[發明專利]光學測量系統在審
| 申請號: | 201580070737.3 | 申請日: | 2015-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN107250740A | 公開(公告)日: | 2017-10-13 |
| 發明(設計)人: | 亞爾科·安蒂拉;尤拉·坎托加維;亞斯·馬科耶恩 | 申請(專利權)人: | 光譜引擎股份公司 |
| 主分類號: | G01J3/26 | 分類號: | G01J3/26;G01J3/02 |
| 代理公司: | 北京聿宏知識產權代理有限公司11372 | 代理人: | 吳大建,陳偉 |
| 地址: | 芬蘭赫*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 測量 系統 | ||
1.一種光學測量系統(1),包括:
-電調諧的珀耳帖元件(11),
-探測器(23),其用于探測來自測量區域(26)中的輻射源(25)的輻射,所述探測器(23)與所述珀耳帖元件(11)熱連接,
-電調諧的法布里-珀羅干涉儀(10),其設置于所述探測器(23)之前的所述輻射的路徑(16)中,所述法布里-珀羅干涉儀(10)與所述珀耳帖元件(11)熱連接,以及
-控制電子電路,其配置成控制所述珀耳帖元件(11)、所述干涉儀(10)和所述探測器(23)。
2.根據權利要求1所述的光學測量系統(1),其中,所述珀耳帖元件(11)構造成控制所述干涉儀(10)的溫度(T2)。
3.根據權利要求1或2所述的光學測量系統(1),其中,所述珀耳帖元件(11)構造成控制所述干涉儀(10)的溫度(T2),使得所述溫度(T2)基本上保持恒定。
4.根據權利要求1至3中任意一項所述的光學測量系統(1),其中,所述珀耳帖元件(11)構造成控制所述探測器(23)的溫度。
5.根據權利要求1至4中任意一項所述的光學測量系統(1),其中,將所述珀耳帖元件(11)、所述探測器(23)和所述干涉儀(10)布置在位于殼體(2)中的腔體(12)內或布置在位于封裝結構(36)中的腔體(38)內。
6.根據權利要求5所述的光學測量系統(1),其中,所述珀耳帖元件(11)構造成控制所述腔體(12、38)內的溫度。
7.根據權利要求5或6所述的光學測量系統(1),其中,所述珀耳帖元件(11)構造成控制所述腔體(12、38)內的溫度,使得所述溫度基本上保持恒定。
8.根據權利要求5至7中任意一項所述的光學測量系統(1),其中,所述珀耳帖元件(11)附接到框架(3)上,所述框架(3)能移除地連接到所述殼體(2)上。
9.根據權利要求5至8中任意一項所述的光學測量系統(1),其中,所述殼體(2)包括散熱片(19)。
10.根據權利要求1至9中任意一項所述的光學測量系統(1),其中,所述系統(1)包括至少一個電路板(17、35)。
11.根據權利要求1至10中任意一項所述的光學測量系統(1),其中,所述系統(1)包括一個或多于一個的熱敏電阻。
12.根據權利要求1至11中任意一項所述的光學測量系統(1),其中,所述系統(1)包括濾波器(33),所述濾波器(33)構造成使得波長(λ)的帶寬能夠通過所述濾波器(33)。
13.根據權利要求12所述的光學測量系統(1),其中,波長(λ)的所述帶寬是所述法布里-珀羅干涉儀(10)的波長(λ)的主帶寬。
14.根據權利要求12或13所述的光學測量系統(1),其中,波長(λ)的所述帶寬在λ=1[μm]和λ=2[μm]之間、λ=1[μm]和λ=5[μm]之間或λ=1[μm]和λ=10[μm]之間的的波長范圍內。
15.根據權利要求8所述的光學測量系統(1),其中,所述框架(3)和所述殼體(2)分別包括形狀配合的楔形部分(37、40)。
16.一種用于分析對象的光譜的方法,所述方法包括:
-將電調諧的法布里-珀羅干涉儀放置在由測量區域中的輻射源發射的輻射路徑中,
-通過探測器對所述輻射進行探測,
-對與所述探測器和/或干涉儀熱連接的電調諧的珀耳帖元件進行控制。
17.根據權利要求16所述的用于分析對象的光譜的方法,其中,環境溫度的變化對所述干涉儀的機械尺寸的影響由所述珀耳帖元件來補償。
18.根據權利要求16所述的用于分析對象的光譜的方法,其中,所述珀耳帖元件控制成使得所述探測器和/或所述干涉儀的溫度基本上保持恒定。
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