[發(fā)明專利]MR成像方法和MR設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580073143.8 | 申請日: | 2015-11-30 |
| 公開(公告)號: | CN107110942B | 公開(公告)日: | 2020-06-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | M·富德勒 | 申請(專利權(quán))人: | 皇家飛利浦有限公司 |
| 主分類號: | G01R33/48 | 分類號: | G01R33/48 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人: | 王英;劉炳勝 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | mr 成像 方法 設(shè)備 | ||
1.一種對被定位在MR設(shè)備(1)的檢查體積中的對象進行MR成像的方法,所述方法包括如下步驟:
-使所述對象(10)經(jīng)受成像序列,包括:
a)在存在磁場梯度的情況下輻射若干RF脈沖(20)的同時,從初始位置(A)到結(jié)束位置(B)在多個中間位置上逐漸地改變磁場梯度向量(GX,GY,GZ);
b)在存在所述磁場梯度的情況下采集若干MR回波信號的同時,再次從所述初始位置(A)到所述結(jié)束位置(B)在所述多個中間位置上逐漸地改變所述磁場梯度向量(GX,GY,GZ);
c)通過針對不同的初始位置、中間位置和/或結(jié)束位置重復(fù)步驟a)和步驟b)若干次來對k空間中的球形體積進行采樣;
-根據(jù)所采集的MR回波信號來重建MR圖像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述磁場梯度向量(GX,GY,GZ)在步驟a)和步驟b)中沿著相同的軌跡改變。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述磁場梯度貫穿對步驟a)和步驟b)的所述重復(fù)始終保持被開啟。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述磁場梯度向量沿著閉合圓形軌跡(40)改變。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述磁場梯度向量沿著閉合網(wǎng)球軌跡(41)改變。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中的任一項所述的方法,其中,所重建的MR圖像是T2*-對比圖像或擴散對比圖像,其取決于由所采集的MR回波信號看到的不同的1階梯度矩。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-5中的任一項所述的方法,其中,步驟a)的開始與步驟b)的開始之間的時間間隔處在10ms與500ms之間的范圍中。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-5中的任一項所述的方法,其中,所述成像序列還包括:在步驟a)之后并且在步驟b)之前,從所述結(jié)束位置(B)返回到所述初始位置(A)逐漸地改變所述磁場梯度向量(GX,GY,GZ),使得在從所述初始位置(A)到所述結(jié)束位置(B)并且返回到所述初始位置(A)的軌跡上的所述磁場梯度的時間積分為零。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-5中的任一項所述的方法,包括如下步驟:
a)朝向零改變磁場向量;
b)施加重聚焦RF脈沖;
c)朝向前述結(jié)束位置改變所述磁場向量;
d)其中,在存在所述磁場梯度的情況下采集所述若干MR回波信號的同時,在所述多個中間位置上以相反的順序從所述結(jié)束位置到所述初始位置逐漸地改變所述磁場梯度向量;
e)通過針對不同的初始位置、中間位置和結(jié)束位置多次重復(fù)步驟a)到步驟e)來對k空間中的球形體積進行采樣;
-根據(jù)所采集的MR回波信號來重建磁共振圖像。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-5中的任一項所述的方法,其中,在存在所述磁場梯度的情況下,在每個RF脈沖輻射(20)之后在步驟i)中采集FID信號,其中,根據(jù)所述FID信號來重建另外的MR圖像。
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