[發明專利]表面處理劑有效
| 申請號: | 201580073280.1 | 申請日: | 2015-11-26 |
| 公開(公告)號: | CN107109197B | 公開(公告)日: | 2019-04-23 |
| 發明(設計)人: | 三橋尚志;勝川健一 | 申請(專利權)人: | 大金工業株式會社 |
| 主分類號: | C09K3/18 | 分類號: | C09K3/18;C08G65/336;C09D5/00;C09D5/16;C09D171/02;C09D183/12 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322 | 代理人: | 龍淳 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 硅烷化合物 醚基 全氟 表面處理劑 式中 | ||
1.一種表面處理劑,其特征在于:
該表面處理劑包含下述通式(A1)、(A2)、(B1)、(B2)、(C1)和(C2)中任一個所示的至少1種的含全氟(聚)醚基硅烷化合物,
(Rf-PFPE)β’-X5-(SiR1nR23-n)β···(B1)
(R23-nR1nSi)β-X5-PFPE-X5-(SiR1nR23-n)β···(B2)
(Rf-PFPE)γ’-X7-(SiRakRblRcm)γ···(C1)
(RcmRblRakSi)γ-X7-PFPE-X7-(SiRakRblRcm)γ···(C2)
式中:
PFPE在每次出現時分別獨立地為式:
-(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-所示的基團,式中,a、b、c和d分別獨立地為0~200的整數,a、b、c和d的和至少為1,標有下標a、b、c或d并用括號括起來的各重復單元的存在順序在式中是任意的;
Rf在每次出現時分別獨立地表示可以被1個以上的氟原子取代的碳原子數1~16的烷基;
R1在每次出現時分別獨立地表示氫原子或碳原子數1~22的烷基;
R2在每次出現時分別獨立地表示羥基或能夠水解的基團;
R11在每次出現時分別獨立地表示氫原子或鹵原子;
R12在每次出現時分別獨立地表示氫原子或低級烷基;
n在每個(-SiR1nR23-n)單元中獨立地為0~3的整數;
其中,在式(A1)、(A2)、(B1)和(B2)中,存在至少1個R2;
X1分別獨立地表示單鍵或2~10價的有機基團;
X2在每次出現時分別獨立地表示單鍵或2價的有機基團;
t在每次出現時分別獨立地為1~10的整數;
α分別獨立地為1~9的整數;
α’分別獨立地為1~9的整數;
X5分別獨立地表示單鍵或2~10價的有機基團;
β分別獨立地為1~9的整數;
β’分別獨立地為1~9的整數;
X7分別獨立地表示單鍵或2~10價的有機基團;
γ分別獨立地為1~9的整數;
γ’分別獨立地為1~9的整數;
Ra在每次出現時分別獨立地表示-Z-SiR71pR72qR73r;
Z在每次出現時分別獨立地表示氧原子或2價的有機基團;
R71在每次出現時分別獨立地表示Ra’;
Ra’的意義與Ra相同;
Ra中,通過Z基連結成直鏈狀的Si最多為5個;
R72在每次出現時分別獨立地表示羥基或能夠水解的基團;
R73在每次出現時分別獨立地表示氫原子或低級烷基;
p在每次出現時分別獨立地為0~3的整數;
q在每次出現時分別獨立地為0~3的整數;
r在每次出現時分別獨立地為0~3的整數;
其中,在一個Ra中,p、q和r的和為3,在式(C1)和(C2)中,存在至少1個R72;
Rb在每次出現時分別獨立地表示羥基或能夠水解的基團;
Rc在每次出現時分別獨立地表示氫原子或低級烷基;
k在每次出現時分別獨立地為1~3的整數;
l在每次出現時分別獨立地為0~2的整數;
m在每次出現時分別獨立地為0~2的整數;
其中,在標有γ并用括號括起來的單元中,k、l和m的和為3,
在所述通式所示的含全氟(聚)醚基硅烷化合物中,分子量為3000以下的含全氟(聚)醚基硅烷化合物的比率是9mol%以下。
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