[發(fā)明專利]具有二苯并氮雜卓結(jié)構(gòu)的雜環(huán)化合物有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580070833.8 | 申請日: | 2015-11-24 |
| 公開(公告)號: | CN107108623B | 公開(公告)日: | 2020-09-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 埃米爾·侯賽因·帕勒姆;托馬斯·埃伯利;安雅·雅提斯奇;托比亞斯·格羅斯曼;喬納斯·瓦倫丁·克羅巴 | 申請(專利權(quán))人: | 默克專利有限公司 |
| 主分類號: | C07D471/06 | 分類號: | C07D471/06;C07D487/16;C07D513/06;C07D498/06;H01L51/50;H01L51/54 |
| 代理公司: | 中原信達知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11219 | 代理人: | 吳潤芝;郭國清 |
| 地址: | 德國達*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 氮雜卓 結(jié)構(gòu) 雜環(huán)化合物 | ||
1.一種式(II)的化合物,
其中所用的符號如下:
X在每種情況下是相同或不同的并且是CH,或者C作為Ra基團的連接位點;
W是鍵;
Ra和Rb是具有10至40個碳原子的芳族基團或具有6至40個碳原子的雜芳族基團,其中所述芳族和/或雜芳族基團包含至少兩個相鄰的芳族和/或雜芳族環(huán),所述環(huán)中的每個可以是稠合或未稠合的和/或可被一個或多個R1基團取代,并且所述Rb基團是空穴傳輸基團并且所述Ra基團是空穴傳輸基團;
R1在每種情況下是相同或不同的并且是H,D,F(xiàn),Cl,Br,I,B(OR2)2,CHO,C(=O)R2,CR2=C(R2)2,CN,C(=O)OR2,C(=O)N(R2)2,Si(R2)3,N(R2)2,NO2,P(=O)(R2)2,OSO2R2,OR2,S(=O)R2,S(=O)2R2,具有1至40個碳原子的直鏈的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基團,或具有3至40個碳原子的支鏈或環(huán)狀的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基團,所述基團中的每個可被一個或多個R2基團取代,其中一個或多個非相鄰的CH2基團可被-R2C=CR2-、-C≡C-、Si(R2)2、Ge(R2)2、Sn(R2)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR2、-C(=O)O-、-C(=O)NR2-、NR2、P(=O)(R2)、-O-、-S-、SO或SO2代替并且其中一個或多個氫原子可被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2代替,或具有5至40個芳族環(huán)原子并且在每種情況下可被一個或多個R2基團取代的芳族或雜芳族環(huán)系,或具有5至40個芳族環(huán)原子并且可被一個或多個R2基團取代的芳氧基或雜芳氧基基團,或這些體系的組合;同時,兩個或更多個相鄰的R1取代基一起也可形成單環(huán)或多環(huán)的脂族或芳族環(huán)系;
R2在每種情況下是相同或不同的并且是H,D,F(xiàn),Cl,Br,I,B(OR3)2,CHO,C(=O)R3,CR3=C(R3)2,CN,C(=O)OR3,C(=O)N(R3)2,Si(R3)3,N(R3)2,NO2,P(=O)(R3)2,OSO2R3,OR3,S(=O)R3,S(=O)2R3,具有1至40個碳原子的直鏈的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基團,或具有3至40個碳原子的支鏈或環(huán)狀的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基團,所述基團中的每個可被一個或多個R3基團取代,其中一個或多個非相鄰的CH2基團可被-R3C=CR3-、-C≡C-、Si(R3)2、Si(R2)2、Ge(R3)2、Sn(R3)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR3、-C(=O)O-、-C(=O)NR3-、NR3、P(=O)(R3)、-O-、-S-、SO或SO2代替并且其中一個或多個氫原子可被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2代替,或具有5至40個芳族環(huán)原子并且在每種情況下可被一個或多個R3基團取代的芳族或雜芳族環(huán)系,或具有5至40個芳族環(huán)原子并且可被一個或多個R3基團取代的芳氧基或雜芳氧基基團,或這些體系的組合;同時,兩個或更多個相鄰的R2取代基一起也可形成單環(huán)或多環(huán)的脂族或芳族環(huán)系;
R3在每種情況下是相同或不同的并且是H,D,F(xiàn)或具有1至20個碳原子的脂族、芳族和/或雜芳族烴基基團,其中氫原子也可被F代替;同時,兩個或更多個相鄰的R3取代基一起也可形成單環(huán)或多環(huán)的脂族或芳族環(huán)系。
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