3);(氟二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二乙基氨基)鋯(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NEt2)3);(氟二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(乙基氨基)鋯(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NHEt)3);(氟二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(乙基甲基氨基)鋯(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NEtMe)3);(氟二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二正丙基氨基)鋯(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NnPr2)3);(氟二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(正丙基氨基)鋯(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NHnPr)3);(氟二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二異丙基氨基)鋯(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NiPr2)3);(氟二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(異丙基氨基)鋯(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NHiPr)3);(氟二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二正丁基氨基)鋯(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NnBu2)3);(氟二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(正丁基氨基)鋯(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NHnBu)3);(氟二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二異丁基氨基)鋯(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NiBu2)3);
(氟二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(異丁基氨基)鋯(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NHiBu)3);(氟二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二仲丁基氨基)鋯(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NsBu2)3);(氟二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(仲丁基氨基)鋯(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NHsBu)3);(氟二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二叔丁基氨基)鋯(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NtBu2)3);(氟二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(叔丁基氨基)鋯(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NHtBu)3);(三(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二甲基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NMe2)3);(三(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(甲基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NHMe)3);(三(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二乙基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NEt2)3);(三(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(乙基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NHEt)3);(三(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(乙基甲基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NEtMe)3);(三(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二正丙基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NnPr2)3);(三(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(正丙基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NHnPr)3);(三(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二異丙基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NiPr2)3);(三(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(異丙基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NHiPr)3);(三(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二正丁基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NnBu2)3);(三(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(正丁基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NHnBu)3);(三(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二異丁基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NiBu2)3);(三(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(異丁基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NHiBu)3);(三(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二仲丁基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NsBu2)3);(三(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(仲丁基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NHsBu)3);(三(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二叔丁基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NtBu2)3);(三(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(叔丁基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NHtBu)3);(二(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二甲基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)2HSi-Cp)(NMe2)3);(二(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(甲基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)2HSi-Cp)(NHMe)3);(二(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二乙基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)2HSi-Cp)(NEt2)3);(二(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(乙基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)2HSi-Cp)(NHEt)3);(二(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(乙基甲基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)2HSi-Cp)(NEtMe)3);(二(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二正丙基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)2HSi-Cp)(NnPr2)3);(二(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(正丙基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)2HSi-Cp)(NHnPr)3);(二(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二異丙基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)2HSi-Cp)(NiPr2)3);(二(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(異丙基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)2HSi-Cp)(NHiPr)3);(二(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二正丁基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)2HSi-Cp)(NnBu2)3);(二(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(正丁基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)2HSi-Cp)(NHnBu)3);(二(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二異丁基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)2HSi-Cp)(NiBu2)3);(二(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(異丁基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)2HSi-Cp)(NHiBu)3);(二(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二仲丁基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)2HSi-Cp)(NsBu2)3);(二(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(仲丁基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)2HSi-Cp)(NHsBu)3);(二(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二叔丁基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)2HSi-Cp)(NtBu2)3);(二(三氟甲基)甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(叔丁基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)2HSi-Cp)(NHtBu)3);((三氟甲基)二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二甲基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)Me2Si-Cp)(NMe2)3);((三氟甲基)二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(甲基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)Me2Si-Cp)(NHMe)3);((三氟甲基)二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二乙基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)Me2Si-Cp)(NEt2)3);((三氟甲基)二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(乙基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)Me2Si-Cp)(NHEt)3);((三氟甲基)二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(乙基甲基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)Me2Si-Cp)(NEtMe)3);((三氟甲基)二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二正丙基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)Me2Si-Cp)(NnPr2)3);((三氟甲基)二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(正丙基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)Me2Si-Cp)(NHnPr)3);((三氟甲基)二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二異丙基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)Me2Si-Cp)(NiPr2)3);((三氟甲基)二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(異丙基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)Me2Si-Cp)(NHiPr)3);((三氟甲基)二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二正丁基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)Me2Si-Cp)(NnBu2)3);((三氟甲基)二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(正丁基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)Me2Si-Cp)(NHnBu)3);((三氟甲基)二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二異丁基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)Me2Si-Cp)(NiBu2)3);((三氟甲基)二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(異丁基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)Me2Si-Cp)(NHiBu)3);((三氟甲基)二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二仲丁基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)Me2Si-Cp)(NsBu2)3);((三氟甲基)二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(仲丁基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)Me2Si-Cp)(NHsBu)3);((三氟甲基)二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(二叔丁基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)Me2Si-Cp)(NtBu2)3);以及((三氟甲基)二甲基甲硅烷基)環(huán)戊二烯基三(叔丁基氨基)鋯(IV)(Zr((CF3)Me2Si-Cp)(NHtBu)3)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于喬治洛德方法研究和開發(fā)液化空氣有限公司,未經(jīng)喬治洛德方法研究和開發(fā)液化空氣有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201580073605.6/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
- 鈦/鋯膜形成用涂布劑、鈦/鋯膜形成方法及用鈦/鋯膜涂覆的金屬基材
- 含鋯、銩系列鈣鈦礦混合導(dǎo)體透氫膜及其制備方法和應(yīng)用
- 一種在鎂合金表面制備鋯基有色轉(zhuǎn)化膜的處理液及處理方法
- 一種含鋯膜層的鍍膜玻璃及其制備方法
- 用于形成含鋯膜的前驅(qū)體組合物以及用其形成含鋯膜的方法
- 一種含鈦鋯有機(jī)?無機(jī)雜化保護(hù)膜的制備方法
- 一種含鋯硅烷處理劑及利用該含鋯硅烷處理劑的鈍化方法
- 一種金屬材料表面轉(zhuǎn)化膜中含鋯標(biāo)準(zhǔn)測試板的制備方法及其定量方法
- 一種金屬材料表面轉(zhuǎn)化膜中鋯含量的測試方法
- 一種柔性鈦酸鋯纖維膜及其制備方法





