[發(fā)明專利]結(jié)合劑和水溶液有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580070592.7 | 申請日: | 2015-12-16 |
| 公開(公告)號: | CN107109017B | 公開(公告)日: | 2018-12-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 清水郁雄;山本隆史 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社日本觸媒 |
| 主分類號: | C08L33/02 | 分類號: | C08L33/02;C08K3/28;C08K3/30;C08K3/32 |
| 代理公司: | 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 聚合物 羧酸 揮發(fā)性 結(jié)合劑 玻璃纖維 粉末玻璃 中和 保存穩(wěn)定性 結(jié)合力 結(jié)合體 無機(jī)酸 銨鹽 羥基 賦予 表現(xiàn) | ||
1.一種結(jié)合劑,其為包含帶羥基的聚合物和無機(jī)酸的銨鹽的結(jié)合劑,
該聚合物包含源自通式(1)所示單體的結(jié)構(gòu)單元和源自帶羧酸(鹽)基的單體的結(jié)構(gòu)單元,
相對于該聚合物中包含的羧酸(鹽)基100摩爾%,包含0.1摩爾%以上且20摩爾%以下的該無機(jī)酸的銨鹽,
該源自通式(1)所示單體的結(jié)構(gòu)單元的含量相對于源自全部單體的結(jié)構(gòu)單元100摩爾%為5摩爾%~40摩爾%,
該源自帶羧酸(鹽)基的單體的結(jié)構(gòu)單元的含量相對于源自全部單體的結(jié)構(gòu)單元100摩爾%為60摩爾%~95摩爾%,
該聚合物中包含的羧酸(鹽)基的2摩爾%以上被揮發(fā)性的堿和/或不揮發(fā)性的堿所中和,
該聚合物中包含的羧酸(鹽)基的0摩爾%~35摩爾%被不揮發(fā)性的堿所中和,
該聚合物中包含的羧酸(鹽)基的0摩爾%~100摩爾%被揮發(fā)性的堿所中和,
上述通式(1)中,R1表示氫原子或甲基,R2表示碳數(shù)2~20的取代或未取代的亞烷基、取代或未取代的亞芳基、取代或未取代的醚基;
所述揮發(fā)性的堿是指:1個大氣壓下的沸點低于100℃的堿,所述不揮發(fā)性的堿是指:1個大氣壓下的沸點為100℃以上的堿。
2.一種水溶液,其為包含帶羥基的聚合物和無機(jī)酸的銨鹽的水溶液,
該聚合物包含源自通式(1)所示單體的結(jié)構(gòu)單元和源自帶羧酸(鹽)基的單體的結(jié)構(gòu)單元,
相對于該聚合物中包含的羧酸(鹽)基100摩爾%,包含0.1摩爾%以上且20摩爾%以下的該無機(jī)酸的銨鹽,
該源自通式(1)所示單體的結(jié)構(gòu)單元的含量相對于源自全部單體的結(jié)構(gòu)單元100摩爾%為5摩爾%~40摩爾%,
該源自帶羧酸(鹽)基的單體的結(jié)構(gòu)單元的含量相對于源自全部單體的結(jié)構(gòu)單元100摩爾%為60摩爾%~95摩爾%,
該聚合物中包含的羧酸(鹽)基的2摩爾%以上被揮發(fā)性的堿和/或不揮發(fā)性的堿所中和,
該聚合物中包含的羧酸(鹽)基的0摩爾%~35摩爾%被不揮發(fā)性的堿所中和,
該聚合物中包含的羧酸(鹽)基的0摩爾%~100摩爾%被揮發(fā)性的堿所中和,
該水溶液包含20質(zhì)量%以上且99.9質(zhì)量%以下的水,
上述通式(1)中,R1表示氫原子或甲基,R2表示碳數(shù)2~20的取代或未取代的亞烷基、取代或未取代的亞芳基、取代或未取代的醚基;
所述揮發(fā)性的堿是指:1個大氣壓下的沸點低于100℃的堿,所述不揮發(fā)性的堿是指:1個大氣壓下的沸點為100℃以上的堿。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于株式會社日本觸媒,未經(jīng)株式會社日本觸媒許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201580070592.7/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:表面包覆切削工具
- 下一篇:使用液態(tài)金屬的還原裝置
- 同類專利
- 專利分類





