[發(fā)明專利]光學(xué)體、光學(xué)膜粘合體及光學(xué)體的制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201580070908.2
• 申請日: 2015-11-17
• 公開（公告）號: CN107111002B
• 公開（公告）日: 2020-04-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 梶谷俊一
• 申請（專利權(quán)）人: 迪睿合株式會社
• 主分類號: G02B1/118
• 分類號: G02B1/118;B32B3/30;B32B7/023
• 代理公司: 北京瑞盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11300
• 代理人: 劉昕

1.一種光學(xué)體，其特征在于，具有：

光學(xué)膜，其具備在一側(cè)表面所形成的第一凹凸結(jié)構(gòu)和在另一側(cè)表面所形成的第二凹凸結(jié)構(gòu)；以及

主膜，其覆蓋所述第一凹凸結(jié)構(gòu)，

所述第一凹凸結(jié)構(gòu)的凹凸的平均周期在可見光波長以下，

所述主膜具備：第三凹凸結(jié)構(gòu)，其形成于與所述第一凹凸結(jié)構(gòu)相對的表面，并且，具有所述第一凹凸結(jié)構(gòu)的反轉(zhuǎn)形狀，

所述主膜與所述光學(xué)膜能夠彼此剝離。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)體，其特征在于，

所述第二凹凸結(jié)構(gòu)的縱橫比小于所述第一凹凸結(jié)構(gòu)的縱橫比，

所述第一凹凸結(jié)構(gòu)的縱橫比是構(gòu)成所述第一凹凸結(jié)構(gòu)的凸部高度與構(gòu)成所述第一凹凸結(jié)構(gòu)的凹部底面徑長之比，

所述第二凹凸結(jié)構(gòu)的縱橫比是構(gòu)成所述第二凹凸結(jié)構(gòu)的凸部高度與構(gòu)成所述第二凹凸結(jié)構(gòu)的凹部底面徑長之比。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)體，其特征在于，

所述第二凹凸結(jié)構(gòu)的凹凸密度小于所述第一凹凸結(jié)構(gòu)的凹凸密度。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項所述的光學(xué)體，其特征在于，

所述光學(xué)膜的厚度為1～60μm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項所述的光學(xué)體，其特征在于，

所述第二凹凸結(jié)構(gòu)的凹凸的平均周期在可見光波長以下。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任一項所述的光學(xué)體，其特征在于，

所述主膜具有基材膜和形成在所述基材膜的一側(cè)表面的凹凸樹脂層，

在所述凹凸樹脂層形成有所述第三凹凸結(jié)構(gòu)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1～6中任一項所述的光學(xué)體，其特征在于，

所述主膜具有覆蓋所述第三凹凸結(jié)構(gòu)的無機膜。

8.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任一項所述的光學(xué)體，其特征在于，

所述主膜和所述光學(xué)膜中至少一者添加有脫模劑。

9.根據(jù)權(quán)利要求1～8中任一項所述的光學(xué)體，其特征在于，

所述主膜和所述光學(xué)膜的彈性模量相互不同。

10.根據(jù)權(quán)利要求1～9中任一項所述的光學(xué)體，其特征在于，

所述第一凹凸結(jié)構(gòu)～所述第三凹凸結(jié)構(gòu)中的至少1種以上由已固化的光固化樹脂形成。

11.根據(jù)權(quán)利要求1～10中任一項所述的光學(xué)體，其特征在于，

形成有所述第一凹凸結(jié)構(gòu)的表面對于波長350～800nm的光譜反射率為0.1～1.8％，

形成有所述第三凹凸結(jié)構(gòu)的表面對于波長350～800nm的光譜反射率為0.1～1.5％。

12.根據(jù)權(quán)利要求1～11中任一項所述的光學(xué)體，其特征在于，

所述光學(xué)膜為一體成型。

13.根據(jù)權(quán)利要求1～12中任一項所述的光學(xué)體，其特征在于，

進一步具有覆蓋所述第二凹凸結(jié)構(gòu)的粘接劑層。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的光學(xué)體，其特征在于，

所述粘接劑層的厚度為1～50μm。

15.一種光學(xué)膜粘合體，其具備：

被粘物；以及

經(jīng)由粘接劑層被粘貼于所述被粘物的權(quán)利要求1～14中任一項所述的光學(xué)膜。