[發明專利]用于干涉檢測的方法和設備

有效

• 申請號: 201580071145.3
• 申請日: 2015-11-26
• 公開（公告）號: CN107250714B
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發明（設計）人: 馬提亞斯·貝爾;丹妮拉·斯頓夫;安德里亞斯·格布哈特;斯蒂芬·里塞;烏維·D·澤特納
• 申請（專利權）人: 弗勞恩霍弗應用研究促進協會;弗里德里?！は?耶拿大學
• 主分類號: G01B9/02
• 分類號: G01B9/02;G03H1/08;G03H1/22
• 代理公司: 北京柏杉松知識產權代理事務所(普通合伙) 11413
• 代理人: 謝攀;劉繼富

1.一種用于通過使用干涉檢測構件來同時干涉檢測至少兩個光學功能表面(13、14)的形狀和/或方位的方法，所述干涉檢測構件包括：

-干涉儀(9)，

-光束成形光學元件(1)，所述光束成形光學元件設置在所述干涉儀(9)和所述光學功能表面(13，14)之間的光束路徑中，和

-校準標記(15、16、17、18)，所述校準標記位于所述干涉檢測構件中的限定位置處或位于相對于所述光學功能表面(13、14)的限定位置處，

所述方法具有如下步驟：

-通過所述光束成形光學元件(1)產生多個校準波前，其中所述校準波前在所述校準標記(15、16、17、18)處和在所述光學功能表面(13、14)處透射或反射，進而產生測量波前，

-通過評估所述干涉儀(9)中的所述測量波前來測量所述光學功能表面(13、14)相對于彼此和相對于所述校準標記(15、16、17、18)的方位，

-執行用于使所述光學功能表面(13，14)對準期望位置的校準運動，

-通過所述光束成形光學元件(1)產生至少兩個檢測波前，其中所述檢測波前在所述光學功能表面(13、14)處透射或反射，進而產生另外的測量波前，和

-通過評估所述干涉儀(9)中的所述另外的測量波前來確定所述光學功能表面(13、14)與其期望幾何形狀和/或期望位置的形狀偏差和/或方位偏差，

其中所述光束成形光學元件(1)具有用于產生所述檢測波前的至少兩個檢測全息圖(2、3)和用于產生所述校準波前的多個校準全息圖(4、5、6、7)。

2.根據權利要求1所述的方法，其中所述光學功能表面(13、14)至少局部地設計為非球面或自由形狀表面。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其中所述光束成形光學元件(1)包括透射光柵或反射光柵、用于光束偏轉的一個或更多個主動控制元件或折射相位板。

4.根據權利要求1或2所述的方法，其中所述光束成形光學元件(1)是計算機生成的全息圖。

5.根據權利要求1或2所述的方法，其中所述光束成形光學元件(1)具有用于產生標定波前的至少一個標定全息圖(26、27)。

6.根據權利要求1或2所述的方法，其中所述至少兩個光學功能表面(13、14)單片地設置在共同的承載結構上。

7.根據權利要求1或2所述的方法，其中所述至少兩個光學功能表面中的至少一個第一光學功能表面(20)單片地與共同的承載結構連接，并且第二光學功能表面(21)被相對于所述第一光學功能表面(20)來校準并且安裝在所述共同的承載結構上。

8.根據權利要求1或2所述的方法，其中所述至少兩個光學功能表面都不單片地與共同的承載結構連接，并且其中所述光學功能表面被相對于彼此來校準并且安裝在所述共同的承載結構上。

9.根據權利要求6所述的方法，其中所述校準標記(15、16、17、18)設置在所述共同的承載結構上。

10.一種用于借助干涉檢測構件來同時干涉檢測至少兩個光學功能表面(13、14)的形狀和/或方位的設備，其包括：

-干涉儀(9)，

-光束成形光學元件(1)，所述光束成形光學元件設置在所述干涉儀(9)和所述光學功能表面(13、14)之間的光束路徑中，其中所述光束成形光學元件(1)適合于產生多個檢測波前和產生多個校準波前，其中所述光束成形光學元件(1)具有用于產生所述檢測波前的至少兩個檢測全息圖(2、3)和用于產生所述校準波前的多個校準全息圖(4、5)，和

-校準標記(15、16、17、18)，所述校準標記位于所述干涉檢測構件中的限定位置處或位于相對于所述光學功能表面(13、14)的限定位置處。