[發(fā)明專利]用于磁共振成像裝置的冷卻系統(tǒng)和方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580071773.1 | 申請日： | 2015-12-17 |
| 公開（公告）號： | CN107430176A | 公開（公告）日： | 2017-12-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 江隆植;Y.利沃夫斯基;S.費爾薩姆 | 申請（專利權(quán)）人： | 通用電氣公司 |
| 主分類號： | G01R33/38 | 分類號： | G01R33/38;G01R33/3815 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 嚴(yán)志軍,安文森 |
| 地址： | 美國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 磁共振 成像 裝置 冷卻系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種用于超導(dǎo)磁體的冷卻系統(tǒng)，包括：
第一冷卻環(huán)路，其具有構(gòu)造成用于循環(huán)穿過其的第一冷卻流體，所述第一冷卻環(huán)路與所述超導(dǎo)磁體熱連通，且構(gòu)造成對所述磁體提供主冷卻；和
第二冷卻環(huán)路，其具有構(gòu)造成用于循環(huán)穿過其的第二冷卻流體，所述第二冷卻環(huán)路與所述超導(dǎo)磁體熱連通，且構(gòu)造成對所述磁體提供副冷卻。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷卻系統(tǒng)，其中：
所述第二冷卻環(huán)路包括構(gòu)造成儲存所述第二冷卻流體的至少一個儲存罐和用于使所述第二冷卻流體循環(huán)的多個副冷卻管。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的冷卻系統(tǒng)，其中：
所述冷卻系統(tǒng)集成在MRI磁體系統(tǒng)中；且
所述副冷卻管熱聯(lián)接于所述MRI磁體系統(tǒng)的支撐所述磁體的線圈的支撐殼、熱屏蔽件或冷頭襯套中的至少一者。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的冷卻系統(tǒng)，其中：
所述第二冷卻環(huán)路包括出口，所述出口與位于所述MRI磁體系統(tǒng)外部的回收罐流體連通。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的冷卻系統(tǒng)，其中：
所述第二冷卻環(huán)路包括與大氣流體連通的出口。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的冷卻系統(tǒng)，其中：
所述至少一個儲存罐是多個儲存罐，所述多個儲存罐流體地聯(lián)接于彼此。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的冷卻系統(tǒng)，其中：
所述第二冷卻環(huán)路包括裝料管線，所述裝料管線構(gòu)造成允許利用所述第二冷卻流體選擇性地填充所述至少一個儲存罐。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的冷卻系統(tǒng)，其中：
所述第二冷卻環(huán)路包括閥，所述閥構(gòu)造成選擇性地允許將所述第二冷卻流體從所述至少一個儲存罐釋放到所述冷卻管中。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的冷卻系統(tǒng)，其中：
所述至少一個儲存罐容納在所述MRI磁體系統(tǒng)的低溫恒溫器內(nèi)側(cè)。
10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的冷卻系統(tǒng)，其中：
所述第二冷卻流體是液體氦。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的冷卻系統(tǒng)，其中：
所述第一冷卻流體是液體氦。
12.一種成像設(shè)備，包括：
至少一個線圈支撐殼；
多個超導(dǎo)磁體線圈，其由所述至少一個線圈支撐殼支撐；
第一冷卻環(huán)路，其具有構(gòu)造成用于循環(huán)穿過其的第一致冷劑，所述第一冷卻環(huán)路與所述磁體線圈熱連通，且構(gòu)造成對所述磁體線圈提供主冷卻；
低溫冷卻機，其與所述第一冷卻環(huán)路流體地聯(lián)接，從而形成封閉循環(huán)冷卻系統(tǒng)；和
第二冷卻環(huán)路，其具有構(gòu)造成用于循環(huán)穿過其的第二冷卻流體，所述第二冷卻環(huán)路與所述磁體線圈熱連通，且構(gòu)造成在所述第一冷卻環(huán)路的停工期期間對所述磁體提供副冷卻。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的成像設(shè)備，其中：
所述第一冷卻環(huán)路的停工期是在冷頭更換操作或功率中斷期間。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的成像設(shè)備，其中：
所述第二冷卻環(huán)路包括構(gòu)造成儲存所述第二冷卻流體的至少一個儲存罐和用于使所述第二冷卻流體循環(huán)的多個副冷卻管。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的成像設(shè)備，其中：
所述成像設(shè)備包括容納所述低溫冷卻機的冷頭襯套和熱屏蔽件；且
其中，所述副冷卻管熱聯(lián)接于所述線圈支撐殼、所述熱屏蔽件或所述冷頭襯套中的至少一者。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的成像設(shè)備，其中：
所述第二冷卻環(huán)路包括出口，所述出口與位于所述成像設(shè)備外部的回收罐流體連通。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的成像設(shè)備，其中：
所述第二冷卻環(huán)路包括與大氣流體連通的出口。
18.根據(jù)權(quán)利要求14所述的成像設(shè)備，其中：
所述至少一個儲存罐是多個儲存罐，所述多個儲存罐流體地聯(lián)接于彼此，以允許所述多個儲存罐之間的壓力平衡。
19.根據(jù)權(quán)利要求14所述的成像設(shè)備，其中：
所述第二冷卻環(huán)路包括裝料管線，所述裝料管線構(gòu)造成允許從所述成像設(shè)備的外部利用所述第二冷卻流體選擇性地填充所述至少一個儲存罐。
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